专利名称：平面研磨机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种金属表面处理的机械，特别是一种平面研磨机。
背景技术：
平面研磨是指对金属或其它材料表面进行平整度处理，以达到对
零件表面粗糙度，尺寸精度等的使用要求；目前使用的平面研磨机 械其主要结构包括一个机架，在机架上设置有工件台，工件台用来 固定待加工的材料，工件台上方是由电机带动的砂带，在工作时由 电机带动砂带高速旋转，对工件台上的工件进行研磨加工；现有技 术其不足之处是在研磨加工时在砂带与工件之间会产生大量无法 及时排走的颗粒，颗粒被重新带入加工面，从而导致加工表面会再 次被损伤或刮花，影响加工的质量，以及耗费了更多的时间在反复 研磨加工中。 发明内容
为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种能及时消除加工 微粒的平面研磨机。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是-一种平面研磨机，其包括机架，机架上方横向设置两立柱，在一 侧立柱上设置有由电机带动的主动轮，另一侧立柱上设置有从动轮， 所述主动轮与从动轮套在砂带内，所述立柱之间的机架上设置有升降
台，其特征在于所述升降台内设置有可由电机带动的转轴，在转轴 上端固接偏心轴，偏心轴上方与偏心轴块活动接触，所述升降台上设 置有拖板座，在拖板座有纵向设置的导轨，所述导轨上活动接触下拖 板，下拖板中间开有通槽，所述通槽与偏心块活动接触，所述下拖板 的上方通过直线导轨连接有用于安装工作台的上拖板。
本实用新型的有益效果是本设计在机座上设置有带偏心块的转 轴，其可以带动工作台在纵向来回运动，而砂带是横向运动的，因此 工作台在作纵向运动时其工件有部分会偏离砂带，此时，在研磨时产 生的颗粒就能及时排走，然后又通过偏心块的带动回到砂带下进行研 磨，保证了工件的光整度，提高了工作效率。以下结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图； 图2是本实用新型的机座局部剖面图； 图3是
图1的A—A向示意图。
具体实施方式
参照
图1至图3， 一种平面研磨机，其包括机架l，在机架上方横 向安装有两立柱ll， 一边立柱有由电机带动的主动轮12，另一立柱上 设置有从动轮13，主动轮12与从动轮13套在砂带14内，在电机带 动下砂带高速旋转，在立柱之间的机架上安装有升降台2，升降台2 内有转轴31，转轴31可由电机带动，在转轴31上端固定有偏心轴32， 偏心轴32上方通过轴承34与偏心轴块33活动接触，在升降台2上方
设置有拖板座41，在拖板座上有纵向设置的导轨42,所述导轨42上 活动接触下拖板43，下拖板43可沿导轨的方向移动，在下拖板43的 上方通过直线导轨45连接有用于安装工作台46的上拖板47，在下拖 板中间开有长形通槽44，通槽44的长边为横向设置，在通槽44内套 有偏心轴块33，偏心轴块33可以沿通槽44的长边来回移动。
本设计中，其升降台2包括安装于机架中间通孔内的轴套21，轴 套21内设有升降主轴22，升降主轴22的上端连接拖板座4，在升降 主轴22上部的外牙上套有主轴螺母23，主轴螺母23的外螺纹与升降 手轮24端部的螺纹相啮合，所述升降主轴22内包含转轴31，当旋转 升降手轮时，通过手轮端部与主轴螺母23的啮合。可驱动主轴螺母 23在原位置转动，而主轴螺母23旋转时可通过其内螺纹来推动升降 主轴作垂直升降，从而达到调节工件在垂直方向的高度。
本设计其技术特点是这样的当转轴31在电机带动下旋转时，通 过其上端的偏心轴32带动偏心轴块33运动，由于偏心轴块33被套在 通槽44内，并且只能沿其长边移动，因此当偏心轴32往纵向旋转时， 其偏心轴块33就推动下拖板42、上拖板47以及工作台46沿导轨42 移动，同时使得工作台46上的工件有部分加工面会偏离砂带，或者使 偏离后的工件重新投入研磨，此运动过程中，工件表面同时受到横向 研磨及纵向移动，通过两种不同的作用力，使工件表面中因研磨时产 生的颗粒能及时排走。
权利要求1.一种平面研磨机，其包括机架(1)，机架上方横向设置两立柱(11)，在一侧立柱上设置有由电机带动的主动轮(12)，另一侧立柱上设置有从动轮(13)，所述主动轮与从动轮套在砂带(14)内，所述立柱之间的机架上设置有升降台(2)，其特征在于所述升降台(2)内设置有可由电机带动的转轴(31)，在转轴(31)上端固接偏心轴(32)，偏心轴(32)上方与偏心轴块(33)活动接触，所述升降台(2)上设置有拖板座(41)，在拖板座有纵向设置的导轨(42)，所述导轨(42)上活动接触下拖板(43)，下拖板中间开有通槽(44)，所述通槽(44)与偏心块(33)活动接触，所述下拖板(43)的上方通过直线导轨(45)连接有用于安装工作台(46)的上拖板(47)。
2. 根据权利要求1所述的一种平面研磨机，其特征在于所述下拖 板上开有一长形通槽(44)，所述通槽的长边为横向设置。
3. 根据权利要求1所述的一种平面研磨机，其特征在于所述升降 台(2)包括固接于机架通孔内的轴套(21)，轴套(21)内包含有 升降主轴(22)，升降主轴(22)的上端与拖板座(41)接触，所 述升降主轴(22)上部套有主轴螺母(23),主轴螺母(23)的外 螺纹与升降手轮(24)端部的螺纹相啮合，所述升降主轴(22) 内包含转轴(31)。
4. 根据权利要求1所述的一种平面研磨机，其特征在于所述偏心 轴(32)上方通过轴承(34)与偏心轴块(33)活动接触。
专利摘要本实用新型涉及一种平面研磨机，其包括机架，机架上方两立柱上横向设置有主动轮和从动轮，机架中间有升降工作台，工作台上设置有下拖板，下拖板上安装有工作台，其特征是升降台内设置有可由电机带动的转轴，转轴上端有偏心轴，偏心轴上方连接偏心轴块，其偏心轴块可通过一通长形槽推动工作台纵向运动，使工件表面中因研磨时产生的颗粒能及时排走，本技术提高了产品的质量，提高了工作效率。
文档编号B24B21/04GK201067859SQ200720053680
公开日2008年6月4日 申请日期2007年6月29日 优先权日2007年6月29日
发明者林世忠, 林彩辉 申请人:林小艺