专利名称：电极抛光清洗器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种电子器件抛光清洗器，特别涉及一种电极抛光清洗器。
背景技术：
在电化学应用领域，无论是电化学工作站、还是各种金属元素分析仪， 在测试过程中，都涉及到对测试电极的抛光、清洗工作。为了保证测试精度， 每次测试前都要重复这些工作，因此工作量很大，技术要求高。目前通常的 做法是人们用手拿住电极在砂纸、或抛光布上摩擦，这样做既费力又不能保 证抛光、清洗的效果，有时甚至需要多次重复操作后才能达到测试要求，还 可能出现电极报废的情况，造成较大的经济损失。
因此，不断开发适应市场需要的结构简单、性能可靠的电极抛光清洗器， 已成为该领域科研人员急需研究开发的新课题之一。
实用新型内容
本实用新型的目的是克服上述技术的不足，提供一种结构简单、性能可 靠，抛光、清洗性能优良的电极抛光清洗器。
为实现上述目的本实用新型所采用的技术方案是 一种电极抛光清洗器， 其特征在于包括固定架台、储液器、旋转盘支架、抛光材料衬、旋转盘、电 极架、电机及蠕动泵；所述固定架台上设有旋转盘支架，旋转盘支架上部同 轴设有旋转盘，设有电机连接驱动旋转盘旋转；所述电极架对应旋转盘设置 于固定架台上，定位电极的电极架中心部位同轴对应置于旋转盘上方；所述 旋转盘呈内凹形，旋转盘内底部平行设有抛光材料衬；对应旋转盘下方的固 定架台上设置连接蠕动泵的储液器，采用导管一端连接蠕动泵，另一端置于 旋转盘的上方，旋转盘中心处设有渗漏孔；所述储液器内设有抛光剂。
本实用新型的有益效果是能够自动完成对电极抛光、清洗工作，并保 证电极表面平整、光洁，确保实验数据的准确。其结构简单，设计合理，性 能可靠，抛光、清洗效果非常显著，且抛光剂的循环利用，高效低耗，降低 成本。
图1是本实用新型结构示意图。
图中1固定架台，2储液器，3旋转盘支架，4抛光材料衬，5旋转盘， 6电极架，7电极，8电机，9蠕动泵。
具体实施方式
以下结合附图和较佳实施例，对依据本实用新型提供的具体实施方式
、 结构、特征详述如下
如图l所示， 一种电极抛光清洗器，其特征在于包括固定架台1、储液器 2、旋转盘支架3、抛光材料衬4、旋转盘5、 电极架6、电机8及蠕动泵9; 所述固定架台1可采用铁或其它金属材料，也可采用尼龙、聚四氟乙烯等非 金属材料制成，其上设有旋转盘支架3,旋转盘支架3上部同轴设有旋转盘5, 设有电机8连接驱动旋转盘5旋转；所述电极架6对应旋转盘5设置于固定 架台1上，定位电极7的电极架6中心部位同轴对应置于旋转盘5上方；所 述旋转盘5呈内凹形，旋转盘5内底部平行设有抛光材料衬4;对应旋转盘5 下方的固定架台1上设置连接蠕动泵9的储液器2，采用导管一端连接蠕动泵 9,另一端置于旋转盘5的上方，旋转盘5中心处设有渗漏孔；所述储液器2 内设有由水和纳米级氧化铝或氧化铈组成的抛光剂。
所述抛光材料衬4为海绵、绒布、鹿皮之中的一种或一种以上材料的复 合体。
应用时，将需要抛光、清洗的电极7定位于电极架6中心位置，蠕动泵9 通过导管把储液器2中的抛光剂提升到旋转盘5的上方注入旋转盘5中，旋 转盘的中心处设有渗漏孔，多余的抛光剂通过该渗漏孔流入储液器2中，因 此完成抛光剂的自动循环。通过旋转盘5旋转，其上沾有抛光剂的抛光材料 衬4一同作用于电极7，有效保证抛光、清洗后的电极7表面平整、光洁。
上述参照实施例对该电极抛光清洗器进行的详细描述，是说明性的而不 是限定性的，可根据需要制成各种规格，因此在不脱离本实用新型总体构思 下的变化和修改，应属本实用新型的保护范围之内。
权利要求1、一种电极抛光清洗器，其特征在于包括固定架台、储液器、旋转盘支架、抛光材料衬、旋转盘、电极架、电机及蠕动泵；所述固定架台上设有旋转盘支架，旋转盘支架上部同轴设有旋转盘，设有电机连接驱动旋转盘旋转；所述电极架对应旋转盘设置于固定架台上，定位电极的电极架中心部位同轴对应置于旋转盘上方；所述旋转盘呈内凹形，旋转盘内底部平行设有抛光材料衬；对应旋转盘下方的固定架台上设置连接蠕动泵的储液器，采用导管一端连接蠕动泵，另一端置于旋转盘的上方，旋转盘中心处设有渗漏孔；所述储液器内设有抛光剂。
专利摘要本实用新型涉及一种电极抛光清洗器，包括固定架台、储液器、旋转盘支架、抛光材料衬、旋转盘、电极架、电机及蠕动泵；所述固定架台上设有旋转盘支架，旋转盘支架上部同轴设有旋转盘，设有电机连接驱动旋转盘旋转；所述电极架对应旋转盘设置于固定架台上，定位电极的电极架中心部位同轴对应置于旋转盘上方；所述旋转盘呈内凹形，旋转盘内底部平行设有抛光材料衬；对应旋转盘下方的固定架台上设置连接蠕动泵的储液器，采用导管一端连接蠕动泵，另一端置于旋转盘的上方，旋转盘中心处设有渗漏孔；所述储液器内设有抛光剂。本实用新型能够自动完成对电极抛光清洗工作，并保证电极表面平整、光洁，确保实验数据的准确，其结构简单、性能可靠。
文档编号B24B29/00GK201320718SQ20082007538
公开日2009年10月7日 申请日期2008年7月18日 优先权日2008年7月18日
发明者孙志杰 申请人:天津市技术物理研究所