活动旋转研磨头的定位结构的制作方法

文档序号:3266389阅读:281来源:国知局
专利名称:活动旋转研磨头的定位结构的制作方法
技术领域
本实用新型涉及磨床的研磨头,特别是涉及一种活动旋转研磨头的定位构造。
背景技术
现有磨床进行长形规格工件研磨加工作业时,通常藉由单一加工主轴的研磨头对待研磨工件的其中一侧面先进行第一次研磨,随后再将该待研模工件换向进行第二侧面的研磨作业,然而,由于该研磨头设于该加工主轴上,且该加工主轴组设于磨床的滑座后仅能进行前后及左右两轴向的位移,因此,该研磨头所能研磨的角度则受限,无法因应表面较为复杂的待研磨工件。为此,本案创作人研发出一种研磨头可活动旋转的磨床来解决上述缺陷,其主要 透过一旋转座可旋转调整地枢设于该滑座上,供该研磨头设置的加工主轴再设于该旋转座上,藉由该旋转座依需求而旋转调整,以改变该研磨头的研磨角度,然而,该旋转座在旋转调整后,如何与该滑座相互定位即是本案创作的动机。

实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是提供一种活动旋转研磨头的定位构造,其主要透过液压设计,使供研磨头设置的旋转座得以立即与磨床的滑座相互定位。为解决上述技术问题,依据本实用新型所提供的一种活动旋转研磨头的定位结构,包含一滑座,具有一枢槽;一固定环,固设于所述滑座,并具有一贴靠所述枢槽槽壁面的环凸缘;一旋转座,可转动或不转动地设于所述固定环,并具有一穿置所述固定环的枢转部;一转轮,锁设于所述旋转座的枢转部,并具有一环凸部,所述环凸部与环凸缘及所述枢槽槽壁面围设有一液压空间,且所述液压空间具有一接设液压源的流道;一设有研磨头的加工主轴,设于所述旋转座上。较佳地,所述固定环的环凸缘具有一面向所述枢槽槽底面的环端面,所述转轮的环凸部具有一贴靠所述环凸缘环端面的环抵面、一贴靠所述枢槽槽壁面的环侧面、及一环缺口,所述环缺口具有一面向所述环凸缘环端面的第一环面及一面向所述枢槽槽壁面的第二环面,且所述第一、二环面与所述环凸缘环端面及所述枢槽槽壁面围设出所述液压空间。较佳地,所述流道设于所述滑座上。较佳地,所述旋转座的枢转部与所述固定环的环凸缘之间设有一第一密封环,所述旋转座的枢转部与所述转轮的环凸部之间设有一第二密封环,所述固定环的环凸缘与所述滑座枢槽的槽壁面之间设有一第三密封环,所述转轮的环凸部与所述滑座枢槽的槽壁面之间设有一第四密封环。本实用新型要解决活动旋转研磨头的定位构造透过液压设计,使供研磨头设置的旋转座得以立即与磨床的滑座相互定位。

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以下结合附图与具体实施方式
对本发明作进一步详细的说明图I是本实用新型的正视图。图2是本实用新型的局部剖面侧视图。图3是图2的局部放大图。图4是本实用新型的局部剖面上视图。图5是图4的局部放大图。图6是本实用新型的正视图,显示旋转座旋转一角度的状态。附图标记说明10是滑座11是枢槽111是槽壁面112是槽底面12是流道20是固定环21是环凸缘211是环端面30是旋转座31是枢转部40是转轮41是螺丝42是环凸部421是环抵面422是环侧面43是环缺口43是环缺口431是第一环面432是第二环面51是研磨头52是加工主轴60是液压源71是第一密封环 72是第二密封环73是第三密封环 74是第四密封环A是液压空间
具体实施方式
首先如图I至图5所述,本实用新型实施例所提供的一种活动旋转研磨头的定位结构,其主要由一滑座10、一固定环20、一旋转座30、一转轮40、及一设有研磨头51的加工主轴52所组成,其中滑座10,具有一枢槽11及一流道12,枢槽11具有一槽壁面111及一槽底面112,流道12由滑座10表面贯通至槽壁面111,并接设于一液压源60。固定环20,固设于滑座10,并具有一贴靠枢槽11槽壁面111的环凸缘21,且环凸缘21具有一面向枢槽11槽底面112的环端面211。旋转座30,可转动或不转动地设于固定环20,并具有一穿置固定环20的枢转部31。转轮40,藉由螺丝41锁固于旋转座30的枢转部31而位于枢槽11内,转轮40并具有一环凸部42,环凸部42具有一贴靠环凸缘21环端面211的环抵面421、一贴靠枢槽11槽壁面111的环侧面422、及一环缺口 43,环缺口 43具有一面向环凸缘21环端面211的第一环面431及一面向枢槽11槽壁面111的第二环面432,且第一、二环面431、432与环凸缘21环端面211及枢槽11槽壁面111围设有一液压空间A,且液压空间A与流道12相通。设有研磨头51的加工主轴52,设于旋转座30上,随着旋转座30旋动而改变研磨头50研磨的角度。另外,本实施例中,旋转座30的枢转部31与固定环20的环凸缘21之间设有一第一密封环71,旋转座30的枢转部31与转轮40的环凸部42之间设有一第二密封环72,固定环20的环凸缘21与滑座10枢槽11的槽壁面111之间设有一第三密封环73,转轮40的环凸部42与滑座10枢槽11的槽壁面111之间设有一第四密封环74。以上所述即为本实用新型实施例各主要构件的结构及其组态说明。至于本实用新型实施例的作动方式及其功效,作以下说明。由于转轮40的环凸部42与固定环20的环凸缘21及滑座10枢槽11的槽壁面111围设有一液压空间A,因此,当旋转座30带动设有研磨头51的加工主轴52由第一角度(如图I所示)旋转置第二角度(如图6所示)后,可控制液压源60施予一液压至液压空 间A,此时,由于固定环20锁固于滑座10上而固定无法移动,因此液压会迫使转轮40朝滑座10的枢槽11槽底面112方向位移,又旋转座30设于固定环20上并与转轮40相互锁固为一体,因此,旋转座30同样会朝滑座10的枢槽11槽底面111方向位移,进而稳固的压抵于固定环20上,使旋转座30旋转后获致定位,此时,设于旋转座30的研磨头51角度也相对固定,是以,本实用新型藉由液压设计,使供研磨头51设置的旋转座30旋转后得以立即与磨床的滑座10相互定位。值得说明的是,由于本实用新型于旋转座30的枢转部31与固定环20的环凸缘21之间设有一第一密封环71,旋转座30的枢转部31与转轮40的环凸部42之间设有一第二密封环72,固定环20的环凸缘21与滑座10枢槽11的槽壁面111之间设有一第三密封环73,转轮40的环凸部42与滑座10枢槽11的槽壁面111之间设有一第四密封环74,因此,当控制液压源60施予一液压至液压空间A后,迫使转轮40朝滑座10的枢槽11槽底面111方向位移时,转轮40环凸部42的环抵面421会与固定环20环凸缘21的环端面211相互分离而产生一与液压空间A相通的微小缝隙,此时,可藉由第一、二、三、四密封环71、72、73、74设计,可避免液体渗出,造成液压快速的损失。以上通过具体实施方式
和实施例对本实用新型进行了详细的说明,但这些并非构成对本实用新型的限制。在不脱离本发明原理的情况下,本领域的技术人员还可做出许多变形和改进,这些也应视为本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种活动旋转研磨头的定位结构,其特征是,包含 一滑座,具有一枢槽; 一固定环,固设于所述滑座,并具有一贴靠所述枢槽槽壁面的环凸缘; 一旋转座,可转动或不转动地设于所述固定环,并具有一穿置所述固定环的枢转部; 一转轮,锁设于所述旋转座的枢转部,并具有一环凸部,所述环凸部与环凸缘及所述枢槽槽壁面围设有一液压空间,且所述液压空间具有一接设液压源的流道; 一设有研磨头的加工主轴,设于所述旋转座上。
2.依据权利要求I所述活动旋转研磨头的定位结构,其特征是所述固定环的环凸缘具有一面向所述枢槽槽底面的环端面,所述转轮的环凸部具有一贴靠所述环凸缘环端面的环抵面、一贴靠所述枢槽槽壁面的环侧面、及一环缺口,所述环缺口具有一面向所述环凸缘环端面的第一环面及一面向所述枢槽槽壁面的第二环面,且所述第一、二环面与所述环凸缘环端面及所述枢槽槽壁面围设出所述液压空间。
3.依据权利要求I或2所述活动旋转研磨头的定位结构,其特征是所述流道设于所述滑座上。
4.依据权利要求I所述活动旋转研磨头的定位结构,其特征是所述旋转座的枢转部与所述固定环的环凸缘之间设有一第一密封环,所述旋转座的枢转部与所述转轮的环凸部之间设有一第二密封环,所述固定环的环凸缘与所述滑座枢槽的槽壁面之间设有一第三密封环,所述转轮的环凸部与所述滑座枢槽的槽壁面之间设有一第四密封环。
专利摘要本实用新型公开了一种活动旋转研磨头的定位结构,其主要针对供研磨头设置的旋转座在旋转调整后,如何与磨床的滑座相互定位所进行的创作,本实用新型主要由滑座、固定环、旋转座、转轮、及一设有研磨头的加工主轴所组成,藉由所述转轮的环凸部与所述固定环的环凸缘及所述滑座枢槽的槽壁面围设有一液压空间,当所述旋转座带动所述设有研磨头的加工主轴旋转后,施予一液压至所述液压空间,并藉由所述滑座、固定环、旋转座、及转轮彼此间的组态,使得所述旋转座得以立即与所述滑座相互定位。
文档编号B24B37/34GK202592205SQ201220088518
公开日2012年12月12日 申请日期2012年3月9日 优先权日2012年3月9日
发明者林淑芬 申请人:林淑芬
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