屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺，使用研磨板、支撑板进行石墨推力瓦块柱面研磨，检查研磨板平面度；使用开槽研磨盘研磨研磨板平面；在研磨板左右支腿与支撑板之间放置不锈钢垫片并紧固螺栓使研磨板产生弹性变形形成一定弧度；石墨推力瓦块在研磨板上进行研磨，通过检测石墨推力瓦块柱面核实研磨板弧度是否合适；调节不锈钢垫片厚度并再次研磨直到得到一个可接受的石墨推力瓦块柱面。本发明可以实现石墨推力瓦块大尺寸柱面研磨，柱面各测量点相对高度公差控制在±0.005mm以内，通过此石墨推力瓦块柱面，电机正反转都可形成一层润滑水膜，从而大大提高机组安全性能及屏蔽电机使用寿命。
【专利说明】屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺
[0001]【技术领域】:本发明涉及一种屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺。
[0002]【背景技术】:随着核电技术的发展和应用，核电厂安全性不断改进和提高，大型屏蔽电机泵将得到广泛使用。为提高机组安全性能，这种屏蔽电机泵要求电机可以实现正反转，现有的屏蔽电机推力轴承采用平面偏心支撑结构，其瓦面为平面，在一侧加工倒角作为进水口，此类楔形滑块出水口水膜较薄压力较大，所以支撑部位会偏向出水口，这种支撑形式决定其只能单一转向，不能实现正反转，并且现有的屏蔽电机一般为小型屏蔽电机，瓦块较小，由于瓦块为石墨材质，其膨胀系数低于金属材质的瓦基，瓦基背面一般会开有支撑凹槽或沉孔，所以支撑部位金属材料较薄，非支撑部位金属材料较厚，在电机运行情况下，瓦基不同厚度部位会因材料厚度不同而产生不同程度的膨胀致使支撑瓦块的瓦基平面不平，平面瓦无法补偿瓦基因膨胀引起的变形，但因其瓦块较小可以忽略不计，但是现在在核电厂得到应用的大型屏蔽电机泵无法忽略此项细节，由于推力瓦较大，所以如果不考虑补偿的话，则有可能造成载荷分布不均，影响机组安全性能，以上所述现有小型屏蔽电机石墨推力瓦各项不足在此推力石墨瓦块大尺寸柱面结构中都可以得到弥补，由于瓦面为柱面，进水口与出水口水膜压力一致，可以采用中心支撑，这样电机的正反转就可以实现，在中心支撑两侧较厚的瓦基金属因膨胀引起的变形也可以通过柱面得到抵消，为实现制造这一优化的石墨推力瓦块，需要采用新的大尺寸柱面研磨工艺。
[0003]
【发明内容】
:本发明的目的是提供一种屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺，解决推力石墨瓦块大尺寸柱面研磨工艺问题，推力石墨瓦块在柱面研磨后可以保证柱面各测量点相对高度公差控制在0.005mm以内且柱面无凹点，从而保证了屏蔽电机正反转都可形成润滑水膜，大大提高了机组安全性能且保证了屏蔽电机的使用寿命。本发明的技术方案为:
[0004]1、一种屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺，其特征是:使用石墨推力瓦块(6)在研磨板(1)进行研磨，所述方法包括以下步骤:
[0005]a)检查研磨板⑴平面度，使用紧固螺栓(3)将研磨板⑴与支撑板(2)紧固，测量研磨板(1)平面度；
[0006]b)如果操作步骤a)检测的研磨板⑴平面度较差，使用开槽研磨盘(4)配合研磨剂与研磨板(1)互研修复研磨板(1)平面度；
[0007]c)在研磨板(1)的左、右两侧支腿与支撑板(2)之间放置等厚不锈钢垫片(5)并紧固螺栓(3)，使研磨板(1)平面产生弹性变形形成一定弧度，不锈钢垫片厚度(5)将会在后续验证工作后进行调整；
[0008]d)使用石墨推力瓦块(6)在研磨板(1)上进行研磨，通过检测石墨推力瓦块(6)柱面核实研磨板(1)弧度是否合适；
[0009]e)通过调节步骤c)操作中不锈钢垫片(5)厚度及重复步骤d)操作直到得到一个符合要求的石墨推力瓦块(6)柱面，石墨推力瓦块(6)柱面检测要求如下:石墨推力瓦块
(6)柱面分9个测量点，上部测量点A、D、A1，三点位于同一节圆上，A、A1点距两侧边等距，D点位于石墨推力瓦块(6)中心线上；中部测量点B、E、B1，三点位于同一节圆上，B、B1点距两侧边等距且距离与上部测量点A、A1点到侧边距离一致，E点为石墨推力瓦块(6)中心点；下部测量点C、D1、C1，三点位于同一节圆上，C、C1点距两侧边等距且距离与上部测量点A、A1点到侧边距离一致，D1点位于石墨推力瓦块(6)中心线上；测量时首先以D、D1、B、B1调平石墨推力瓦块(6)，然后通过激光扫描测量各点距零点E的相对高度，此相对高度应与石墨推力瓦块(6) R500m柱面各点的理论计算值一致，偏差允许在±0.005mm以内，且经过激光扫描石墨推力瓦块(6)柱面横截面弧度应顺滑无明显凹点，石墨推力瓦块(6)柱面纵向截面应平直无明显凸凹点，如果达到以上测量要求则此块经过研磨的石墨推力瓦块(6)符合要求。
[0010]屏蔽电机石墨推力瓦块承载轴向推力，如果柱面研磨质量不高则会导致转子轴向载荷分布不均致使电机不稳定，这样无法保证机组安全性，采用现有平面石墨瓦块研磨工艺无法实现石墨推力瓦块大尺寸柱面研磨，本发明所述的一种屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺，通过调整支撑垫片厚度使研磨板产生不同程度的弹性变形，使得在研磨板上研磨后的石墨瓦块柱面尺寸得到了有效保证，保证其各测量点相对高度与理论值相对高度偏差控制在±0.005mm以内且无凹凸点，经过研磨的石墨推力瓦块能够均匀的承载轴向力，抵消瓦基因厚度不同而产生的膨胀变形，实现了电机正反转。
【专利附图】
【附图说明】
[0011 ] 图1是研磨板平面检测示意图。
[0012]图2是研磨板平面度修复示意图。
[0013]图3是研磨板形成弹性变形示意图。
[0014]图4是推力石墨瓦块研磨示意图。
[0015]其中:研磨板1，支撑板2，螺栓3，开槽研磨盘4，不锈钢垫片5，石墨推力瓦块6。
【具体实施方式】
[0016]如图4所示，一种屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺，使用石墨推力瓦块6在研磨板1进行研磨，所述方法包括以下步骤:
[0017]a)检查研磨板1平面度，使用紧固螺栓3将研磨板1与支撑板2紧固，测量研磨板1平面度，见附图1;
[0018]b)如果操作a检测的研磨板1平面度较差，使用开槽研磨盘4配合研磨剂与研磨板1互研修复研磨板1平面度，见图2 ；
[0019]c)在研磨板1左右两侧支腿与支撑板2之间放置等厚不锈钢垫片5并紧固螺栓3使研磨板1平面产生弹性变形形成一定弧度，不锈钢垫片厚度5将会在后续验证工作后进行调整，见图3;
[0020]d)使用石墨推力瓦块6在研磨板1上进行研磨，通过检测石墨推力瓦块6柱面核实研磨板1弧度是否合适，见图4 ；
[0021 ] e)通过调节c操作中不锈钢垫片5厚度及重复d操作直到得到一个符合要求的石墨推力瓦块6柱面，见图3、图4;
[0022]所述步骤d)石墨推力瓦块6在研磨板1进行研磨后推力石墨瓦块6柱面各测量点相对高度公差可控制在±0.005mm以内。
【权利要求】
1.一种屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺，其特征是:使用石墨推力瓦块(6)在研磨板(I)进行研磨，所述方法包括以下步骤: a)检查研磨板⑴平面度，使用紧固螺栓(3)将研磨板⑴与支撑板(2)紧固，测量研磨板⑴平面度； b)如果操作步骤a)检测的研磨板⑴平面度较差，使用开槽研磨盘(4)配合研磨剂与研磨板(I)互研修复研磨板(I)平面度； c)在研磨板(I)的左、右两侧支腿与支撑板(2)之间放置等厚不锈钢垫片(5)并紧固螺栓(3)，使研磨板(I)平面产生弹性变形形成一定弧度，不锈钢垫片厚度(5)将会在后续验证工作后进行调整； d)使用石墨推力瓦块(6)在研磨板(I)上进行研磨，通过检测石墨推力瓦块(6)柱面核实研磨板(I)弧度是否合适； e)通过调节步骤c)操作中不锈钢垫片(5)厚度及重复步骤d)操作直到得到一个符合要求的石墨推力瓦块(6)柱面，石墨推力瓦块(6)柱面检测要求如下:石墨推力瓦块(6)柱面分9个测量点，上部测量点A、D、Al，三点位于同一节圆上，A、A1点距两侧边等距，D点位于石墨推力瓦块(6)中心线上；中部测量点B、E、B1，三点位于同一节圆上，B、B1点距两侧边等距且距离与上部测量点A、Al点到侧边距离一致，E点为石墨推力瓦块(6)中心点；下部测量点C、D1、C1，三点位于同一节圆上，C、C1点距两侧边等距且距离与上部测量点A、A1点到侧边距离一致，Dl点位于石墨推力瓦块(6)中心线上；测量时首先以D、D1、B、B1调平石墨推力瓦块(6)，然后通过激光扫描测量各点距零点E的相对高度，此相对高度应与石墨推力瓦块(6) R500m柱面各点的理论计算值一致，偏差允许在±0.005mm以内，且经过激光扫描石墨推力瓦块(6)柱面横截面弧度应顺滑无明显凹点，石墨推力瓦块(6)柱面纵向截面应平直无明显凸凹点，如果达到以上测量要求则此块经过研磨的石墨推力瓦块(6)符合要求。
2.根据权利要求1所述一种屏蔽电机推力轴承石墨推力瓦块柱面研磨工艺，其特征是:所述步骤d)石墨推力瓦块(6)在研磨板(I)进行研磨后推力石墨瓦块(6)柱面各测量点相对高度公差可控制在±0.005mm以内。
【文档编号】B24B37/02GK104476380SQ201410783756
【公开日】2015年4月1日 申请日期:2014年12月17日 优先权日:2014年12月17日
【发明者】曲建, 柴文虎, 赖俊良, 张韵曾, 杨立峰, 李楠, 金超, 王晗钰 申请人:哈尔滨电气动力装备有限公司