1.一种掩模框架组件，包括：
掩模，包括供沉积物质通过的一个以上的沉积区域；以及
框架，包括基座部和从所述基座部凸出形成并支承所述掩模的支承部，
其中，所述掩模的边角形成为朝着所述基座部弯曲。
2.如权利要求1所述的掩模框架组件，其中，所述沉积区域包括：
主体部，其外围区域由所述支承部支承；以及
一个以上的图案部，形成于所述主体部并且供沉积物质通过。
3.如权利要求2所述的掩模框架组件，其中，所述主体部的所述外围区域的边角形成为朝着所述基座部的方向弯曲。
4.如权利要求1所述的掩模框架组件，其中，所述框架还包括：
连接面，形成为连接所述支承部的面对所述掩模的面与所述基座部的面对所述掩模的面，并且支承所述掩模。
5.如权利要求4所述的掩模框架组件，其中，所述沉积区域包括：
主体部，其外围区域由所述支承部支承；以及
一个以上的图案部，形成于所述主体部并且供沉积物质通过。
6.如权利要求5所述的掩模框架组件，其中，所述主体部的所述外围区域的边角形成为朝着所述连接面的方向弯曲。
7.如权利要求4所述的掩模框架组件，其中，所述连接面中形成有一个以上的凹陷部。
8.如权利要求7所述的掩模框架组件，其中，所述沉积区域包括：
主体部，其外围区域由所述支承部支承；以及
一个以上的图案部，形成于所述主体部并且供沉积物质通过。
9.如权利要求8所述的掩模框架组件，其中，所述主体部的所述外围区域的边角形成为朝着所述凹陷部的方向弯曲。
10.一种掩模框架组件制造方法，包括：
准备包括基座部和从所述基座部凸出的支承部的框架的步骤；
准备包括供沉积物质通过的沉积区域和与所述沉积区域连接而成的盈余区域的掩模的步骤；
将所述掩模对齐到所述框架上的步骤；
用模具部从所述掩模与所述框架接触的面的相反侧对所述掩模施压而将所述掩模的形状变形为与所述框架的形状相对应的步骤；以及
对所述盈余区域进行切割的步骤。
11.如权利要求10所述的掩模框架组件制造方法，其中，在将所述掩模对齐到所述框架上的步骤中，将所述沉积区域与所述盈余区域相接的界面定位到所述基座部上。
12.如权利要求10所述的掩模框架组件制造方法，其中，所述框架还包括：
连接面，形成为连接所述支承部的面对所述掩模的面与所述基座部的面对所述掩模的面，并且支承所述掩模。
13.如权利要求12所述的掩模框架组件制造方法，其中，在将所述掩模对齐到所述框架上的步骤中，将所述沉积区域与所述盈余区域相接的界面定位到所述连接面上。
14.如权利要求12所述的掩模框架组件制造方法，其中，所述连接面中形成有一个以上的凹陷部。
15.如权利要求14所述的掩模框架组件制造方法，其中，在将所述掩模对齐到所述框架上的步骤中，将所述沉积区域与所述盈余区域相接的界面定位到所述凹陷部上。
16.如权利要求10所述的掩模框架组件制造方法，其中，作为切割所述盈余区域的方法，将激光照射到所述沉积区域与所述盈余区域的界面。
17.如权利要求10所述的掩模框架组件制造方法，其中，作为切割所述盈余区域的方法，用机械式切割器对所述沉积区域与所述盈余区域的界面进行切割。
18.如权利要求10所述的掩模框架组件制造方法，其中，在将所述掩模对齐到所述框架上的步骤与用所述模具部对所述掩模施压的步骤之间还包括：
对所述框架与所述掩模进行接合的步骤。
19.一种有机发光显示装置的制造方法，包括：
将衬底和掩模框架组件安装到腔室内部的步骤；
对所述衬底与所述掩模框架组件进行对齐的步骤；以及
通过所述掩模框架组件的开口部将从沉积源喷射的沉积物质沉积到所述衬底上的步骤，
其中，所述掩模框架组件包括：
掩模，包括供沉积物质通过的一个以上的沉积区域；以及
框架，包括基座部和从所述基座部凸出形成并支承所述掩模的支承部，
其中，所述掩模的边角形成为朝着所述基座部弯曲。