1.一种涡电流传感器，该涡电流传感器配置在形成有导电性膜的基板的附近，该涡电流传感器的特征在于，具有：
芯部和线圈部，
所述芯部具有共通部和连接于所述共通部的端部的四根悬臂梁状部，
相对于所述共通部，第一所述悬臂梁状部以及第二所述悬臂梁状部配置在第三所述悬臂梁状部以及第四所述悬臂梁状部的相反侧，
所述第一悬臂梁状部以及所述第三悬臂梁状部配置于所述共通部的一方的端部，所述第二悬臂梁状部以及所述第四悬臂梁状部配置于所述共通部的另一方的端部，
所述线圈部具有：
励磁线圈，所述励磁线圈配置于所述共通部，能够在所述导电性膜形成涡电流；
检测线圈，所述检测线圈配置于所述第一悬臂梁状部以及第二所述悬臂梁状部中的至少一方，能够检测形成于所述导电性膜的所述涡电流；以及
虚拟线圈，所述虚拟线圈配置在第三所述悬臂梁状部以及第四所述悬臂梁状部中的至少一方，
从所述第一悬臂梁状部以及所述第二悬臂梁状部分别与所述共通部连接的部分远离的所述第一悬臂梁状部以及所述第二悬臂梁状部的端部彼此接近地邻接，
从所述第三悬臂梁状部以及所述第四悬臂梁状部分别与所述共通部连接的部分远离的所述第三悬臂梁状部以及所述第四悬臂梁状部的端部彼此接近地邻接。
2.根据权利要求1所述的涡电流传感器，其特征在于，
所述第一悬臂梁状部以及所述第二悬臂梁状部的端部彼此接近地邻接，使得在从所述第一悬臂梁状部以及所述第二悬臂梁状部分别与所述共通部连接的部分远离的方向上，所述芯部成为顶端变细的形状，
所述第三悬臂梁状部以及所述第四悬臂梁状部的端部彼此接近地邻接，使得在从所述第三悬臂梁状部以及所述第四悬臂梁状部分别与所述共通部连接的部分远离的方向上，所述芯部成为顶端变细的形状。
3.根据权利要求1或2所述的涡电流传感器，其特征在于，
所述四根悬臂梁状部具有正交的两条中心线，
所述第一悬臂梁状部以及所述第二悬臂梁状部关于一方的所述中心线对称，
所述第三悬臂梁状部以及所述第四悬臂梁状部关于一方的所述中心线对称，
所述第一悬臂梁状部以及所述第三悬臂梁状部关于另一方的所述中心线对称，
所述第二悬臂梁状部以及所述第四悬臂梁状部关于另一方的所述中心线对称。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的涡电流传感器，其特征在于，
具有配置在所述芯部的外部且线圈部的外部的磁性体或金属制的外周部。
5.根据权利要求4所述的涡电流传感器，其特征在于，
所述外周部具有在所述涡电流传感器的长度方向上延伸的至少一个槽。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的涡电流传感器，其特征在于，
所述检测线圈以及所述励磁线圈所使用的导线为铜、锰铜镍线或镍铬合金线。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的涡电流传感器，其特征在于，
施加在所述励磁线圈上的电信号的频率为，基于所述涡电流传感器的输出而检测形成于所述导电性膜的涡电流的检测电路不产生振荡的频率。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的涡电流传感器，其特征在于，
所述检测线圈和所述励磁线圈的导线的圈数被设定为，形成基于所述涡电流传感器的输出而检测形成于所述导电性膜的涡电流的检测电路不产生振荡的频率。
9.一种涡电流传感器，该涡电流传感器配置在形成有导电性膜的基板的附近，该涡电流传感器的特征在于，具有：
传感器部和配置在所述传感器部的附近的虚拟部，
所述传感器部具有传感器芯部和传感器线圈部，
所述传感器芯部具有传感器共通部、以及连接于所述传感器共通部的第一悬臂梁状部和第二悬臂梁状部，
所述第一悬臂梁状部以及所述第二悬臂梁状部彼此相对配置，
所述虚拟部具有虚拟芯部和虚拟线圈部，
所述虚拟芯部具有虚拟共通部、以及连接于所述虚拟共通部的第三悬臂梁状部和第四悬臂梁状部，
所述第三悬臂梁状部以及所述第四悬臂梁状部彼此相对配置，
所述传感器线圈部具有：
传感器励磁线圈，所述传感器励磁线圈配置于所述传感器共通部，能够在所述导电性膜形成涡电流；以及检测线圈，所述检测线圈配置于所述第一悬臂梁状部以及第二所述悬臂梁状部中的至少一方，能够检测形成于所述导电性膜的所述涡电流，
所述虚拟线圈部具有：
配置于所述虚拟共通部的虚拟励磁线圈；以及配置于所述第三悬臂梁状部和第四所述悬臂梁状部中的至少一方的虚拟线圈，
从所述第一悬臂梁状部以及所述第二悬臂梁状部分别与所述传感器共通部连接的部分远离的所述第一悬臂梁状部以及所述第二悬臂梁状部的端部彼此接近地邻接，
从所述第三悬臂梁状部以及所述第四悬臂梁状部分别与所述虚拟共通部连接的部分远离的所述第三悬臂梁状部以及所述第四悬臂梁状部的端部彼此接近地邻接，
所述传感器部以及所述虚拟部从靠近所述基板的位置朝向远离所述基板的位置，以所述传感器部、所述虚拟部的顺序配置。
10.一种研磨装置，其特征在于，具有：
贴附有研磨垫的研磨台，所述研磨垫用于对包含所述导电性膜的研磨对象物进行研磨；
驱动部，所述驱动部驱动所述研磨台旋转；
保持部，所述保持部保持所述研磨对象物并将所述研磨对象物向所述研磨垫按压；
权利要求1至9中任一项所述的涡电流传感器，所述涡电流传感器配置在所述研磨台的内部，伴随所述研磨台的旋转，沿着所述研磨对象物的研磨面检测形成于所述导电性膜的所述涡电流；以及
终点检测控制器，所述终点检测控制器根据检测出的所述涡电流计算出所述研磨对象物的膜厚数据。
11.根据权利要求10所述的研磨装置，其特征在于，
具有设备控制控制器，所述设备控制控制器基于所述终点检测控制器所计算出的膜厚数据，独立地控制所述研磨对象物的多个区域的按压力。
12.一种涡电流传感器，该涡电流传感器配置在形成有导电性膜的基板的附近，该涡电流传感器的特征在于，具有：
壶形芯，所述壶形芯具有底面部、设于所述底面部的中央的磁心部、设于所述底面部的周围的周壁部，所述壶形芯为磁性体；
励磁线圈，所述励磁线圈配置于所述磁心部，在所述导电性膜中形成涡电流；以及
检测线圈，所述检测线圈配置于所述磁心部，检测形成于所述导电性膜的所述涡电流，所述磁性体的相对电容率为5～15，相对导磁率为1～300，
所述磁心部的外形尺寸为50mm以下，
在所述励磁线圈上施加有频率为2～30MHz的电信号。
13.根据权利要求12所述的涡电流传感器，其特征在于，
所述涡电流传感器具有虚拟线圈，所述虚拟线圈配置在所述磁心部，检测形成于所述导电性膜的所述涡电流。
14.一种涡电流传感器，该涡电流传感器配置在形成有导电性膜的基板的附近，该涡电流传感器的特征在于，具有：
第一壶形芯和配置于所述第一壶形芯的附近的第二壶形芯，所述第一壶形芯以及所述第二壶形芯是磁性体，
所述第一壶形芯以及所述第二壶形芯分别具有底面部、设于所述底面部的中央的磁心部、设于所述底面部的周围的周壁部，
所述涡电流传感器具有：
第一励磁线圈，所述第一励磁线圈配置于所述第一壶形芯的所述磁心部，在所述导电性膜形成涡电流；
检测线圈，所述检测线圈配置在所述第一壶形芯的所述磁心部，检测形成于所述导电性膜的所述涡电流；
第二励磁线圈，所述第二励磁线圈配置于所述第二壶形芯的所述磁心部；以及
虚拟线圈，所述虚拟线圈配置于所述第二壶形芯的所述磁心部，
所述第一壶形芯的所述磁心部的轴向与所述第二壶形芯的所述磁心部的轴向一致，
所述第一壶形芯以及所述第二壶形芯从靠近所述基板的位置朝向远离所述基板的位置，以所述第一壶形芯、所述第二壶形芯的顺序配置。
15.根据权利要求14所述的涡电流传感器，其特征在于，
所述磁性体的相对电容率为5～15，相对导磁率为1～300，
所述磁心部的外形尺寸为50mm以下，
在所述第一励磁线圈以及第二励磁线圈上施加有频率为2～30MHz的电信号。
16.根据权利要求12至14中任一项所述的涡电流传感器，其特征在于，
具有配置于所述周壁部的外部的金属制的外周部。
17.根据权利要求16所述的涡电流传感器，其特征在于，
所述外周部具有在所述磁心部的轴向上延伸的至少一个槽。
18.根据权利要求12至17中任一项所述的涡电流传感器，其特征在于，
所述检测线圈以及所述励磁线圈所使用的导线为铜、锰铜镍线或镍铬合金线。
19.根据权利要求12至18中任一项所述的涡电流传感器，其特征在于，
施加在所述励磁线圈的电信号的频率为，基于所述涡电流传感器的输出而检测形成于所述导电性膜的涡电流的检测电路不产生振荡的频率。
20.根据权利要求12至19中任一项所述的涡电流传感器，其特征在于，
所述检测线圈和所述励磁线圈的导线的圈数被设定为，形成基于所述涡电流传感器的输出而检测形成于所述导电性膜的涡电流的检测电路不产生振荡的频率。
21.一种研磨装置，其特征在于，具有：
贴附有研磨垫的研磨台，所述研磨垫用于对包含所述导电性膜的研磨对象物进行研磨；
驱动部，所述驱动部驱动所述研磨台旋转；
保持部，所述保持部保持所述研磨对象物并将该研磨对象物向所述研磨垫按压；
权利要求12至20中任一项所述的涡电流传感器，所述涡电流传感器配置在所述研磨台的内部，伴随所述研磨台的旋转，沿着所述研磨对象物的研磨面检测形成于所述导电性膜的所述涡电流；
终点检测控制器，所述终点检测控制器根据检测出的所述涡电流计算出所述研磨对象物的膜厚数据。
22.根据权利要求21所述的研磨装置，其特征在于，
具有设备控制控制器，所述设备控制控制器基于所述终点检测控制器所计算出的膜厚数据，独立地控制所述研磨对象物的多个区域的按压力。