1.一种金属钽表面MoSi2涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S10，提供钽片基材，并将所述钽片基材进行抛光和清洗以除去其表面的氧化物和杂质；S11，提供渗剂原料，包括活化剂、分散剂、钼粉和硅粉；S12，将所述钼粉、所述活化剂以及所述分散剂按照质量份数比：40-50：5-10：40-55混合行成第一混合物；S13，将所述钽片基材埋入所述第一混合物中，并在保护气氛于1300-1500℃保温4-10h，取出后清洗干净；S14，将所述硅粉、所述活化剂以及所述分散剂按照质量份数比：20-40：5-18：55-75混合行成第二混合物；S15，将步骤S13所获得的产物埋入所述第二混合物中，并在保护气氛于1100-1400℃保温8-20h，取出后清洗干净，获得含MoSi2涂层的样品。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述活化剂包括NaF以及Na2SiF6。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述分散剂包括Al2O3。
4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：在步骤S12中，将所述钼粉、NaF以及所述Al2O3按照质量份数比：40-50：5-10：40-55混合行成第一混合物。
5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于：在步骤S14中，将所述硅粉、NaF、Na2SiF6以及所述Al2O3按照质量份数比：20-40：3-8：2-10：55-75混合行成第二混合物。
6.在步骤S14中，将所述硅粉、NaF、Na2SiF6以及所述Al2O3按照质量份数比：25-35：3-8：2-10：60-70混合行成第二混合物。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：所述保护氛围为惰性气体。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在步骤S13中，在保护气氛于1350-1450℃保温4-10h。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在步骤S15中，在保护气氛于1200-1300℃保温8-20h。