技术特征：
技术总结
根据本公开的一个方面，提供一种用于处理柔性基板(10)的处理系统(100)。所述处理系统包括：真空腔室(11)；传送系统，配置以沿基板传送路径(P)导引柔性基板(10)通过真空腔室(11)，其中传送系统包括第一基板支撑件(22)及相隔第一基板支撑件(22)一距离布置的第二基板支撑件(24)；及检查系统，用于检查柔性基板(10)。检查系统包括：光源(30)，配置以导引光束(31)通过在第一基板支撑件(22)与第二基板支撑件(24)之间的柔性基板(10)的一部分；及光检测器(40)，用于检测光束(31)来执行柔性基板(10)的透射率测量，其中光源(30)及光检测器(40)中的至少一个布置在环境中，环境配置以用于与真空腔室(11)中的第一压力水平不同的第二压力水平。根据本发明的再一方面，提供一种沉积设备。根据本发明的又一方面，提供一种用于处理柔性基板的方法。
技术研发人员：赖纳·格特曼;汉斯-格奥尔格·洛兹
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2016.07.01
技术公布日：2019.03.15