技术总结
本实用新型提供了一种掩模板、蒸镀掩模板组件及蒸镀设备，所述掩模板包括掩模板主体，所述掩模板主体上设有遮挡部和多个开口部；所述掩模板主体包括相背的两个面，其中在所述相背的两个面中至少一个面上的预定区域处设有磁性层。本实用新型能够改善蒸镀时由于掩模板不平坦而导致的混色、均一性差等不良，提升产品良率。
技术研发人员：吴建鹏;徐鹏;杨忠英;罗昶;李雪萍;黄立为;于名印;冯巧;佘建民;胡红伟;曹英;宋德雄;辛燕霞;周才龙
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
文档号码：201721444219
技术研发日：2017.11.02
技术公布日：2018.05.08