一种吉他的侧板抛光装置的制作方法

文档序号:15506331发布日期:2018-09-21 23:11阅读:354来源:国知局

本实用新型涉及吉他的制造技术,特别是一种吉他的侧板抛光装置。



背景技术:

在吉他的生产过程中,吉他的侧板通常采用人工的方法进行抛光,但这种抛光方式存在以下问题:一是抛光质量因人而异,无法保证质量;二是抛光效率太低,难以适应大规模生产的要求。



技术实现要素:

为解决现有技术存在的上述问题,本实用新型要设计一种既能保证抛光质量,又能提高抛光效率的吉他的侧板抛光装置。

为了实现上述目的,本实用新型的技术方案如下:一种吉他的侧板抛光装置,包括底座、支架、旋转机构和抛光机构,所述的支架下端固定在底座上、上端的横梁上安装垂直气缸;

所述的旋转机构包括旋转台、转轴和压紧组件,所述的旋转台通过转轴安装在底座上,旋转台上放置琴桶;所述的压紧组件的下端压在琴桶上,上端与垂直气缸连接;

所述的抛光机构包括抛光布轮、摆动臂、拉紧气缸和电机,所述的抛光布轮通过摆动臂安装在支架上,所述的拉紧气缸的固定端安装在支架上、移动端安装在摆动臂上,拉紧气缸的轴线、支架上拉紧气缸的连接点与摆动臂的连接点之间的连线以及摆动臂的轴线分别在水平面上构成三角形的三条边;

所述的电机安装在摆动臂上,通过皮带与抛光布轮连接。

进一步地,所述的拉紧气缸的管路上设置气压调节阀和压力表,气压调节阀用于调节抛光布轮对琴桶的压力,压力表用于显示拉紧气缸中的压力。

进一步地,所述的旋转台平面形状与吉他面板形状相同。

进一步地,所述的旋转台通过轴承与转轴连接。

进一步地,所述的旋转台上设置定心装置。

进一步地,所述的压紧组件包括转动构件和线性轴承,所述的转动构件包括转动轴、压紧件和把手;所述的转动轴的下端与压紧件固定连接,转动轴的上端通过线性轴承与垂直气缸连接;所述的压紧件由横杆和两个竖杆组成,两个竖杆位于横杆的两端并与横杆固定连接;两个竖杆的长度不等,其下端面与琴桶接触;所述的把手有两个,分别固定在横杆的上面,位于横杆的两侧,用于旋转琴桶。

与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:

1、由于本实用新型的抛光布轮在拉紧气缸的拉紧力作用下,无论琴桶如何旋转,都能保证抛光布轮以相同的压力紧贴侧板,并以均匀速度旋转,所以抛光质量能得到保证。

2、由于本实用新型采用机器进行抛光,抛光效率比人工要高出2-3倍。

附图说明

图1是本实用新型结构示意图。

图2是图1的侧视图。

图3是图1的俯视图。

图中:1、底座,2、支架,3、垂直气缸,4、旋转台,5、转轴,6、抛光布轮,7、摆动臂,8、拉紧气缸,9、电机,10、转动轴,11、压紧件,12、把手,13、线性轴承,14、琴桶。

下面结合附图对本实用新型进行进一步地描述。如图1-2所示,一种吉他的侧板抛光装置,包括底座1、支架2、旋转机构和抛光机构,所述的支架2下端固定在底座1上、上端的横梁上安装垂直气缸3;

所述的旋转机构包括旋转台4、转轴5和压紧组件,所述的旋转台4通过转轴5安装在底座1上,旋转台4上放置琴桶14;所述的压紧组件的下端压在琴桶14上,上端与垂直气缸3连接;

所述的抛光机构包括抛光布轮6、摆动臂7、拉紧气缸8和电机9,所述的抛光布轮6通过摆动臂7安装在支架2上,所述的拉紧气缸8的固定端安装在支架2上、移动端安装在摆动臂7上,拉紧气缸8的轴线、支架2上拉紧气缸8的连接点与摆动臂7的连接点之间的连线以及摆动臂7的轴线分别在水平面上构成三角形的三条边;

所述的电机9安装在摆动臂7上,通过皮带与抛光布轮6连接。

进一步地,所述的拉紧气缸8的管路上设置气压调节阀和压力表,气压调节阀用于调节抛光布轮6对琴桶14的压力,压力表用于显示拉紧气缸8中的压力。

进一步地,所述的旋转台4平面形状与吉他面板形状相同。

进一步地,所述的旋转台4通过轴承与转轴5连接。

进一步地,所述的旋转台4上设置定心装置。

进一步地,所述的压紧组件包括转动构件和线性轴承13,所述的转动构件包括转动轴10、压紧件11和把手12;所述的转动轴10的下端与压紧件11固定连接,转动轴10的上端通过线性轴承13与垂直气缸3连接;所述的压紧件11由横杆和两个竖杆组成,两个竖杆位于横杆的两端并与横杆固定连接;两个竖杆的长度不等,其下端面与琴桶14接触;所述的把手12有两个,分别固定在横杆的上面,位于横杆的两侧,用于旋转琴桶14。

本实用新型的工作方法如下:

A、将琴桶14放置在旋转台4上,并通过定心装置进行定位,然后启动垂直气缸3,通过压紧组件将琴桶14固定在旋转台4上;

B、通过气压调节阀设定好拉紧气缸8的拉紧力,启动电机9使抛光布轮6匀速旋转;

C、人工转动旋转台4,抛光布轮6在拉紧气缸8的拉紧力作用下,紧贴琴桶14侧板,对侧板进行抛光。

本实用新型不局限于本实施例,任何在本实用新型披露的技术范围内的等同构思或者改变,均列为本实用新型的保护范围。

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