1.一种真空多弧涂覆设备，包括真空室、与真空室连接的真空抽气系统以及设于真空室内的传送装置，其特征在于，所述真空室上设有至少一个弧源组，每个弧源组设有多个弧源，所述弧源组为至少两个时，各弧源组依次间隔排列；所述传送装置上设有用于放置钕铁硼永磁体的支撑体，钕铁硼永磁体表面涂覆时，传送装置通过支撑体带动钕铁硼永磁体做水平往复运动。
2.如权利要求1所述的真空多弧涂覆设备，其特征在于，所述弧源组设置有至少三个时，各个弧源组依次等距间隔排列。
3.如权利要求1或2所述的真空多弧涂覆设备，其特征在于，所述支撑体为一体式结构。
4.如权利要求1或2所述的真空多弧涂覆设备，其特征在于，所述支撑体为分体式结构，且分体的数量与弧源组的数量相同。
5.如权利要求4所述的真空多弧涂覆设备，其特征在于，所述真空室为真空涂覆室。
6.如权利要求4所述的真空多弧涂覆设备，其特征在于，所述真空室包括依次连通的真空转换室、真空涂覆室和冷却及真空转换室，所述真空抽气系统包括与真空转换室连接的第一真空抽气系统、与真空涂覆室连接的第二真空抽气系统和与冷却及真空转换室连接的第三真空抽气系统。
7.如权利要求5或6所述的真空多弧涂覆设备，其特征在于，所述传送装置包括电机和与电机连接的传送辊，所述支撑体安装于所述传送辊上。
8.如权利要求7所述的真空多弧涂覆设备，其特征在于，还包括电控装置，所述电控装置包括与所述电机连接的控制器以及与所述控制器连接的位置传感器，所述位置传感器设置于所述真空涂覆室的进料端和出料端。