用于半圆磁环的毛刺打磨装置的制作方法

本实用新型属于磁环生产技术领域，具体涉及一种用于半圆磁环的毛刺打磨装置。

背景技术：

在磁环加工过程中，坯件在成型时会产生毛刺，因此需要进行去毛刺操作。目前，毛刺打磨加工主要是通过人工进行，耗时费力，打磨效率非常低；现有技术中也有一些针对磁环设计的毛刺打磨装置，但基本上是对磁环的内壁和外壁分别进行打磨，无法对磁环的内外部同时进行打磨；而且未出现针对两半式磁环的半圆磁环的毛刺打磨装置，半圆磁环在利用圆柱形磁环的毛刺打磨装置时易出现夹持不稳等现象，导致在打磨过程中半圆磁环易损坏、去毛刺不充分等问题，而影响两半式磁环的使用。

技术实现要素：

本实用新型实施例涉及一种用于半圆磁环的毛刺打磨装置，至少可解决现有技术的部分缺陷。

本实用新型实施例涉及一种用于半圆磁环的毛刺打磨装置，包括工作台，所述工作台上设有半圆柱式打磨座和拱形隧道式打磨架，所述打磨座同轴收容于所述打磨架中且与所述打磨架的隧道壁围设形成与半圆磁环适配的半圆环状打磨舱；所述打磨舱的入口侧和出口侧均设有供半圆磁环滑移的滑道，且入口侧布置有推料机构。

作为实施例之一，所述推料机构包括推料支架和支架驱动单元，所述支架驱动单元与所述推料支架连接且其驱动方向与所述滑道的导向方向相同，所述推料支架上安设有多个推料杆，各所述推料杆均指向所述打磨舱且杆端延长线均穿过所述打磨舱。

作为实施例之一，所述推料杆有三个，包括一个与所述打磨舱的环顶位于同一高度的顶置推料杆以及位于所述顶置推料杆下方且相对于所述顶置推料杆对称布置的两个下置推料杆。

作为实施例之一，各所述推料杆的推料端部均固设有电磁铁。

作为实施例之一，各所述推料杆均为中空杆，所述电磁铁被固定收容于对应的所述推料杆的杆腔中，各所述推料杆的推料端面上均设有缓冲层。

作为实施例之一，所述缓冲层为橡胶层。

作为实施例之一，所述支架驱动单元为气缸、液压缸或电动推杆。

作为实施例之一，所述打磨座的拱形外壁和所述打磨架的隧道壁都均布有打磨颗粒。

作为实施例之一，所述打磨舱的出口侧滑道终端处设有收料机构。

作为实施例之一，所述收料机构包括布置于所述工作台台面下方的收料斗，或者包括与所述出口侧滑道衔接的输料带。

本实用新型实施例至少具有如下有益效果：

本实用新型提供的用于半圆磁环的毛刺打磨装置，通过半圆柱式打磨座和拱形隧道式打磨架配合，可以同时对半圆磁环的内外壁进行打磨，而且半圆磁环打磨过程中是扣合在打磨座上且嵌置在打磨舱中的，在推料过程中即可完成半圆磁环的打磨，无需考虑半圆磁环的夹持操作，结构简单、操作方便，打磨效率高，而且可以保证对半圆磁环的打磨效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本实用新型实施例提供的用于半圆磁环的毛刺打磨装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1，本实用新型实施例提供一种用于半圆磁环的毛刺打磨装置，包括工作台1，所述工作台1上设有半圆柱式打磨座2和拱形隧道式打磨架3，所述打磨座2同轴收容于所述打磨架3中且与所述打磨架3的隧道壁围设形成与半圆磁环100适配的半圆环状打磨舱；所述打磨舱的入口侧和出口侧均设有供半圆磁环100滑移的滑道，且入口侧布置有推料机构。其中：

上述半圆柱式打磨座2优选为是实心体，其轴向为水平向，其径向截面(与其轴向垂直的截面，也即与其轴向垂直的竖向截面)即为半圆形，其拱起的外壁为圆弧形曲面，且与待加工半圆磁环100的内壁具有相同的半径，且该拱起的外壁为打磨面，从而半圆磁环100的内壁可以与该拱起的外壁贴合打磨；

上述拱形隧道式打磨架3的隧道壁为圆弧形隧道壁(即其径向截面为圆弧形)，且该隧道壁与待加工半圆磁环100的外壁具有相同的半径，且该隧道壁为打磨面，从而半圆磁环100的外壁可以与该隧道壁贴合打磨；

上述半圆柱式打磨座2的拱起外壁与拱形隧道式打磨架3的隧道壁之间即围设形成上述的打磨舱，该打磨舱是与半圆磁环100的结构适配的半圆环状空间，从而半圆磁环100在穿过该打磨舱时，可以同时对其内外壁进行打磨。优选地，上述打磨座2的拱形外壁和打磨架3的隧道壁都均布有打磨颗粒，保证对半圆磁环100的打磨效果。

本实施例提供的用于半圆磁环的毛刺打磨装置，通过半圆柱式打磨座2和拱形隧道式打磨架3配合，可以同时对半圆磁环100的内外壁进行打磨，而且半圆磁环100打磨过程中是扣合在打磨座2上且嵌置在打磨舱中的，在推料过程中即可完成半圆磁环100的打磨，无需考虑半圆磁环100的夹持操作，结构简单、操作方便，打磨效率高，而且可以保证对半圆磁环100的打磨效果。

在上述结构中，可以通过所限定的打磨舱的精度设计，达到对半圆磁环100内外壁的打磨效果；而作为优选的实施例，上述打磨座2为可活动地安装在上述工作台1上且其底部连接有升降驱动机构，该升降驱动机构可以是气缸、液压缸、电动推杆等直线驱动设备，通过该升降驱动机构带动打磨座2上下活动，可以避免需要达到较高的打磨舱的精度，在半圆磁环100进入打磨架3的隧道之前，上述打磨座2的底端位于工作台1台面下方，当半圆磁环100进入打磨架3的隧道内后，该打磨座2上升至与半圆磁环100的内壁抵靠，施与一定的压力，保证推料机构推动半圆磁环100水平运动时半圆磁环100始终与打磨座2和打磨架3接触打磨。

接续上述毛刺打磨装置的结构，如图1，所述推料机构包括推料支架41和支架驱动单元43，所述支架驱动单元43与所述推料支架41连接且其驱动方向与所述滑道的导向方向相同，所述推料支架41上安设有多个推料杆42，各所述推料杆42均指向所述打磨舱且杆端延长线均穿过所述打磨舱，易于理解地，各推料杆42水平推动半圆磁环100，各推料杆42可以伸入至打磨舱中，从而将半圆磁环100从打磨舱入口侧推至打磨舱出口侧，实现半圆磁环100的打磨以及去毛刺后的半圆磁环100的收集。上述推料支架41优选为是半圆形板，其半径优选为与半圆磁环100半径相同或稍大于半圆磁环100的半径，各推料杆42优选为靠近该推料支架41的外缘布置。上述支架驱动单元43可采用常规的直线驱动设备，如气缸、液压缸或电动推杆等。

进一步优选地，如图1，所述推料杆42有三个，包括一个与所述打磨舱的环顶位于同一高度的顶置推料杆42以及位于所述顶置推料杆42下方且相对于所述顶置推料杆42对称布置的两个下置推料杆42，该三个推料杆42即可保证稳定地推动半圆磁环100。

作为本实施例提供的优选实施方式，各所述推料杆42的推料端部均固设有电磁铁，电磁铁的作用在于，可以将半圆磁环100稳固地吸附在各推料杆42上，进一步保证半圆磁环100直线运动的稳定性；在推料过程中，电磁铁通电吸附半圆磁环100，半圆磁环100被推至打磨舱出口侧后，电磁铁失电，各推料杆42缩回并与半圆磁环100分离，实现自动推料卸料。各推料杆42优选为是中空杆，各电磁铁的供电线可走线于对应的推料杆42的杆腔中，保证使用安全可靠。

进一步优选地，各所述推料杆42均为中空杆，所述电磁铁被固定收容于对应的所述推料杆42的杆腔中，各所述推料杆42的推料端面上均设有缓冲层，也即电磁铁是位于推料杆42中且靠近该推料杆42的推料端面的，优选为是该推料杆42的推料端为开口端并通过上述的缓冲层封堵；电磁铁一端通过该缓冲层限位，另一端则可通过推料杆42中的定位板限位，这是本领域技术人员易于理解的，此处不作赘述。设置缓冲层可以避免推料杆42/电磁铁损坏半圆磁环100。该缓冲层优选为是橡胶层，当然也可以采用泡沫塑料等可以缓冲吸能的材料，其可以采用粘接、绑缚等方式固定在推料杆42上。

接续上述毛刺打磨装置的结构，所述打磨舱的出口侧滑道终端处设有收料机构，该收料机构可以是包括布置于所述工作台1台面下方的收料斗，或者包括与所述出口侧滑道衔接的输料带，打磨完成后的半圆磁环100可以通过上述收料斗收集，也可以通过上述输料带转运至下一工序。本实施例中，优选为采用输料带，推料机构将打磨完成后的半圆磁环100输送至该输料带上之后再回位。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。