蚀刻机的制作方法

本实用新型属于蚀刻设备技术领域，更具体地说，是涉及一种蚀刻机。

背景技术：

现今电路板生产线多为酸性蚀刻线(DES)或碱性蚀刻线(SES)，药水为高浓度酸性或碱性药水，其具有强烈的挥发性和腐蚀性，这对人体的身体健康有害，且对环境会产生严重破坏，因此，蚀刻段通常需要密封设计。现有技术中，采用多层玻璃进行多次密封；但由于蚀刻药水挥发的气体渗透力较强，仍会有少量蚀刻气体通过小缝隙渗透出来，又由于蚀刻室内温度比蚀刻室外温度高，蚀刻气体遇冷发生凝结，则在内外层玻璃之间慢慢堆积形成大面积结晶物。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种蚀刻机，以解决现有技术中存在的蚀刻药水所产生的蚀刻气体通过细小缝隙渗出，遇冷而结晶的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：提供一种蚀刻机，包括设有开窗的蚀刻室、封盖于所述开窗上的内层玻璃、与所述内层玻璃间隔设置并封盖于所述开窗上的外层玻璃以及用于支撑所述内层玻璃和所述外层玻璃的支撑框，所述支撑框安装于所述蚀刻室上，所述支撑框环绕所述开窗，所述支撑框包括开窗下端的底板，所述底板对应于所述内层玻璃的位置上开设有储液槽，所述储液槽内填充有密封液体，所述内层玻璃的侧边伸入所述储液槽内并浸入所述密封液体。

进一步地，所述储液槽靠近所述蚀刻室的侧壁的高度低于所述储液槽远离所述蚀刻室的侧壁的高度。

进一步地，所述蚀刻机还包括用于给所述储液槽输送所述密封液体的补液机构。

进一步地，所述补液机构包括用于提供动力的水泵和用于供外界密封液体流入所述储液槽的管道，所述水泵的出水口与所述管道连通，所述管道与所述储液槽连通。

进一步地，所述密封液体为蚀刻药水，所述底板上还设有用于供所述储液槽内的密封液体流至所述蚀刻室的排液流道。

进一步地，所述补液机构还包括用于调节所述管道流量大小的调节阀，所述调节阀位于所述储液槽的入水口与所述水泵的出水口之间。

进一步地，所述支撑框还包括与所述底板相邻的侧板，所述侧板沿该侧板的厚度方向上开设有呈阶梯式设置的缓冲流道，所述缓冲流道的一端与所述管道连通，所述缓冲流道的另一端与所述储液槽的入水口连通。

进一步地，所述外层玻璃的四周均设有胶边条，所述内层玻璃的两侧边以及顶部设有胶边条。

进一步地，所述内层玻璃上还设有用于将所述内层玻璃压紧于所述支撑框上的第一压紧手柄。

进一步地，所述外层玻璃上还设有用于将所述外层玻璃压紧于所述支撑框的第二压紧手柄。

本实用新型提供的蚀刻机的有益效果在于：与现有技术相比，本实用新型提供的蚀刻机，通过在支撑框的底板对应于内层玻璃上开设有储液槽，储液槽内填充有密封液体，以液封内层玻璃与底板之间的缝隙，避免蚀刻室内的蚀刻药水所挥发出的蚀刻气体从内层玻璃与底板之间的缝隙中外溢而结晶；同时，也避免污染工作环境，提升设备外部的整洁度，降低人工维护成本。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的蚀刻机的结构示意图一；

图2为图1中的A-A线的剖视结构图；

图3为图2中的A处的放大结构示意图；

图4为本实用新型实施例提供的蚀刻机的结构示意图二；

图5为图4中的局部剖视图；

图6为图5中的B处的放大结构示意图；

图7为本实施例提供的蚀刻机的局部剖视图。

其中，图中各附图标记：

100-蚀刻机，1-内层玻璃；11-胶边条；2-外层玻璃；21-第二压紧手柄；3-底板；31-储液槽；4-侧板；5-管道；6-调节阀；7-缓冲流道；71-第一流道；72-第二流道；73-第三流道。

具体实施方式

为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。

需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

请一并参阅图1至图7，现对本实用新型提供的蚀刻机100进行说明。蚀刻机100，包括设有开窗的蚀刻室、内层玻璃1、外层玻璃2和支撑框，内层玻璃1封盖于蚀刻室，外层玻璃2与内层玻璃1间隔设置，且外层玻璃2封盖于开窗上，支撑框用于支撑内层玻璃1和外层玻璃2，支撑框安装于开窗上，且支撑框环绕开窗设置，支撑框包括开窗下端的底板3；具体地，支撑框的底板3上开设有储液槽31，储液槽31与内层玻璃1对应设置，内层玻璃1的侧边伸入储液槽31内，储液槽31内填充有密封液体，内层玻璃1的侧边浸入密封液体；以通过密封液体来将内层玻璃1与支撑框的底板3之间的缝隙进行液封，避免蚀刻室内的蚀刻药水所挥发出的蚀刻气体从内层玻璃1与底板3所接触的间隙中外溢而结晶。

与现有技术相比，本实用新型提供的蚀刻机100，通过在支撑框的底板3对应于内层玻璃1上开设有储液槽31，储液槽31内填充有密封液体，以液封内层玻璃1与底板3之间的缝隙，避免蚀刻室内的蚀刻药水所挥发出的蚀刻气体从内层玻璃1与底板3之间的缝隙中外溢而结晶；同时，也避免了污染工作环境，提升设备外部的整洁度，降低人工维护成本。

进一步地，作为本实用新型提供的蚀刻机100的一种具体实施方式，储液槽31靠近蚀刻室的侧壁的高度低于储液槽31远离蚀刻室的侧壁的高度；以防止储液槽31内的密封液体溢出而流向外层玻璃2，确保当密封液体漫过储液槽31时，密封液体可以流回蚀刻室内，而不是流向外层玻璃2；避免污染外层玻璃2。

进一步地，作为本实用新型提供的蚀刻机100的一种具体实施方式，蚀刻机100还包括补液机构，补液机构用于给储液槽31输送密封液体，操作方便，节省劳动力，还能使储液槽31内一直填充有密封液体，保证密封性。

进一步地，请参阅图1或图7，作为本实用新型提供的蚀刻机100的一种具体实施方式，补液机构包括水泵(图中未视出)和管道5，水泵的出水口与管道5连通，管道5与储液槽31连通；通过水泵和管道5的设置，以将密封液体通过水泵和管道5输送至储液槽31内，方便操作，节省劳动力。

进一步地，作为本实用新型提供的蚀刻机100的一种具体实施方式，密封液体为蚀刻药水，底板3上还设有排液流道(图中未视出)；排液流道用于供储液槽31内的密封液体流至蚀刻室内；当设备停机时，储液槽31内的密封液体可以通过排液流道流回蚀刻室内，避免浪费、污染。

进一步地，请参阅图1、图5或图7，作为本实用新型提供的蚀刻机100的一种具体实施方式，补液机构还包括调节阀6，调节阀6位于储液槽31的入水口与水泵的出水口之间；以通过调节阀6的设置，来调节管道5流量大小的，以防止水泵压力过大时，在储液槽31的入水口位置形成喷射现象，避免影响密封性。

进一步地，请参图7，作为本实用新型提供的蚀刻机100的一种具体实施方式，支撑框还包括与底板3相邻的侧板4，侧板4沿该侧板4的厚度方向上开设有还包括呈阶梯式设置缓冲流道7，缓冲流道7的一端与管道5连通，缓冲流道7的另一端与储液槽31的入水口连通；通过设置缓冲流道7，避免产生水花或溅射现象，使密封液体缓慢平稳的流入储液槽31内。

进一步地，请继续参图7，作为本实用新型提供的蚀刻机100的一种具体实施方式，缓冲流道7包括与调节阀66的出水口连通的第一流道71、与入水口41连通的第二流道72和连通第一流道71和第二流道72的第三流道73，第一流道71、第二流道72和第三流道73为一体成型机构；以通过第一流道71、第二流道72和第三流道73的设置，来缓冲待进入储液槽31内的密封液体，使密封液体能以平稳的流入储液槽31内，避免产生水花或溅射现象，保证密封性。

进一步地，请参阅图2，作为本实用新型提供的蚀刻机100的一种具体实施方式，外层玻璃2的四周均设有胶边条11，内层玻璃1的两侧边以及顶部设有胶边条11；胶边条11位于支撑框与内层玻璃1或外层玻璃2之间，通过胶边条11的设置，以便于增强内层玻璃1或外层玻璃2与支撑框连接的密封性，避免蚀刻室内的蚀刻气体外溢而产生结晶现象，节约成本，同时还能提升设备外部的整洁度，降低人工维护成本。

进一步地，作为本实用新型提供的密封结构100的一种具体实施方式，内层玻璃1上还设有用于将内层玻璃1压紧于支撑框上的第一压紧手柄(图中未视出)，以进一步提高密封性，防止蚀刻室内的蚀刻药水所挥发出的蚀刻气体外溢而结晶，避免污染工作环境。

进一步地，请参阅图1，作为本实用新型提供的密封结构100的一种具体实施方式，外层玻璃2上还设有用于将外层玻璃2压紧于支撑框的第二压紧手柄21。通过设置第一压紧手柄和第二压紧手柄21，以进一步提高密封性，防止蚀刻室内的蚀刻药水所挥发出的蚀刻气体外溢而结晶。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。