一种用于智能定位平面精磨机中的自转工件平台机构的制作方法

本实用新型涉及一种打磨装置，具体为一种用于智能定位平面精磨机中的自转工件平台机构。

背景技术：

玻璃产品(如视窗防护玻璃)在加工时，需要对玻璃表面进行打磨，传统玻璃打磨是通过人工打磨，人工打磨的打磨力度和打磨手法因人而异，打磨面比较粗糙，不能满足生产的需求。现有用于玻璃产品的表面打磨采用普通打磨机，在操作时，人工将待打磨玻璃放置在加工平台上，将打磨盘下降到玻璃表面进行直接切削，其缺点在于：现有打磨机中的工件平台，结构单一，不具备离合功能，在运转过程中难以实现工件平台的定位。

技术实现要素：

本实用新型的目的是针对以上问题，提供一种用于智能定位平面精磨机中的自转工件平台机构，具有离合功能，当需要进行定位时，离合器断开自转驱动电机与旋转体之间的连接，使工件平台的定位能够顺利进行。

为实现以上目的，本实用新型采用的技术方案是：它包括安装法兰、自转驱动电机和旋转体，旋转体的底部设置有电动离合器，电动离合器与自转驱动电机的输出轴连接，旋转体上固定设置定位盘，旋转体上安装有工件固定平台。

进一步的，工件固定平台包括负压吸盘和与负压吸盘相连通的气管接头；旋转体的内部为中空结构，旋转体内部的中空结构中设置有抽气管；负压吸盘和气管接头分别安装在抽气管的上下两端。

进一步的，安装法兰的下端设置有保护罩，保护罩的侧壁上设置有缺口。

进一步的，定位盘包括初定位大齿轮和固定在初定位大齿轮上端的圆盘，圆盘与初定位大齿轮之间同轴设置，圆盘上设置有U形缺口。

本实用新型的有益效果：本实用新型提供了一种用于智能定位平面精磨机中的自转工件平台机构，具有离合功能，当需要进行定位时，离合器断开自转驱动电机与旋转体之间的连接，使工件平台的定位能够顺利进行。本实用新型采用负压吸盘对工件进行固定，方便了工件的取放，提高了生产效率。

定位盘包括初定位大齿轮和固定在初定位大齿轮上端的圆盘，圆盘与初定位大齿轮之间同轴设置，圆盘上设置有U形缺口，需要说明的是本实用新型中工件平台的定位是通过定位插销与U形缺口的对插，实现公共平台的定位功能。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图。

图2为本实用新型中定位盘的立体结构示意图。

图中所述文字标注表示为：302、负压吸盘；3031、旋转体；3032、保护罩；3033、缺口；3034、气管接头；3035、自转驱动电机；3036、定位盘；3037、安装法兰；3038、电动离合器；30361、初定位大齿轮；30362、圆盘；30363、U形缺口。

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本实用新型的保护范围有任何的限制作用。

如图1-图2所示，本实用新型的具体结构为：它包括安装法兰3037、自转驱动电机3035和旋转体3031，旋转体3031的底部设置有电动离合器3038，电动离合器3038与自转驱动电机3035的输出轴连接，旋转体3031上固定设置定位盘3036，旋转体3031上安装有工件固定平台。

优选的，工件固定平台包括负压吸盘302和与负压吸盘302相连通的气管接头3034；旋转体3031的内部为中空结构，旋转体3031内部的中空结构中设置有抽气管；负压吸盘302和气管接头3034分别安装在抽气管的上下两端。

优选的，安装法兰3037的下端设置有保护罩3032，保护罩3032的侧壁上设置有缺口3033。

优选的，定位盘3036包括初定位大齿轮30361和固定在初定位大齿轮30361上端的圆盘30362，圆盘30362与初定位大齿轮30361之间同轴设置，圆盘30362上设置有U形缺口30363。

本实用新型与现有技术相比，具有以下优势：本实用新型具有离合功能，当需要进行定位时，离合器断开自转驱动电机与旋转体之间的连接，使工件平台的定位能够顺利进行。本实用新型采用负压吸盘对工件进行固定，方便了工件的取放，提高了生产效率。

定位盘包括初定位大齿轮和固定在初定位大齿轮上端的圆盘，圆盘与初定位大齿轮之间同轴设置，圆盘上设置有U形缺口，需要说明的是本实用新型中工件平台的定位是通过定位插销与U形缺口的对插，实现公共平台的定位功能。

需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，由于文字表达的有限性，而客观上存在无限的具体结构，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进、润饰或变化，也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合；这些改进润饰、变化或组合，或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均应视为本实用新型的保护范围。