离子溅射仪的制作方法

本实用新型主要涉及离子溅射镀膜领域，尤其涉及一种离子溅射仪。

背景技术：

离子溅射仪镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电产生带正电荷的气体离子，在阴极和阳极之间电压的加速作用下，带正电荷的气体离子轰击阴极表面使阴极表面材料原子化形成中性原子，从各个方向溅出并溅落到试样的表面，于是在试样表面形成一层均匀的薄膜。离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、银、铂以及混合靶材等金属元素消除了不导电样品的荷电现象，并提高了观测效果。另外，还可以使用喷镀附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。目前的溅射仪样品架为固定的，无法使溅射材料溅射到样品的侧面，降低了样品的导电性，还无法实现样品全面性和均匀性的喷镀，使得在扫描电镜中无法得到更加清晰的图像。现阶段需要得到清晰的图像就要对样品进行多次喷镀，既浪费了材料，也消耗了靶头，如果对样品侧面进行喷镀就需要对样品侧面进行垫高，使样品呈现一定的角度，如此往复，使侧面获得全部喷镀，但是喷镀的效果仍然不理想，得不到均匀喷镀，镀层薄的部分导电性不好，镀层厚的部分影响样品形貌，实验达不到预期效果。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种离子溅射仪，以解决对样品喷镀的全面性、均匀性问题。

为解决上述问题，本实用新型采用如下技术方案：

一种离子溅射仪，包括离子溅射仪本体和设置于离子溅射仪本体内的自动旋转样品架，自动旋转样品架用于在离子溅射仪本体对样品进行溅射镀膜时支撑并旋转样品。

进一步地，自动旋转样品架包括样品盘、螺柱和发条盒，样品盘与螺柱连接，螺柱与发条盒连接，样品盘通过螺柱连接于发条盒上方，发条盒通过驱动螺柱旋转来带动样品盘旋转，样品盘用于放置样品。

进一步地，样品盘上设置有样品桩放置孔，样品桩放置孔均匀间隔分布于样品盘上。

进一步地，样品盘上设置有样品桩放置槽，样品桩放置槽平行间隔分布于样品盘上。

进一步地，样品盘上设有侧面螺纹孔，通过螺钉穿过侧面螺纹孔将样品盘和螺柱连接。

进一步地，样品盘的盘面水平或竖直设置。

进一步地，样品盘的盘面倾斜设置。

进一步地，样品盘与螺柱转动连接，样品盘的盘面的角度可调。

有益效果：本实用新型提供的离子溅射仪，通过在离子溅射仪本体内设置自动旋转样品架，实现离子溅射仪对样品进行喷镀的同时，对样品进行旋转，进而实现对样品进行全面地、均匀地喷镀，避免了因喷镀不均匀或局部喷镀不到位，而需进行重复喷镀，造成不必要的浪费，降低了对靶头的消耗。本实用新型通过发条盒驱动样品盘的旋转，不需使用电机，无需改变常规离子溅射仪的现有线路，简单易制作，通过较低廉的成本，实现均匀喷镀效果。

附图说明

图1为本实用新型一实施例的离子溅射仪结构示意图；

图2为本实用新型一实施例中的自动旋转样品架结构示意图；

图3为本实用新型另一实施例中的自动旋转样品架正视结构示意图；

图4为图3所示实施例中的自动旋转样品架侧视结构示意图；

图5为本实用新型第三实施例中的自动旋转样品架侧视结构示意图；

图6为本实用新型一实施例中样品盘的俯视结构示意图；

图7为图6所示实施例中样品盘的正视结构示意图；

图8为本实用新型一实施例中样品盘与螺柱的连接结构示意图。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。

具体实施方式

应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示，在一实施例中，一种离子溅射仪，包括离子溅射仪本体0和设置于离子溅射仪本体0内的自动旋转样品架01，自动旋转样品架01用于在离子溅射仪本体0对样品进行溅射镀膜时支撑并旋转样品。

通过在离子溅射仪本体0内设置自动旋转样品架01，实现离子溅射仪对样品进行喷镀的同时，对样品进行旋转，进而实现对样品进行全面地、均匀地喷镀，避免了因喷镀不均匀或局部喷镀不到位，而需进行重复喷镀，造成不必要的浪费，降低了对靶头的消耗。

本实施例中，离子溅射仪本体0包括控制主机02和溅射室03，溅射室03设于控制主机02上，溅射室03与控制主机02连接，控制主机02用于控制溅射室03进行溅射工作。溅射室03顶部内设有溅射喷头04，溅射喷头04与控制主机02连接。

本实施例中，如图2-5所示，自动旋转样品架01包括样品盘4、螺柱2和发条盒1，样品盘4与螺柱2连接，螺柱2与发条盒1连接，样品盘4通过螺柱2连接于发条盒1上方，发条盒1通过驱动螺柱2旋转来带动样品盘4旋转，样品盘4用于放置样品。

通过发条盒1驱动样品盘4的旋转，不需使用电机，无需改变常规离子溅射仪的现有线路，简单易制作，通过较低廉的成本，实现相同效果。

在一些实施例中，如图2至图8所示，螺柱2下端穿过发条盒上盖伸进发条盒1，与发条心(图中未显示)连接；样品盘中心设有贯穿样品盘4的第一连接孔7，螺柱2的上端从样品盘背部中心垂直盘面穿进第一连接孔7与样品盘连接，使样品盘4的盘面垂直螺柱2；或者在样品盘侧面按特定的角度设置第二连接孔(图中未显示)，螺柱2的上端从第二连接孔穿进样品盘4与样品盘4连接，使样品盘4的盘面平行螺柱2或与螺柱2成一定的夹角；还可以在样品盘4背部设置转动连接部8，让螺柱2的上端通过转动连接部8与样品盘4转动连接，配合设置样品盘4的转动角度固定紧锁件9，实现样品盘4盘面的角度可调。

工作时，将拧紧发条盒1的自动旋转样品架01放入离子溅射仪本体0的溅射室03内，并将样品固定在自动旋转样品架01的样品盘4上，盖盒密闭溅射室03，启动离子溅射仪本体0的控制主机02，密闭溅射室03内顶部的溅射喷头04向自动旋转样品架01上的样品进行喷射。此时，自动旋转样品架01的样品盘4在发条盒1的驱动下旋转，样品盘4上的样品一边旋转一边接受溅射喷头04的溅射喷镀。

本实施例中，如图3所示，样品盘4上设置有样品桩放置孔3，样品桩放置孔3均匀间隔分布于样品盘4上。

通过样品桩放置孔3的设置，实现样品的固定放置，将样品桩放置孔3均匀间隔分布于样品盘4上，确保样品之间保持一定的距离，互不影响接受溅射喷头04对各自的喷射。

在另一实施例中，如1、6和图7所示，样品盘4上设置有样品桩放置槽6，样品桩放置槽6平行间隔分布于样品盘4上。

通过样品桩放置槽6固定放置样品，将样品桩放置槽6平行间隔分布于样品盘4上，确保样品之间保持一定的距离，互不影响接受溅射喷头04对各自的喷射。

本实施例中，如图1、2、图4和图5所示，样品盘4上设有侧面螺纹孔5，通过螺钉穿过侧面螺纹孔5将样品盘4和螺柱2连接。

通过螺纹孔和螺钉的配合使用，可将样品盘4和螺柱2稳固链接，确保样品盘4能够随着螺柱2在发条盒1的驱动下一起旋转，以带动样品旋转接受喷射。

本实施例中，如图1、2所示，样品盘4的盘面水平设置。螺柱2竖直设置，样品盘4与螺柱2连接，盘面与螺柱2垂直，使样品盘4的盘面呈水平状态。本实施例中，样品盘中心设有贯穿样品盘4的第一连接孔7，螺柱2的上端从样品盘背部中心垂直盘面穿进第一连接孔7与样品盘连接，使样品盘4的盘面垂直螺柱2。该设置，主要针对相对平整的样品的喷射摆放需求，将相对规则平整的样品放置在水平样品盘4上，接受溅射喷头04从上往下喷射，实现对其全方位均匀喷射。

另一实施例中，如图3和图4所示，样品盘4的盘面竖直设置。螺柱2竖直设置，样品盘4与螺柱2连接，样品盘4的盘面与螺柱2平行，使样品盘4的盘面呈竖直状态。本实施例中，在样品盘侧面按平行样品盘盘面的角度设置第二连接孔(图中未显示)，螺柱2的上端从第二连接孔穿进样品盘4与样品盘4连接。该设置，主要针对需要喷射其端面的样品的喷射摆放需求，将样品放置在竖直的样品盘4上，接受溅射喷头04从上往下喷射，实现对其端部的均匀喷射。

本实施例中，如图5所示，样品盘4的盘面倾斜设置，倾角为0-90°之间。样品盘4与螺柱2按一定的倾斜角度连接，使样品盘4的盘面呈倾斜状态，倾角为0-90°之间。例如，本实施例中，在样品盘侧面按照与样品盘盘面成45度角、30度角或60度角设置第二连接孔(图中未显示)，螺柱2的上端从第二连接孔穿进样品盘4与样品盘4连接。该设置主要针对样品喷射检测时的喷射摆放需求，对样品进行喷射盲点测试。设置的角度，可根据样品型号、规格确定。

在一实施例中，如图8所示，样品盘4与螺柱2转动连接，样品盘4的盘面的角度可调。在本实施例中，在样品盘4背部设置转动连接部8，让螺柱2的上端通过转动连接部8与样品盘4转动连接，配合设置样品盘4的转动角度固定紧锁件9，本实施例中，转动角度固定紧锁件9采用旋转螺栓。根据不同的样品喷射需求，转动样品盘4，调整样品盘4到一定的角度，通过转动角度固定件固定样品盘4，实现样品盘4的转动和定位，实现一个样品盘4即可满足多用途喷射需求。

本实用新型的离子溅射仪，通过在离子溅射仪本体内设置自动旋转样品架，实现离子溅射仪对样品进行喷镀的同时，对样品进行旋转，进而实现对样品进行全面地、均匀地喷镀，避免了因喷镀不均匀或局部喷镀不到位，而需进行重复喷镀，造成不必要的浪费，降低了对靶头的消耗。本实用新型通过发条盒驱动样品盘的旋转，不需使用电机，无需改变常规离子溅射仪的现有线路，简单易制作，通过较低廉的成本，实现相同效果。

以上仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效材料的变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。