技术特征：
技术总结
本发明涉及一种化学气相沉积非晶硅镀膜均匀性的改善方法。该化学气相沉积非晶硅镀膜均匀性的改善方法包括：降低非晶硅镀膜结构中高速沉积非晶硅层所占厚度比例；以及选定化学气相沉积制备高速沉积非晶硅层的关键参数，使得所述高速沉积非晶硅层均匀性较佳；所述非晶硅镀膜结构中高速沉积非晶硅层所占厚度比例小于70％。应用本发明化学气相沉积非晶硅镀膜均匀性改善方法改善非晶硅镀膜均匀性后，机台间差异变小，且整体随时间及机台变化较小，镀膜稳定，对产品特性及品质稳定有较大帮助。
技术研发人员：王鹏翔
受保护的技术使用者：深圳市华星光电技术有限公司
技术研发日：2019.03.13
技术公布日：2019.06.21