技术总结
本发明涉及一种锑化铟单晶片的抛光方法，属于光电材料技术领域。所述方法对锑化铟单晶片抛光过程中精抛溶液的配方进行设计，利用精抛溶液的化学作用，配合精密抛光机中抛光盘的机械作用，通过严格控制转速、压力以及精抛溶液的滴速，进行锑化铟单晶片的超精密平整化加工，实现抛光后的锑化铟单晶片的完美晶格，能够有效避免现有技术中抛光加工所造成的二次缺陷，弥补了锑化铟单晶片精密加工领域的空白。采用本发明所述抛光方法加工的锑化铟单晶片，由于晶格完美，因此利用其制备的红外探测器的成品率有长足的进步，且大大拓宽了锑化铟单晶片在红外探测器上的应用。
技术研发人员：龚晓霞;李德香;张丽霞;吴宇;杨雪;种苏然;杨文运;太云见;黄晖
受保护的技术使用者：云南北方昆物光电科技发展有限公司
技术研发日：2019.10.31
技术公布日：2020.02.14