技术特征：
1.一种真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述真空溅射镀膜装置包括镀膜室，所述镀膜室的上方和下方分别设有上阴极靶管以及下阴极靶管，所述镀膜室的中部的两侧设有位于上阴极靶管和下阴极靶管之间的基片载盘，两个所述基片载盘之间夹持有待镀膜基片，所述镀膜室上设有与所述基片载盘滑动连接的磁流体传动单元，所述磁流体传动单元和所述基片载盘之间设有绝缘组件。2.根据权利要求1所述的真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述磁流体传动单元的端部设有传动轮，所述基片载盘滑动设置在所述传动轮上。3.根据权利要求2所述的真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述绝缘组件包括绝缘套以及绝缘螺钉，所述绝缘套套装在所述磁流体传动单元的端部，所述传动轮套装在所述绝缘套外部，所述绝缘螺钉自所述传动轮的端部依次穿设所述传动轮和所述绝缘套与所述磁流体组件连接。4.根据权利要求3所述的真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述绝缘组件还包括绝缘护套，所述绝缘护套套装在所述磁流体传动单元的外周壁上，所述绝缘护套的内径大于所述磁流体传动单元的外径，以在所述绝缘护套和所述磁流体传动单元之间形成狭缝。5.根据权利要求4所述的真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述绝缘护套与所述传动轮之间通过紧固件连接。6.根据权利要求3所述的真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述基片载盘的截面呈工字，所述待镀膜基片与所述基片载盘的连接处设有绝缘板。7.根据权利要求6所述的真空溅射镀膜装置，其特征在于，所述绝缘板上设有支撑件，所述支撑件与所述所述绝缘板通过紧固件连接，所述支撑件设置有沿所述待镀膜基片延伸方向延伸设置的支撑板，所述待镀膜基片的端部设与所述支撑板上。
技术总结
本实用新型公开一种真空溅射镀膜装置，其包括镀膜室，所述镀膜室的上方和下方分别设有上阴极靶管以及下阴极靶管，所述镀膜室的中部的两侧设有位于上阴极靶管和下阴极靶管之间的基片载盘，两个所述基片载盘之间夹持有待镀膜基片，所述镀膜室上设有与所述基片载盘滑动连接的磁流体传动单元，所述磁流体传动单元和所述基片载盘之间设有绝缘组件。本实用新型提供的真空溅射镀膜装置将磁流体传动单元和基片载盘通过绝缘组件隔离开来，能够降低打火现象发生的概率，从而能够更好地保护产品。从而能够更好地保护产品。从而能够更好地保护产品。
技术研发人员：祝海生 力家东 黄乐 孙桂红 潘继峰
受保护的技术使用者：湘潭宏大真空技术股份有限公司
技术研发日：2021.12.31
技术公布日：2022/6/21