真空溅射镀膜装置的制作方法

1.本实用新型涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种真空溅射镀膜装置。


背景技术：

2.真空磁控溅射镀膜设备能够生产出广泛应用于生活中的镀膜玻璃，在实际生产过程中，玻璃基板依靠传送辊的传送实现在真空腔室中的移动。真空腔室中的传送辊在连续工作过程中，玻璃与传送辊道间会形成电势差，一定程度的电势差会产生打火现象而报废产品。


技术实现要素：

3.本实用新型的主要目的是提供一种真空溅射镀膜装置，旨在解决上述技术问题。
4.为实现上述目的，本实用新型提出的一种真空溅射镀膜装置包括镀膜室，所述镀膜室的上方和下方分别设有上阴极靶管以及下阴极靶管，所述镀膜室的中部的两侧设有位于上阴极靶管和下阴极靶管之间的基片载盘，两个所述基片载盘之间夹持有待镀膜基片，所述镀膜室上设有与所述基片载盘滑动连接的磁流体传动单元，所述磁流体传动单元和所述基片载盘之间设有绝缘组件。
5.在一实施例中，所述磁流体传动单元的端部设有传动轮，所述基片载盘滑动设置在所述传动轮上。
6.在一实施例中，所述绝缘组件包括绝缘套以及绝缘螺钉，所述绝缘套套装在所述磁流体传动单元的端部，所述传动轮套装在所述绝缘套外部，所述绝缘螺钉自所述传动轮的端部依次穿设所述传动轮和所述绝缘套与所述磁流体组件连接。
7.在一实施例中，所述绝缘组件还包括绝缘护套，所述绝缘护套套装在所述磁流体传动单元的外周壁上，所述绝缘护套的内径大于所述磁流体传动单元的外径，以在所述绝缘护套和所述磁流体传动单元之间形成狭缝。
8.在一实施例中，所述绝缘护套与所述传动轮之间通过紧固件连接。
9.在一实施例中，所述基片载盘的截面呈工字，所述待镀膜基片与所述基片载盘的连接处设有绝缘板。
10.在一实施例中，所述绝缘板上设有支撑件，所述支撑件与所述绝缘板通过紧固件连接，所述支撑件设置有沿所述待镀膜基片延伸方向延伸设置的支撑板，所述待镀膜基片的端部设与所述支撑板上。
11.本实用新型的技术方案中，真空溅射镀膜装置包括镀膜室，所述镀膜室的上方和下方分别设有上阴极靶管以及下阴极靶管，所述镀膜室的中部的两侧设有位于上阴极靶管和下阴极靶管之间的基片载盘，两个所述基片载盘之间夹持有待镀膜基片，所述镀膜室上设有与所述基片载盘滑动连接的磁流体传动单元，所述磁流体传动单元和所述基片载盘之间设有绝缘组件。因此，在本技术方案中，将磁流体传动单元和基片载盘通过绝缘组件隔离开来，能够降低打火现象发生的概率，从而能够更好地保护产品。
附图说明
12.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
13.图1为本实用新型实施例的真空溅射镀膜装置的结构示意图；
14.图2为图1中a处的放大示意图。
15.附图标号说明：10、镀膜室；20、上阴极靶管；30、下阴极靶管；40、磁流体传动单元；41、传动轮；50、基片载盘；51、绝缘板；52、支撑件； 53、支撑板；60、待镀膜基片；70、绝缘组件；71、绝缘套；72、绝缘螺钉； 73、绝缘护套。
16.本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
17.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
18.需要说明，本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
19.另外，在本实用新型中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
20.并且，本实用新型各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。
21.本实用新型提供一种真空溅射镀膜装置。
22.如图1-2所示，本实用新型实施例提供的真空溅射镀膜装置包括镀膜室10，所述镀膜室10的上方和下方分别设有上阴极靶管20以及下阴极靶管30，所述镀膜室10的中部的两侧设有位于上阴极靶管20和下阴极靶管30之间的基片载盘50，两个所述基片载盘50之间夹持有待镀膜基片60，所述镀膜室10上设有与所述基片载盘50滑动连接的磁流体传动单元40，所述磁流体传动单元40和所述基片载盘50之间设有绝缘组件70。
23.在本实施例中，真空溅射镀膜装置包括镀膜室10，所述镀膜室10的上方和下方分别设有上阴极靶管20以及下阴极靶管30，所述镀膜室10的中部的两侧设有位于上阴极靶管20和下阴极靶管30之间的基片载盘50，两个所述基片载盘50之间夹持有待镀膜基片60，所述镀膜室10上设有与所述基片载盘50滑动连接的磁流体传动单元40，所述磁流体传动单元40和所述基片载盘50之间设有绝缘组件70。因此，在本技术方案中，将磁流体传动单元40和基片载盘 50通过绝缘组件70隔离开来，能够降低打火现象发生的概率，从而能够更好地保
护产品。
24.其中，所述磁流体传动单元40的端部设有传动轮41，所述基片载盘50滑动设置在所述传动轮41上。所述绝缘组件70包括绝缘套71以及绝缘螺钉72，所述绝缘套71套装在所述磁流体传动单元40的端部，所述传动轮41套装在所述绝缘套71外部，所述绝缘螺钉72自所述传动轮41的端部依次穿设所述传动轮41和所述绝缘套71与所述磁流体组件连接。传动轮41通过m6绝缘螺丝与磁流体传动轴可靠连接保证传动扭矩，该绝缘螺丝的另一作用就是保证传动轮 41与磁流体传动轴之间也是可靠绝缘
25.进一步地，所述绝缘组件70还包括绝缘护套73，所述绝缘护套73套装在所述磁流体传动单元40的外周壁上，所述绝缘护套73的内径大于所述磁流体传动单元40的外径，以在所述绝缘护套73和所述磁流体传动单元40之间形成狭缝。所述绝缘护套73与所述传动轮41之间通过紧固件连接。在传动轮41上设置一绝缘护套73(材质为sus304)，内径尺寸大于传动轴外径，形成较小的狭缝，该狭缝的主要作用是防止镀膜过程中导电物飞溅到传动轮41与磁流体连接的绝缘套71上面从而导致载盘跟箱体导通。
26.另外，所述基片载盘50的截面呈工字，所述待镀膜基片60与所述基片载盘50的连接处设有绝缘板51。通过在待镀膜基片60与所述基片载盘50的连接处设有绝缘板51，以进一步提高绝缘效果。
27.进一步地，所述绝缘板51上设有支撑件52，所述支撑件52与所述所述绝缘板51通过紧固件连接，所述支撑件52设置有沿所述待镀膜基片60延伸方向延伸设置的支撑板53，所述待镀膜基片60的端部设与所述支撑板53上。在本实施例中，通过设置支撑板53来支撑待镀膜基片60，以使待镀膜基片60能够更为稳定地进行传输。
28.以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。