专利名称：一种离子膜烧碱装置脱氯塔的制作方法
技术领域：
本实用新型属于化工设备领域，更具体地说，是涉及一种离子膜烧碱装置脱氯塔。
背景技术：
离子膜烧碱是重要的化工原料，脱氯塔是离子膜烧碱的重要设备，通过脱氯塔充分回收了氯气，氯还可用于制碱、制皂业和生产氯气、氢氧化钠、还广泛应用于冶金、制革、 制药工业和农牧渔业等，此外，在食品、饲料、皮革、陶瓷、玻璃、染料、油脂、矿冶、医药等工业部门以及水处理，制冰冷藏、公路除雪等方面，盐都有广泛的用途。现有的脱氯塔容积小， 脱氯效果及耐蚀性差，效率低，设备的使用寿命短。
实用新型内容本实用新型就是针对上述问题，提供了一种脱氯效果好、液体分布均勻的离子膜烧碱装置脱氯塔。为了实现本实用新型的上述目的，本实用新型采用如下技术方案，其包括筒体、椭圆封头、支座、吊耳、压力计口、第一进液口、氯气出口和出液口，椭圆封头处于筒体的上下方，与筒体组成一个封闭的塔体，氯气出口和出液口分别设置在塔体的上下两端，塔体内设置有气液分布器和破涡器，气液分布器与第一进液口相通，破涡器处于塔体内的底部，且与出液口相对；气液分布器下方的填料层由填料支撑栅板和填料支撑组件支撑。所述塔体的侧方设置有人孔、空气进口和液位计口。所述气液分布器由孔管和法兰组成。所述破涡器由防涡板和圆盖板组成。所述塔体的容积为94. 9m3。所述填料支撑栅板是由多个连接条、扁钢钛条及调心块组成来支撑填料。所述填料层内的填料为Φ =47的十字球形瓷环。所述的筒体侧方设置了第二进液口 ；用于酸液的进入。本实用新型的有益效果本实用新型的脱氯塔，具有设备容积大，效率高，并带有气液分布器装置，液体分布更加均勻，脱氯效果好，制碱设备不腐蚀，节约了成本，设备使用寿命长的特点，使经济效益和环境效益均提高。
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图具体说明本实用新型，如图1所示，本实用新型包括筒体4、椭圆封头2、支座8、吊耳11、压力计口 12、第一进液口 9、氯气出口 13和出液口 17，椭圆封头2处于筒体4的上下方，与筒体4组成一个封闭的塔体，氯气出口 13和出液口 17分别设置在塔体的上下两端，塔体内设置有气液分布器10和破涡器1，气液分布器10与第一进液口 9相通，破涡器1处于塔体内的底部，且与出液口 17相对；气液分布器10下方的填料层7由填料支撑栅板6和填料支撑组件16支撑。塔体的侧方设置有人孔14、空气进口 5和液位计口 15。气液分布器10由孔管和法兰组成。破涡器1由防涡板和圆盖板组成。塔体的容积为 94. 9m3。填料层7内的填料为Φ =47的十字球形瓷环。筒体4下方设置了第二进液口 3。结合附图说明本实用新型的一次动作过程从离子膜电解槽流出的淡盐水通过第一进液口 9进入塔体内，并经气液分布器10 进行气液分离，分离出来的氯气从塔体上方的氯气出口 13排出，余下的液体向下进入塔体内，先后流经填料层7、筒体4、破涡器1，最后从出液口 17流出，达到了脱氯目的。
权利要求1.一种离子膜烧碱装置脱氯塔，包括筒体(4)、椭圆封头(2)、支座(8)、吊耳(11)、压力计口(12)、第一进液口(9)、氯气出口(13)和出液口(17)，椭圆封头(2)处于筒体(4)的上下两方，与筒体(4)组成一个封闭的塔体，氯气出口(13)和出液口(17)分别设置在塔体的上下两端，其特征在于塔体内设置有气液分布器(10)和破涡器(1)，气液分布器(10)与第一进液口(9)相通，破涡器(1)位于塔体内的底部，且与出液口(17)相对；气液分布器(10) 下方的填料层(7)由填料支撑栅板(6)和填料支撑组件(16)支撑。
2.根据权利要求1所述的一种离子膜烧碱装置脱氯塔，其特征在于，所述塔体的侧方设置有人孔(14)、空气进口(5)和液位计口(15)。
3.根据权利要求1所述的一种离子膜烧碱装置脱氯塔，其特征在于，所述气液分布器 (10)由孔管和法兰组成。
4.根据权利要求1所述的一种离子膜烧碱装置脱氯塔，其特征在于，所述破涡器(1)由防涡板和圆盖板组成。
5.根据权利要求1所述的一种离子膜烧碱装置脱氯塔，其特征在于，所述填料层(7)内的填料为φ =47的十字球形瓷环。
6.根据权利要求1所述的一种离子膜烧碱装置脱氯塔，其特征在于，所述塔体的容积为 94. 9m3。
7.根据权利要求1所述的一种离子膜烧碱装置脱氯塔，其特征在于，所述的筒体(4)侧方设置了第二进液口(3)。
专利摘要本实用新型涉及一种离子膜烧碱装置脱氯塔。本实用新型提供了一种脱氯效果好、液体分布均匀的离子膜烧碱装置脱氯塔。其包括筒体(4)、椭圆封头(2)、支座(8)、吊耳(11)、压力计口(12)、第一进液口(9)、氯气出口(13)和出液口(17)，椭圆封头(2)处于筒体(4)的上下方，与筒体(4)组成一个封闭的塔体，氯气出口(13)和出液口(17)分别设置在塔体的上下两端，塔体内设置有气液分布器(10)和破涡器(1)，气液分布器(10)与第一进液口(9)相通，破涡器(1)处于塔体内的底部，且与出液口(17)相对；气液分布器(10)下方的填料层(7)由填料支撑栅板(6)和填料支撑组件(16)支撑。
文档编号C01D3/04GK202116328SQ20112019234
公开日2012年1月18日 申请日期2011年6月9日 优先权日2011年6月9日
发明者林英, 王秋文 申请人:沈阳派司钛设备有限公司