可降低扰流的槽盘式液体循环系统的制作方法

本发明涉及一种液体循环系统，特别涉及一种可降低扰流的槽盘式液体循环系统。

背景技术：

近来，玻璃基材大量地使用在不同的产品上，尤其是显示器面板，因此各制造厂商纷纷引进不同的自动化流程以及自动化设备以提升产能，借此应付日益增加的需求量，然而在浸镀玻璃基材时，若浸镀液扰流过大则会导致玻璃基材表面平整度降低，因此如何提供一种可降低扰流的槽盘式液体循环系统以提升玻璃基材表面平整度便成为业界努力的课题的一。

技术实现要素：

因此，本发明提供一种可降低扰流的槽盘式液体循环系统，以解决上述问题。

为达成上述目的，本发明公开一种可降低扰流的槽盘式液体循环系统，其包括一槽体、一进液装置以及一输送装置，所述槽体包括一底壁以及一环绕侧壁，所述环绕侧壁突出于所述底壁，所述环绕侧壁与所述底壁共同定义一容置空间及连通于所述容置空间的一开口，其中所述容置空间用以容置一液体，所述进液装置设置在所述槽体的上方，所述进液装置沿一第一方向通过所述开口提供一补充液体至位于所述容置空间内的所述液体，所述输送装置设置在所述槽体的所述容置空间内，所述输送装置用以沿一第二方向输送一平板构件通过所述液体。

根据本发明其中的一实施例，所述环绕侧壁上形成有连通于所述容置空间的一入口，且所述平板构件由所述入口进入所述容置空间。

根据本发明其中的一实施例，所述槽盘式液体循环系统还包含一入口输 送装置，设置在所述入口相对所述容置空间的一侧，所述输送装置与所述入口输送装置共同将所述平板构件通过所述入口送入所述容置空间。

根据本发明其中的一实施例，所述槽盘式液体循环系统还包含一入口闸门，枢接于所述环绕侧壁邻近所述入口处，用以选择性地封闭所述入口。

根据本发明其中的一实施例，位于所述容置空间的所述液体具有一液面，所述液面与所述底壁的一第一距离大于所述入口的一上端缘与所述底壁的一第二距离，且所述第一距离与所述第二距离之差为一第一距离差。

根据本发明其中的一实施例，所述第一距离差大于或等于20厘米。

根据本发明其中的一实施例，所述环绕侧壁上形成有连通于所述容置空间的一出口，且所述平板构件由所述出口离开所述容置空间。

根据本发明其中的一实施例，所述槽盘式液体循环系统还包含一出口输送装置，设置在所述出口相对所述容置空间的一侧，所述输送装置与所述出口输送装置共同将所述平板构件通过所述出口送出所述容置空间。

根据本发明其中的一实施例，所述槽盘式液体循环系统还包含一出口闸门，枢接于所述环绕侧壁邻近所述出口处，用以选择性地封闭所述出口。

根据本发明其中的一实施例，位于所述容置空间的所述液体具有一液面，所述液面与所述底壁的一第三距离大于所述出口的一上端缘与所述底壁的一第四距离，且所述第三距离与所述第四距离之差为一第二距离差。

根据本发明其中的一实施例，所述第二距离差大于或等于20厘米。

根据本发明其中的一实施例，所述环绕侧壁上形成有一入口及一出口，所述入口与所述出口分别连通于所述容置空间，所述平板构件由所述入口进入所述容置空间且由所述出口离开所述容置空间，所述进液装置以一流入量通过所述开口提供所述补充液体至位于所述容置空间内的所述液体，所述入口以一入口流出量将所述液体由所述槽体排出，所述出口以一出口流出量将所述液体由所述槽体排出，且所述流入量大于或等于所述入口流出量与所述出口流出量的和。

根据本发明其中的一实施例，所述槽盘式液体循环系统还包括一控制单元，耦接于所述进液装置，所述控制单元依据所述液体的一液面位置控制所述进液装置提供所述补充液体至位于所述容置空间的所述液体。

根据本发明其中的一实施例，所述第一方向垂直于所述第二方向。

根据本发明其中的一实施例，所述环绕侧壁上形成有连通于所述容置空间的一入口与一出口，且所述槽盘式液体循环系统还包含一入口输送装置以及一出口输送装置，所述入口输送装置设置在所述入口相对所述容置空间的一侧，所述入口输送装置与所述输送装置共同将所述平板构件通过所述入口送入所述容置空间，所述出口输送装置设置在所述出口相对所述容置空间的一侧，所述出口输送装置与所述输送装置共同将所述平板构件通过所述出口送出所述容置空间，其中所述输送装置、所述入口输送装置以及所述出口输送装置分别为一滚轮装置。

综上所述，本发明槽盘式液体循环系统利用入口输送载具、输送载具与出口输送载具共同驱使平板构件沿第二方向通过入口送入槽体的容置空间，再通过出口送出槽体的容置空间，以达到自动化浸镀平板构件的目的。此外本发明槽盘式液体循环系统另利用进液装置由液体的液面的上方提供补充液体，因此当进液装置所提供的补充液体进入液体的液面时，上述液体的液面与平板构件的上表面间保持有一定距离的设计，可防止补充液体在进入液体的液面时所产生的扰流影响平板构件的上表面，进而确保平板构件的上表面的平面完整度。有关本发明的前述及其他技术内容、特点与功效，在以下配合参考附图的实施例的详细说明中，将可清楚的呈现。

附图说明

图1为本发明实施例槽盘式液体循环系统的示意图。

图2为本发明实施例槽盘式液体循环系统的功能方块示意图。

其中，附图标记说明如下：

1 槽盘式液体循环系统

10 槽体

101 底壁

102 环绕侧壁

103 容置空间

104 开口

105 入口

106 出口

11 进液装置

12 输送装置

13 入口输送装置

14 入口闸门

15 出口输送装置

16 出口闸门

17 控制单元

2 平板构件

D1 第一方向

D2 第二方向

L 液体

S 补充液体

X1 第一距离

X2 第二距离

X3 第三距离

X4 第四距离

Y1 第一距离差

Y2 第二距离差

Q1 入口流出量

Q2 出口流出量

C 液面

具体实施方式

以下实施例中所提到的方向用语，例如：上、下、左、右、前或后等，仅是参考附加附图的方向。因此，使用的方向用语是用来说明并非用来限制本发明。请参阅图1及图2，图1为本发明实施例一槽盘式液体循环系统1的示意图，图2为本发明实施例槽盘式液体循环系统1的功能方块示意图。如图1及图2所示，槽盘式液体循环系统1包括一槽体10、一进液装置11、一输送装置12、一入口输送装置13、一入口闸门14、一出口输送装置15、一出口闸门16以及一控制单元17，槽体10包括一底壁101以及一环绕侧壁102，环绕侧壁102突出于底壁101，环绕侧壁102与底壁101共同定义一容置空间103及连通于容置空间103的一开口104，其中容置空间103用以容置一液体L，且环绕侧壁102上形成有连通于容置空间103的一入口105以及一出口106。在本实施例中，入口105与出口106位于环绕侧壁102的相对两侧，但本发明不受此限。

此外，进液装置11设置在槽体10的上方，进液装置11沿一第一方向D1通过开口104提供一补充液体S至位于容置空间103内的液体L，使位于容置空间103内的液体L借由补充液体S的补充而维持稳定。输送装置12设置在槽体10的容置空间103内且浸泡于液体L内，入口输送装置13设置在入口105相对容置空间103的一侧，即入口输送装置13与输送装置12位于入口105的相对两侧，出口输送装置15设置在出口106相对容置空间103的一侧，即出口输送装置15与输送装置12位于出口106的相对两侧，入口闸门14枢接于环绕侧壁102邻近入口105处，出口闸门16枢接于环绕侧壁102邻近出口106处。在本实施例中，输送装置12、入口输送装置13以及出口输送装置15可分别为一滚轮装置，而本发明并不局限于此。

此外，如图1以及图2所示，液体L具有一液面C，控制单元17耦接于进液装置11、入口闸门14以及出口闸门16，而本发明槽盘式液体循环系统1另可包含一液位侦测装置(未绘示于图中)，所述液位侦测装置耦接于控制单元17，用以侦测位于容置空间103的液体L的液面C的一液面位置，控制单元17依据液体L的所述液面位置控制进液装置11提供补充液体S至位于容置空间103的液体L，且控制单元17另分别控制入口闸门14以及出口闸门16选择性地封闭入口105以及出口106。

另外，入口输送装置13与输送装置12可共同用以将一平板构件2沿一第二方向D2通过入口105送入容置空间103并通过液体L，且出口输送装置15与输送装置12共同将平板构件2沿第二方向D2通过出口106送出容置空间103。在本实施例中，第一方向D1可垂直于第二方向D2，即本发明进液装置11所提供的补充液体S的液体补充方向(即第一方向D1)垂直于平板构件2的输送方向(即第二方向D2)。当欲浸镀平板构件2时，首先将平板构件2放置于入口输送装置13上，入口输送装置13即可沿第二方向D2输送平板构件2，当平板构件2位于靠近槽体10的入口105处时，控制单元17控制入口闸门14敞开于入口105，以使入口输送装置13可顺利地将平板构件2通过入口105送入槽体10的容置空间103内的输送装置12，于上述过程中，当入口闸门14不封闭入口105时(即当入口105呈敞开状态时)，位于容置空间103内的液体L则会由入口105排出，接着，当入口输送装置13与输送装置12共同驱使平板构件2完全进入槽体10的容置空间103内后，控制单元17控制入口闸门14封闭入口105。

当平板构件2浸镀完毕时，平板构件2随着输送装置2由槽体10的容置空间103内靠近入口105处沿第二方向D2送至靠近出口106处，此时控制单元17控制出口闸门16敞开于出口106，以使输送装置12可顺利地将平板构件2通过出口106送至出口输送装置15，于上述过程中，当出口闸门16不封闭出口106时(即当出口106呈敞开状态时)，位于容置空间103内的液体L则会由出口106排出，接着，当出口输送装置15与输送装置12共同驱使平板构件2完全离开槽体10的容置空间103后，控制单元17控制出口闸门16封闭出口106。

值得一提的是，如图1所示，位于容置空间103的液体L的液面C与底壁101的一第一距离X1大于入口105的一上端缘与底壁101的一第二距离X2，且第一距离X1与第二距离X2之差为一第一距离差Y1，即液体L的液面C与入口105的所述上端缘相距第一距离差Y1，以确保平板构件2的上表面与液体L的液面C保持一定的距离。在本实施例中，第一距离差Y1可大于或等于20厘米，但本发明不受此限。此外，由于本发明进液装置11由液体L的液面C的上方提供补充液体S，因此当进液装置11所提供的补充液体S进入液体L的液面C时，上述液体L的液面C与平板构件2的上表面间保 持有一定距离的设计，可防止补充液体S在进入液体L的液面C时所产生的扰流影响平板构件2的上表面，进而确保平板构件2的上表面的平面完整度。

另外，当控制单元17控制入口闸门14敞开于入口105时，液体L会以一入口流出量Q1通过入口105由槽体10排出，此时位于容置空间103内的液体L的液面C便会降低，当液位侦测装置侦测位于容置空间103内的液体L的液面C低于一默认位置时，控制单元17便会控制进液装置11提供补充液体S至位于容置空间103的液体L，以维持液体L的液面C与入口105的所述上端缘相距第一距离差Y1(即20厘米)，进而避免液体L在进液装置11提供补充液体S时所产生的液面扰动影响平板构件2的上表面的平整度。

同理，如图1所示，液面C与底壁101的一第三距离X3大于出口106的一上端缘与底壁101的一第四距离X4，且第三距离X3与第四距离X4之差为一第二距离差Y2，即液体L的液面C与出口106的所述上端缘相距第二距离差Y2，以确保平板构件2的上表面与液体L的液面C保持一定的距离。在本实施例中，第三距离X3等于第一距离X1，第四距离X4等于第二距离X2，且第二距离差Y2可等于第一距离差Y1(即第二距离差Y2大于或等于20厘米)，但本发明不受此限。

当控制单元17控制出口闸门16敞开于出口106时，液体L以一出口流出量Q2通过出口106由槽体10排出，此时位于容置空间103内的液体L的液面C便会降低，当液位侦测装置侦测位于容置空间103内的液体L的液面C低于一默认位置时，控制单元17便会控制进液装置11提供补充液体S至位于容置空间103的液体L，以维持液体L的液面C与出口106的所述上端缘相距第二距离差Y2(即20厘米)，进而避免液体L在进液装置11提供补充液体S时所产生的液面扰动影响平板构件2的上表面的平整度

相较于现有技术，本发明槽盘式液体循环系统利用入口输送载具、输送载具与出口输送载具共同驱使平板构件沿第二方向通过入口送入槽体的容置空间，再通过出口送出槽体的容置空间，以达到自动化浸镀平板构件的目的。此外本发明槽盘式液体循环系统另利用进液装置由液体的液面的上方提供补充液体，因此当进液装置所提供的补充液体进入液体的液面时，上述液体的液面与平板构件的上表面间保持有一定距离的设计，可防止补充液体在进入液体的液面时所产生的扰流影响平板构件的上表面，进而确保平板构件的上 表面的平面完整度。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。