本发明涉及气泡石的生产制作，尤其是一种陶瓷气泡石的生产工艺。
背景技术：
气泡石又称散气石，是家用臭氧配套的必备用具，在水产养殖中起着举足轻重的作用。目前，国内水产养殖场使用的气泡石均是用常规的粘合剂粘接而成，它的外观粗糙，不防水、不耐磨，而且强度低，易损坏，透气性也较差。为了解决上述问题，现目前有的厂家通过添加砂粉，使得制成的气泡石的气孔更小，从而提高气泡石的整体强度。但是这种结构的气泡石由于生产工艺复杂，成本较高，目前很难被大众消费者接受。
技术实现要素：
针对现有技术中的上述不足，本发明的主要目的在于解决现目前的气泡石强度低、易损坏，而且成本较高的问题，而介绍一种具有较好的结构强度，同时制作成本较低，透气性也较好的陶瓷气泡石的生产工艺。
本发明的技术方案：一种陶瓷气泡石的生产工艺，其特征在于，包括以下原料：长石10-15份、滑石粉22-25份、碳化硅12-15份、工业磷酸3-8份、磷石膏2-5份、氧化铝5-8份、高岭土10-15份、聚丙烯纤维8-12份、减水剂8-10份；具体生产步骤如下：
1）将上述备好的长石、碳化硅和磷石膏混合研磨成粉，搅拌后，再加入发泡剂和有机溶剂后，制成混合均匀的初级浆料，所述初级浆料中，有机溶剂和发泡剂的质量比为1：4；
2）将所述初级浆料过滤，然后加入氧化铝，加热升温至250℃-280℃，持续时间0.3-0.5小时，然后再加入滑石粉和聚丙烯纤维，加热升温至350℃-380℃，并通入氮气，持续时间1-1.5小时，然后再加入工业磷酸，加热升温至500℃-580℃，持续通入氮气，加热时间0.5-1小时；
3）将步骤2）中的物料倒入料斗中，采用模温机进行快速降温，当物料温度降低至230℃时，加入高岭土，同时搅拌物料，并通入氮气；然后继续降温，当物料温度降低至150℃时，加入减水剂，持续1小时，然后停止通入氮气，搅拌均匀后，将物料倒入到模具中，并快速降温至常温；
4）将所述模具中的物料冷却后脱模，得到气泡石坯料，将所述气泡石坯料放入到冷冻室内进行低温加压，温度控制在-15℃至-5℃，持续时间1.5小时，低温过程中通入氧气，并在气泡石坯料表面喷洒有机溶剂，低温加压完成后，得到气泡石；
5）将所述气泡石表面进行抛光，抛光时涂抹色釉。
优化地，所述色釉可以为三氧化二铁、氧化铜、氧化钴或氧化锰。
优化地，步骤1）中的有机溶剂为异丙醇，步骤4）中的有机溶剂为二甲苯。
优化地，所述透水砖中气孔的粒径为0.25-0.35mm。
相对于现有技术，本发明具有以下有益效果：
1、提高了产品的整体结构强度，本发明通过采用多种物料的组合进行焙烧，并以陶瓷材料为基础，使得气泡石的结构发生变化，内部的气泡密度更小，更加均匀，从而整体的强度得到提升，不易损坏。
2、降低了制作成本，相比较于同类型的高强度气泡石，本发明以陶瓷为基础原料，以陶瓷的制作手段为基础，能够大大的降低制作工艺的难度和成本，从而使得产品的生产成本更低。
3、透气性更好，由于气泡的均匀度更好，而且陶瓷自身的透气性较好，因此对于气泡石的整体透气性也有明显提升。
具体实施方式
本发明的一种陶瓷气泡石的生产工艺，包括以下原料：长石10-15份、滑石粉22-25份、碳化硅12-15份、工业磷酸3-8份、磷石膏2-5份、氧化铝5-8份、高岭土10-15份、聚丙烯纤维8-12份、减水剂8-10份；具体生产步骤如下：
1）将上述备好的长石、碳化硅和磷石膏混合研磨成粉，搅拌后，再加入发泡剂和有机溶剂后，制成混合均匀的初级浆料，所述初级浆料中，有机溶剂和发泡剂的质量比为1：4；
2）将所述初级浆料过滤，然后加入氧化铝，加热升温至250℃-280℃，持续时间0.3-0.5小时，然后再加入滑石粉和聚丙烯纤维，加热升温至350℃-380℃，并通入氮气，持续时间1-1.5小时，然后再加入工业磷酸，加热升温至500℃-580℃，持续通入氮气，加热时间0.5-1小时；
3）将步骤2）中的物料倒入料斗中，采用模温机进行快速降温，当物料温度降低至230℃时，加入高岭土，同时搅拌物料，并通入氮气；然后继续降温，当物料温度降低至150℃时，加入减水剂，持续1小时，然后停止通入氮气，搅拌均匀后，将物料倒入到模具中，并快速降温至常温；
4）将所述模具中的物料冷却后脱模，得到气泡石坯料，将所述气泡石坯料放入到冷冻室内进行低温加压，温度控制在-15℃至-5℃，持续时间1.5小时，低温过程中通入氧气，并在气泡石坯料表面喷洒有机溶剂，低温加压完成后，得到气泡石；
5）将所述气泡石表面进行抛光，抛光时涂抹色釉。
本发明中，所述色釉可以为三氧化二铁、氧化铜、氧化钴或氧化锰。所述步骤1）中的有机溶剂为异丙醇，步骤4）中的有机溶剂为二甲苯。所述透水砖中气孔的粒径为0.25-0.35mm。
需要说明的是，以上实施例仅用以说明本发明技术方案而非限制技术方案，尽管申请人参照较佳实施例对本发明作了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，那些对本发明技术方案进行的修改或者等同替换，不能脱离本技术方案的宗旨和范围，均应涵盖在本发明权利要求范围当中。