本发明属于玉石陶瓷制作技术领域，尤其涉及玉石陶瓷系列产品及其制作工艺。
背景技术：
玉石制品以其美好的寓意深受人们的喜爱，玉石文化被国人赋予深厚的内涵。《本草纲目—金石部第八卷》中记载，玉具有：“除胃中热、喘急烦懑、滋毛发、滋养五脏、柔筋强骨、止渴、润心肺、助声喉、安魂魄、利血脉、明耳目”等疗效。由此可见，玉石自古即以入药，它对于疗疾和保健具有极好的作用。
玉中含有选多人体所需的微量元素{硅(si)，镁(mg)，还含有铁(fe)，镍(ni)，铬(cr)，钙(ca)等}。所以经常佩带使用玉就能使这些有益的元素通过皮肤的穴位浸润进入人体，从而平衡阴阳气血的失调，有益于促进人的身体健康。而且这些微量元素不但维持正常生理功能，它们在人体中含量的多少也会影响到人的智力、情绪等，是人类心理健康的物质基础，由此制作的容器，起到润心肺，助生喉，健脑提神，延年益寿之功效。
玉石还有美容养颜的功效。玉石特殊的光电效应，在磨擦、搓滚过程中，可以聚热蓄能，形成一个电磁场，相当于电子计算机中的谐振器，它会使人体产生谐振，促进各部位、各器官更协调、更精确的运转，从而达到稳定情绪，平衡生理机能的作用。
玉石具有一定的电磁场效应。科学测试玉石具有一定的“光电效应”，对其略施加压力、切削及精加工打磨的过程中会产生一种效应，聚焦蓄能形成一个“电磁场”，放射出一种能被人体吸收的远红外线波，进而诱发人体内细胞水分子的强烈共振，使之起轻微按摩，改善微循环系统，从而使人体血液循环加快和新陈代谢提升，活化细胞组成，调节经络气血的精确运转，增强快速反应，提高人体的免疫功能。
由于玉石储量稀少而价格昂贵，将玉石直接加工成工艺制品成本高，难以被普通人所接受；将玉石作为陶瓷的原料进行制备，在现有技术中少有公开。而且由于玉质硬脆，裂纹多，不易雕刻，其加工、生产过程中容易产生裂纹影响美观，甚至破碎难以成形。
玉石加工过程中往往生产一些废料，利用这些废料再加工成产品成本低。
陶瓷生产工艺因其采用高温烧制，产品不掉色、不吸水、不变形、易清洗，机械强度高、耐磨性、耐腐蚀性好，热稳定性好。
将玉石的废料粉碎采用陶瓷的制备工艺制作产品的技术，不仅可以制备成带有玉石外观的工艺品，而且成本大大降低，同时产品的外观接近玉石，产品的强度和硬度等性能比玉石大大改善，将对于玉石产品的普及和生产带来极大的益处。
技术实现要素：
为解决玉石产品成本高，无法普及，玉石产品易碎、有裂纹，不宜加工的缺陷，本发明提供一种玉石陶瓷系列产品制作工艺，以及一种将玉石制备成陶瓷产品的制作工艺，不仅可以降低生产成本，而且制得的产品外观近似玉石本体，机械强度和性能比玉石高。所述技术方案如下所述：
玉石陶瓷系列产品，包括：
玉石，含量为10-50％；
水晶砂，含量为20-50％；
高岭石，含量为20-55％；
釉料，含量为5-15％。
优选的，所述玉石含量为30％，水晶砂含量为25％，高岭石含量为35％，釉料为10％。
更优选的，所述玉石、水晶砂、高岭石以及釉料的晶粒粒径范围为600-1000目，所述粒径根据产品性能要求而定。
更优选的，所述玉石陶瓷系列产品的硬度为7-7.5。
作为主要成分的玉石，一般的，玉石包括软玉和硬玉，软玉狭义上是指和田玉，广义上包括岫岩玉，南阳玉，酒泉玉等十多种软玉。硬玉只指翡翠。
软玉标准颜色以白色最佳，羊脂玉为最佳。其它各色也有佳品。黄玉紫玉色浓的好，墨玉墨点多的好。玉颜色内蕴通透的好。硬玉颜色以绿色最好，通透程度越高越高。
水晶砂(rockcrystal)是稀有矿物，宝石的一种，石英结晶体，在矿物学上属于石英族。主要化学成份是二氧化硅，化学式为sio2。，反射:170,170,170；光泽度:0.85；莫氏硬度为7；晶体惯态：常呈六棱柱状，是六方柱和菱面体的聚形，矿物密度2.65克/立方厘米，比重；2.22-2.65，折射率；no＝1.544,ne＝1.553，双折射率；0.009，色散；0.013，熔点；1713℃。水晶砂的加入可以增加产品的透明度和白度。
高岭石，俗称“瓷土”，白色软泥状。硬度2.0～3.5，相对密度2.60～2.63。致密块体具粗糙感，干燥时具吸水性，湿态具可塑性，但加水不膨胀。干燥后粘土有吸润性。耐火度高，可达1770～1790℃。其理论组成是约：sio2约46.54％、al2o3约39.5％、h2o约13.96％。加入高岭石起到黏合作用，防止混合器松散。
釉料；釉料采用天然矿物原料(长石、方解石、石英、滑石、高岭土等)和化工原料按一定比例配料，经细磨制成的结晶釉。包括高温釉(熔点>1250℃)、中温釉(熔点1100～1250℃)和低温鼬(熔点<1100℃)等。
本发明还提供了玉石陶瓷系列产品制作工艺，包括如下步骤：
第一步，粉碎：将玉石、水晶砂、高岭石和釉料分别粉碎成粉状，即为玉石晶粒、水晶砂晶粒、高岭石晶粒和釉料晶粒；
第二步，淘洗：用水将第一步制得的玉石晶粒进行淘洗；
第三步，材料混合：将经第二步淘洗后的玉石晶粒与水晶砂晶粒、高岭石晶粒按组成含量混合，加入混合物质量30％的水，搅拌均匀，形成泥状；
第四步，练泥：将第三步所得泥状物根据产品大小分成大小泥块，将泥块中空气挤压出来形成泥团；
第五步，拉坯；形成坯体大体模样；
第六步，印坯；
第七步，利坯：使坯体厚度适当，表里光洁，形体连贯、规整一致；
第八步，晒坯：将加工成型的坯胎晾晒6-10小时；
第九步，刻花；
第十步，施釉；
第十一步，烧窑；
第十二步，彩绘，制得成品。
更具体的，所述制备过程如下：
第一步，粉碎：大块玉石、水晶砂、高岭石和釉料分别进入鄂破机破成10厘米块状，经锤破敲碎至鸡蛋大小的块状,再经球磨机至800-1000目粉状玉石晶粒、水晶砂晶粒、高岭石晶粒和釉料晶粒。
第二步，淘洗：用水洗法经800-1000网目加工成极细碎粒径的玉料即玉石晶粒倒入池内进行陶洗，从高到低层层过滤，清除杂质，化成泥浆，水浆经不同池子顺势流向低池子中，粗大的瓷料先沉淀，最细的瓷料沉淀在最低的池子内，蒸发水分后成泥块状，也就是制瓷坯泥。
第三步，材料混合：将经第二步淘洗后的玉石晶粒与水晶砂晶粒、高岭石晶粒按组成含量混合，加入混合物质量30％的水搅拌均匀，形成泥状；
第四步，练泥：将第三步所得泥状物根据产品大小分成大小泥块，用双手搓揉，或用脚踩踏60分钟，把泥团中的空气挤压出来，并使泥中的水分均匀，直至切面后观察无气泡为止。
第五步，拉坯：将泥团摔掷在辘轳车的转盘中心，根据器物尺寸大小和造型分段拉制,随手法的屈伸收放拉制出坯体的大致模样。
第六步，印坯：印模的外形是按坯体内形弧线旋削而成的，将5-7小时晾至半干坯覆在模种上，均匀按拍坯体外壁，然后脱模。
第七步，利坯：也称“修坯”或“旋坯”,将坯胎放于辘轳车的利桶上，转动车盘，用刀旋削，手随泥走，泥随手变，使坯体厚度适当，表里光洁，形体连贯、规整一致。内外修坯是玉石制瓷工艺中一个极为重要并优于其他窑系的成型技术，是形成玉瓷风格的一个独特的技术工艺。利坯工不仅需要熟悉玉料性能,而且要熟练掌握造型的曲线变化和烧成时各部位的收缩比,以及各部位厚薄程度。因为不同部位在高温烧成时的收缩率和受力情况不一致,因而利坯时应控制不同部位的泥坯厚度,以防止其烧造时变形。利坯时对于坯体厚薄程度的控制及其识别方法,是掌握技术和确保质量的关键。测定坯体厚薄是以手指上下抚摸并轻轻弹叩,听其不同部位的响声而断定。坯体较厚者,弹之发出“咯咯”之声,修至中等厚度时则发出“咚咚”之声；修至适当薄度时,弹之则发出“卟卟”的脆声。
第八步，晒坯：将加工成型后的坯胎摆放在木架上晾晒6-10小时；加入玉石粉后的干燥时间仅6小时，干燥时间明显缩短，拉坯不易断裂。
第九步，刻花：用竹、骨或金属刀具在已晾干的坯体上刻画花纹。
第十步，施釉：使用第一步制备的釉料晶粒施釉，采用醮釉、荡釉、吹釉方法，根据各种釉的不同流动性,使坯体各部分的釉层均匀一致,厚薄适当。
第十一步，烧窑：把玉料制品装入窑内匣钵，匣是陶瓷制品焙烧的容器,以耐火材料制成,作用是防止玉坯与窑火直接接触,避免污染。烧窑时间为24小时，低温不低于1350度，高温不高于1450度。先砌窑门，点火烧窑，燃料是松柴，技术人员24小时现场测看火候，掌握窑温变化，决定停火时间。
第十二步，彩绘：是在已烧成玉瓷的表面上绘画各种不同颜色的图案，再入红炉以低温700-800度，时间10小时，达到玉瓷成品永不退色，因玉瓷属于特殊材料制品，为充分显示玉石本色，烧制出的玉瓷一般不进行彩绘再加工，但也可根据用户需求在不失本色基础上进行绘画。
采用以上工艺制备的玉石陶瓷产品成品外观亮度增加70％，透明度增加30％，莫氏硬度，抗压、抗涨强度，大大增加。清如水，明如镜，声如磬。晶莹剔透，碧如夏荷，粉白黛绿，凝重丰腴。手感温润而泽，细腻媲美羊脂，因玉质包含的矿物质和特殊的配方，器皿不沾油腻，隔热性强，不易磨损，吸水率几近于零，越用越光滑。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1.采用本发明提供的工艺制作的玉石产品莫氏硬度：7-7.5，与玉石本体相比，硬度高，韧性强，不易碎；
2.干燥时间显著缩短；
3.制得的玉石产品外观、色泽与玉石本体即为相似，观赏性佳；但由于玉石材料用量少，且采用的是玉石加工剩余的废料，生产成本极低，适宜扩大生产和普及；
4.可以将本工艺应用于多种形状工艺品的制作过程，不受产品形状的限制，避免了玉石产品雕刻时易碎易产生裂纹的缺点，应用范围更广，成品率高；
5.将传统的玉石雕刻工艺转变为陶瓷加工，有利于增加玉石产品的产量，有助于更普遍的弘扬玉石文化。
具体实施方式
应该指出，以下详细说明都是示例性的，旨在对本发明提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本发明所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。
需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本发明的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
实施例1：
玉石陶瓷系列产品，包括玉石含量为30％，水晶砂含量为25％，高岭石含量为35％，釉料为10％，各成分研磨成粉，晶粒粒径为800目。
实施例2：
玉石陶瓷系列产品，包括玉石含量为10％，水晶砂含量为50％，高岭石含量为25％，釉料为15％，各成分研磨成粉，晶粒粒径为600目。
实施例3：
玉石陶瓷系列产品，包括玉石含量为20％，水晶砂含量为20％，高岭石含量为55％，釉料为5％，各成分研磨成粉，晶粒粒径为1000目。
实施例4：
玉石陶瓷系列产品，包括玉石含量为50％，水晶砂含量为20％，高岭石含量为20％，釉料为10％，各成分研磨成粉，晶粒粒径为600目。
实施例5：
玉石陶瓷系列产品制作工艺，包括如下步骤：
第一步，粉碎：大块玉石、水晶砂、高岭石和釉料分别进入鄂破机破成10厘米块状，经锤破敲碎至鸡蛋大小的块状，再经球磨机至600-1000目粉状玉石晶粒、水晶砂晶粒、高岭石晶粒和釉料晶粒。
第二步，淘洗：用水洗法经600-1000网目加工成极细碎粒径的玉料即玉石晶粒倒入池内进行陶洗，从高到低层层过滤，清除杂质，化成泥浆，水浆经不同池子顺势流向低池子中，粗大的瓷料先沉淀，最细的瓷料沉淀在最低的池子内，蒸发水分后成泥块状，也就是制瓷坯泥。
第三步，材料混合：将经第二步淘洗后的玉石晶粒与水晶砂、高岭石晶粒按组成含量混合，加入混合物质量30％的水，搅拌均匀，形成泥状；
第四步，练泥：将第三步所得泥状物根据产品大小分成大小泥块，用双手搓揉，或用脚踩踏60分钟，把泥团中的空气挤压出来，并使泥中的水分均匀，直至切面后观察无气泡为止。
第五步，拉坯：将泥团摔掷在辘轳车的转盘中心，根据器物尺寸大小和造型分段拉制,随手法的屈伸收放拉制出坯体的大致模样。
第六步，印坯：印模的外形是按坯体内形弧线旋削而成的，将5-7小时晾至半干坯覆在模种上，均匀按拍坯体外壁，然后脱模。
第七步，利坯：也称“修坯”或“旋坯”,将坯胎放于辘轳车的利桶上，转动车盘，用刀旋削，手随泥走，泥随手变，使坯体厚度适当，表里光洁，形体连贯、规整一致。内外修坯是玉制瓷工艺中一个极为重要并优于其他窑系的成型技术,是形成玉瓷风格的一个独特的技术工艺。利坯工不仅需要熟悉玉料性能,而且要熟练掌握造型的曲线变化和烧成时各部位的收缩比,以及各部位厚薄程度。因为不同部位在高温烧成时的收缩率和受力情况不一致,因而利坯时应控制不同部位的泥坯厚度,以防止其烧造时变形。利坯时对于坯体厚薄程度的控制及其识别方法,是掌握技术和确保质量的关键。玉瓷,测定坯体厚薄是以手指上下抚摸并轻轻弹叩,听其不同部位的响声而断定。坯体较厚者,弹之发出“咯咯”之声,修至中等厚度时则发出“咚咚”之声；修至适当薄度时,弹之则发出“卟卟”的脆声。
第八步，晒坯：将加工成型后的坯胎摆放在木架上晾晒6-10小时。加入玉石粉后的干燥时间仅6小时，干燥时间明显缩短，拉坯不易断裂。
第九步，刻花：用竹、骨或金属刀具在已晾干的坯体上刻画花纹。
第十步，施釉：使用第一步制备的釉料晶粒施釉，采用醮釉、荡釉、吹釉方法，根据各种釉的不同流动性,使坯体各部分的釉层均匀一致,厚薄适当。
第十一步，烧窑：把玉料制品装入窑内匣钵，匣是陶瓷制品焙烧的容器,以耐火材料制成,作用是防止玉坯与窑火直接接触,避免污染。烧窑时间为24小时，低温不低于1350度，高温不高于1450度。先砌窑门，点火烧窑，燃料是松柴，技术人员24小时现场测看火候，掌握窑温变化，决定停火时间。
第十二步，彩绘：是在已烧成玉瓷的表面上绘画各种不同颜色的图案，再入红炉以低温700-800度，时间10小时，达到玉瓷成品永不退色，因玉瓷属于特殊材料制品，为充分显示玉石本色，烧制出的玉瓷一般不进行彩绘再加工，但也可根据用户需求在不失本色基础上进行绘画。
采用本发明所述工艺所得产品外观与玉石本体极为相似，观赏性佳。
玉石密度一般在2.35-2.85g/立方厘米，光泽度：约0.85，折射：250、250、250，烟雾颜色：106、135、92。硬度；4.8-5.5。
采用以上工艺制备的玉石陶瓷产品成品外观亮度增加70％，透明度增加30％，莫氏硬度7-7.5，硬度高，韧性强，不易碎，抗压、抗涨强度，大大增加。清如水，明如镜，声如磬。晶莹剔透，碧如夏荷，粉白黛绿，凝重丰腴。手感温润而泽，细腻媲美羊脂，因玉质包含的矿物质和特殊的配方，器皿不沾油腻，隔热性强，不易磨损，吸水率几近于零，越用越光滑。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。