一种导体原材料制备提纯设备的制作方法

本发明涉及导体领域，具体为一种导体原材料制备提纯设备。

背景技术：

石墨良好的导电性能，使得其能在电气工业上用作制造电极、电刷、碳棒、碳管、水银正流器的正极，石墨垫圈、电话零件，电视机显像管的涂层等，一般的石墨中含有大量的杂质，会降低石墨的导电性能，物理提纯方法耗费较大，一般的设备不会对污水进行收集，容易对环境造成损害。

技术实现要素：

本发明要解决的技术问题是提供一种导体原材料制备提纯设备，克服石墨纯度不够，一般的提纯设备不对废水进行回收等问题。

本发明是通过以下技术方案来实现的。

本发明的一种导体原材料制备提纯设备，包括提纯箱，所述提纯箱内设有电机腔，所述电机腔内设有转动机构，所述转动机构包括可在所述电机腔下端壁转动的竖轴，所述竖轴上花键设有移动锥齿轮，所述移动锥齿轮下端面设有开口向下的升降槽，所述升降槽内可转动设有移动块，所述移动块下端面与所述电机腔下端壁间连接有连接弹簧，所述移动块下端面连接有细线，所述竖轴内设有转动槽，所述转动槽内可上下移动设有连接块，所述连接块上端面与所述电机腔上端壁间连接有连接绳；

所述电机腔内设有放置腔，所述放置腔内设有分离机构，所述分离机构包括设置在所述放置腔内的收集框，所述收集框内设有收集腔，所述放置腔的内端壁固定设有滤板，所述滤板上上下贯通设有五个滤孔，所述放置腔左右端壁设有两个挡板槽，所述挡板槽内可左右移动设有挡板，所述挡板下端面固定设有齿条；

所述提纯箱内设有收线腔，所述收线腔内设有调整机构，所述调整机构包括可在所述收线腔上端壁转动的转动轴，所述转动轴上固定设有两个卷绳轮，所述卷绳轮上绕有细绳，所述转动轴上固定设有绕线轮，所述绕线轮上绕有所述细线，所述转动轴上固定设有握把，所述握把下端面设有开口向下的移动槽，所述移动槽内可上下移动设有定位杆，所述定位杆上端面与所述移动槽上端壁间连接有定位弹簧，所述提纯箱上端面设有定位槽与滑槽。

优选地，所述连接块下端面连接有麻绳，所述竖轴上固定设有收纳盘，所述收纳盘内设有收纳腔，所述收纳腔后端壁设有扭簧槽，所述扭簧槽内转动设有传动轴，所述传动轴与所述扭簧槽间设有扭簧，所述传动轴上固定设有转动杆，所述传动轴上连接有所述麻绳，所述电机腔下端面固定设有第一电机，所述第一电机上端面转动设有电机轴，所述电机轴上固定设有电机锥齿轮。

优选地，所述提纯箱上端面设有开口向上的投入腔，所述提纯箱内设有搅拌腔，所述投入腔与所述搅拌腔间连接有连通腔，所述连通腔上端壁设有开口向下的伸缩槽，所述伸缩槽内可上下移动设有隔离板，所述隔离板上端面与所述伸缩槽上端壁间连接有伸缩弹簧，所述隔离板上端面连接有所述细绳，所述搅拌腔后端壁固定设有加热块。

优选地，所述挡板槽下端壁设有转动腔，所述转动腔后端壁内设有传动腔，所述传动腔后端壁转动设有横轴，所述横轴上从后往前依次固定设有第一带轮与接触齿轮，所述第一带轮上绕有皮带，所述传动腔后端壁固定设有第二电机，所述第二电机前端面转动设有主动轴，所述主动轴上固定设有两个第二带轮，所述第二带轮上绕有所述皮带，所述主动轴上固定设有主动齿轮，所述传动腔上端壁内设有横槽，所述横槽内可左右移动设有挡块，所述挡块上前后贯通设有通水口，所述挡块右端面与所述横槽右端壁间连接有接触弹簧。

优选地，所述定位弹簧弹性力大于所述连接弹簧弹性力，所述定位弹簧弹性力大于所述伸缩弹簧弹性力。

本发明的有益效果：本装置能对石墨进行化学提纯，且能对提纯后的污水进行收集，降低了对环境的污染，降低了物理提纯的能量消耗，加快了提纯的速度，提高了石墨的纯度。

附图说明

为了更清楚地说明发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例的结构示意图；

图2为图1中a-a方向示意图；

图3为图1中b-b方向示意图；

图4为图1中c-c方向示意图；

图5为图4中d-d方向示意图。

具体实施方式

下面结合图1-5对本发明进行详细说明，其中，为叙述方便，现对下文所说的方位规定如下：下文所说的上下左右前后方向与图1本身投影关系的上下左右前后方向一致。

结合附图1-5所述的一种导体原材料制备提纯设备，包括提纯箱68，所述提纯箱68内设有电机腔28，所述电机腔28内设有转动机构70，所述转动机构70包括可在所述电机腔28下端壁转动的竖轴69，所述竖轴69上花键设有移动锥齿轮29，所述移动锥齿轮29下端面设有开口向下的升降槽34，所述升降槽34内可转动设有移动块30，所述移动块30下端面与所述电机腔28下端壁间连接有连接弹簧31，所述移动块30下端面连接有细线18，所述竖轴69内设有转动槽33，所述转动槽33内可上下移动设有连接块40，所述连接块40上端面与所述电机腔28上端壁间连接有连接绳32；

所述电机腔28内设有放置腔52，所述放置腔52内设有分离机构71，所述分离机构71包括设置在所述放置腔52内的收集框51，所述收集框51内设有收集腔50，所述放置腔52的内端壁固定设有滤板49，所述滤板49上上下贯通设有五个滤孔48，所述放置腔52左右端壁设有两个挡板槽13，所述挡板槽13内可左右移动设有挡板12，所述挡板12下端面固定设有齿条11；

所述提纯箱68内设有收线腔75，所述收线腔75内设有调整机构72，所述调整机构72包括可在所述收线腔75上端壁转动的转动轴25，所述转动轴25上固定设有两个卷绳轮20，所述卷绳轮20上绕有细绳19，所述转动轴25上固定设有绕线轮17，所述绕线轮17上绕有所述细线18，所述转动轴25上固定设有握把26，所述握把26下端面设有开口向下的移动槽23，所述移动槽23内可上下移动设有定位杆22，所述定位杆22上端面与所述移动槽23上端壁间连接有定位弹簧24，所述提纯箱68上端面设有定位槽21与滑槽27。

有益地，所述连接块40下端面连接有麻绳41，所述竖轴69上固定设有收纳盘76，所述收纳盘76内设有收纳腔44，所述收纳腔44后端壁设有扭簧槽56，所述扭簧槽56内转动设有传动轴42，所述传动轴42与所述扭簧槽56间设有扭簧55，所述传动轴42上固定设有转动杆43，所述传动轴42上连接有所述麻绳41，所述电机腔28下端面固定设有第一电机39，所述第一电机39上端面转动设有电机轴38，所述电机轴38上固定设有电机锥齿轮37。

有益地，所述提纯箱68上端面设有开口向上的投入腔35，所述提纯箱68内设有搅拌腔46，所述投入腔35与所述搅拌腔46间连接有连通腔36，所述连通腔36上端壁设有开口向下的伸缩槽16，所述伸缩槽16内可上下移动设有隔离板14，所述隔离板14上端面与所述伸缩槽16上端壁间连接有伸缩弹簧15，所述隔离板14上端面连接有所述细绳19，所述搅拌腔46后端壁固定设有加热块47。

有益地，所述挡板槽13下端壁设有转动腔10，所述转动腔10后端壁内设有传动腔57，所述传动腔57后端壁转动设有横轴53，所述横轴53上从后往前依次固定设有第一带轮58与接触齿轮54，所述第一带轮58上绕有皮带59，所述传动腔57后端壁固定设有第二电机62，所述第二电机62前端面转动设有主动轴60，所述主动轴60上固定设有两个第二带轮61，所述第二带轮61上绕有所述皮带59，所述主动轴60上固定设有主动齿轮65，所述传动腔57上端壁内设有横槽63，所述横槽63内可左右移动设有挡块64，所述挡块64上前后贯通设有通水口66，所述挡块64右端面与所述横槽63右端壁间连接有接触弹簧67。

有益地，所述定位弹簧24弹性力大于所述连接弹簧31弹性力，所述定位弹簧24弹性力大于所述伸缩弹簧15弹性力。

初始状态时，所述连接弹簧31、所述接触弹簧67处于正常状态，所述伸缩弹簧15、所述定位弹簧24、所述扭簧55处于压缩状态。

工作状态时，将石墨从左侧投入腔35放入到搅拌腔46中，将氢氧化钠从右侧投入腔35放入到搅拌腔46中，放置完毕后，手动转动握把26三百六十度，握把26带动转动轴25转动，卷绳轮20随转动轴25转动，卷绳轮20转动，放松细绳19，伸缩弹簧15推动隔离板14向下移动，隔离板14向下移动将连通腔36封闭，绕线轮17随转动轴25转动，绕线轮17转动，细线18收紧，细线18拉动移动块30向下移动，移动锥齿轮29随移动块30一起向下移动，移动锥齿轮29与电机锥齿轮37啮合，移动锥齿轮29带动竖轴69向下移动，竖轴69带动收纳盘76向下移动，麻绳41拉动传动轴42转动，传动轴42带动转动杆43转动九十度，启动第一电机39与加热块47，第一电机39带动电机轴38转动，电机锥齿轮37随电机轴38转动，电机锥齿轮37啮合带动移动锥齿轮29转动，移动锥齿轮29带动收纳盘76转动，收纳盘76带动转动杆43转动，对石墨进行搅拌，加快石墨与氢氧化钠的反应速率，反应完毕以后，关闭第一电机39与加热块47，启动第二电机62,第二电机62带动主动轴60转动，主动轴60带动第二带轮61转动，第二带轮61通过皮带59摩擦带动第一带轮58转动，第一带轮58带动横轴53转动，接触齿轮54随横轴53一起转动，接触齿轮54带动两个挡板12互相远离，石墨掉到滤板49上端面，氢氧化钠落入到收集腔50中，主动齿轮65带动挡块64移动，挡块64移动，清水从主动齿轮65流经喷头45流到滤板49上端面，对石墨进行清洗，清洗完毕后，可从搅拌腔46前端壁将石墨取出，手动转动握把26,连接弹簧31推动移动锥齿轮29向上移动，隔离板14向上移动。

上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此领域技术的人士能够了解本发明内容并加以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围内。