一种应用于显示盖板解决眩光干扰的玻璃及其制作方法与流程

文档序号:25212298发布日期:2021-05-28 14:08阅读:141来源:国知局
一种应用于显示盖板解决眩光干扰的玻璃及其制作方法与流程
本发明涉及玻璃制品
技术领域
,特别涉及一种应用于显示盖板解决眩光干扰的玻璃及其制作方法。
背景技术
:为了解决客户实际使用过程中存在眩光干扰的问题,一般液晶显示盖板会采用经过防眩处理的带触摸功能的显示盖板玻璃,这种防眩处理后的盖板表面存在微米级甚至纳米级的凹凸形貌,很好的解决了环境光对使用者的干扰。1、图2为现有的带有防眩光效果的玻璃表面显微图,图3为现有的带有防眩光效果的玻璃表面轮廓显微图。结合图2和图3,现有的带有防眩光效果的玻璃是由玻璃表面凹凸不平的纹路实现的,一般称为颗粒。颗粒平均尺寸大小为2μm~30μm左右并可调控。防眩光玻璃可以很好的解决环境光的眩光干扰,但也带来了明显弊端:较高分辨率的像素点经凹凸表面穿透后,光线会发生扭曲,进而导致三原色像素点发出的rgb三色光线交叉,这导致使用者感官上的闪烁点,此闪烁点随着观察角度的变化而变化,直观感觉如亮晶晶的小颗粒,因此显示行业内称此现象为“sparkle”、“sparkle”或“闪点”。2、对于防眩光效果的评价,一般采用doi(distinctofimagle/鲜映度/反射清晰度),doi数值越低防眩光效果越好,反之,越高防眩光效果越差;为了降低防眩光玻璃在显示过程中出现的闪点问题,通常做法是用更小的微观颗粒纹路来实现,但这种方法会带来防眩光效果的下降,即doi的升高。3、防眩光玻璃的应用大多是在液晶触摸显示领域,触摸过程中一般关注的顺滑度和抗指纹性能,而影响此性能的关键是粗糙度,一般来说粗糙度ra处于0.04~0.18微米是比较适合的范围,在此范围内较高的粗糙度可以保证较顺滑的手感和优秀的抗指纹性。但是,在现有技术的防眩玻璃制造过程中,现有技术虽然能达到增强防眩光性能和提高粗糙度,或者降低闪点,但是只能单一调整玻璃的其中某一个性能,高粗糙度(ra)、低闪烁点(sparkle)和低鲜映度(doi)是矛盾的,即低闪烁点(sparkle)、低鲜映度(doi)、高粗糙度(ra)无法兼顾。技术实现要素:针对现有技术的不足,本发明公开了一种应用于显示盖板解决眩光干扰的玻璃及其制作方法。本发明所采用的技术方案如下:一种应用于显示盖板解决眩光干扰的玻璃的制作方法,包括以下步骤:步骤s1:预清洗;清洗玻璃表面;步骤s2:表面防眩光处理;将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面;步骤s3:抛光;将步骤s2中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光;步骤s4:清洗;清洗玻璃表面;步骤s5:表面防眩光处理;将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面;步骤s6:抛光;将步骤s5中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。其进一步的技术特征在于:在步骤s1中,清洗玻璃表面包括先进入含有有机表面活性洗剂的水槽中去除油污等易去除脏污,再使用纯水清洗干净,接着进入含有氢氟酸的酸洗水槽中去除表面剩余脏污,然后使用纯水清洗干净残酸。其进一步的技术特征在于:在步骤s4中,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。其进一步的技术特征在于:在步骤s1或步骤s4中,清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。其进一步的技术特征在于:在步骤s2或步骤s5中,化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。其进一步的技术特征在于:在步骤s2中,所述含氟铵盐溶液的浓度为3%~15%;所述反应时间为3min~10min。其进一步的技术特征在于:在步骤s5中,所述含氟铵盐溶液的浓度为3%~15%;所述反应时间为1min~3min。其进一步的技术特征在于:在步骤s3或步骤s6中,所述抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液;hf的浓度为3%~15%;h2so4的浓度为0%~20%。其进一步的技术特征在于:还包括步骤s7:清洗,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。一种应用于显示盖板解决眩光干扰的玻璃,根据上述制得的玻璃表面形貌为大尺寸颗粒中镶嵌小尺寸颗粒,其中小尺寸颗粒的大小为2μm~6μm,鲜映度为90.1~93.9,粗糙度为0.1μm~0.12μm,闪点值为2.2~2.9。本发明的有益效果如下:1、本发明的玻璃表面处理工艺不局限于化学蚀刻,包括喷砂等表面处理工艺所能实施的大尺寸与小尺寸颗粒匹配带来的性能优化都能达到本发明的有益效果。2、本发明大尺寸与小尺寸颗粒匹配不局限于两次,多次匹配不同尺寸都能带来本发明的有益效果。3、本发明的玻璃表面处理既可以单独处理玻璃的一面,也可以同时处理玻璃的双表面来达到本发明的有益效果。4、本发明实现大尺寸颗粒与小尺寸颗粒互相匹配,实现了低鲜映度(doi)效果,即高防眩性能。5、本发明实现了低闪点(sparkle)的效果。6、本发明实现了高粗糙度(ra)效果,即触摸顺滑度优异。附图说明图1为本发明的流程图。图2为现有的带有防眩光效果的玻璃表面显微图。图3为现有的带有防眩光效果的玻璃表面轮廓显微图。图4为步骤s3后的玻璃表面颗粒尺寸显微图。图5为步骤s3后的玻璃表面截面示意图。图6为步骤s6后的玻璃表面颗粒尺寸显微图。图7为步骤s6后的玻璃表面截面示意图。具体实施方式下面结合附图,说明各实施例的具体实施方式。图1为本发明的流程图。如图1所示,一种应用于显示盖板解决眩光干扰的玻璃的制作方法,包括以下步骤:步骤s1:预清洗。清洗玻璃表面。清洗玻璃表面包括先进入含有有机表面活性洗剂的水槽中去除油污等易去除脏污,再使用纯水清洗干净,接着进入含有氢氟酸的酸洗水槽中去除表面剩余脏污,然后使用纯水清洗干净残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。该步骤中,有机表面活性洗剂浓度为0.5%~3%,酸洗水槽的浓度为0.1%~5%。步骤s2:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。该步骤中,含氟铵盐溶液的浓度为3%~15%。反应时间为3min~10min。图4为步骤s3后的玻璃表面颗粒尺寸显微图,图5为步骤s3后的玻璃表面截面示意图。结合图4和图5,步骤s3:抛光。将步骤s2中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。hf的浓度为3%~15%。h2so4的浓度为0%~20%。此时,玻璃的表面颗粒尺寸为23~25μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.1~0.13μm,玻璃的鲜映度(doi)为90.1~93.9,sparkle>3。步骤s4:清洗。清洗玻璃表面。具体地,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。步骤s5:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。该步骤中,含氟铵盐溶液的浓度为3%~15%。反应时间为1min~3min。图6为步骤s6后的玻璃表面颗粒尺寸显微图,图7为步骤s6后的玻璃表面截面示意图。结合图6和图7,步骤s6:抛光。将步骤s5中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。hf的浓度为3%~15%。h2so4的浓度为0%~20%。此时,玻璃的表面小尺寸颗粒大小为4μm~6μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.1μm~0.12μm,玻璃的鲜映度(doi)为90.1~93.9为91.6,sparkle为2.2~2.9。步骤s7:清洗,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。实施例1:步骤s1:预清洗。清洗玻璃表面。清洗玻璃表面包括先进入含有有机表面活性洗剂的水槽中去除油污等易去除脏污,再使用纯水清洗干净,接着进入含有氢氟酸的酸洗水槽中去除表面剩余脏污,然后使用纯水清洗干净残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。本实施例中,有机表面活性洗剂浓度为0.5%,酸洗水槽的浓度为0.1%。步骤s2:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。本实施例中,含氟铵盐溶液的浓度为3%,反应时间为10min。步骤s3:抛光。将步骤s2中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。本实施例中,hf的浓度为3%。h2so4的浓度为5%,抛光时间为40min。此时,玻璃的表面颗粒尺寸为25μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.12μm,玻璃的鲜映度(doi)为90.1,玻璃的闪点值(sparkle)为3.6。步骤s4:清洗。清洗玻璃表面。具体地,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。步骤s5:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。本实施例中,含氟铵盐溶液的浓度为8%。反应时间为10min。步骤s6:抛光。将步骤s5中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。本实施例中,hf的浓度为3%。h2so4的浓度为5%,抛光时间为40min。此时,玻璃的表面颗粒尺寸为3μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.11μm,玻璃的鲜映度(doi)为91.8,玻璃的闪点值(sparkle)为2.4。步骤s7:清洗,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。实施例2:步骤s1:预清洗。清洗玻璃表面。清洗玻璃表面包括先进入含有有机表面活性洗剂的水槽中去除油污等易去除脏污,再使用纯水清洗干净,接着进入含有氢氟酸的酸洗水槽中去除表面剩余脏污,然后使用纯水清洗干净残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。本实施例中,有机表面活性洗剂浓度为1.5%,酸洗水槽的浓度为2.5%。步骤s2:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。本实施例中,含氟铵盐溶液的浓度为5%,反应时间为2.5min。步骤s3:抛光。将步骤s2中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。本实施例中,hf的浓度为3%。h2so4的浓度为5%,抛光时间为10min。此时,玻璃的表面颗粒尺寸为24μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.11μm,玻璃的鲜映度(doi)为90.6,玻璃的闪点值(sparkle)为3.5。步骤s4:清洗。清洗玻璃表面。具体地,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。步骤s5:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。本实施例中,含氟铵盐溶液的浓度为10%。反应时间为2.5min。步骤s6:抛光。将步骤s5中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。本实施例中,hf的浓度为3%。h2so4的浓度为5%,抛光时间为10min。此时,玻璃的表面颗粒尺寸为5μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.11μm,玻璃的鲜映度(doi)为91.7,玻璃的闪点值(sparkle)为2.6。步骤s7:清洗,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。实施例3:步骤s1:预清洗。清洗玻璃表面。清洗玻璃表面包括先进入含有有机表面活性洗剂的水槽中去除油污等易去除脏污,再使用纯水清洗干净,接着进入含有氢氟酸的酸洗水槽中去除表面剩余脏污,然后使用纯水清洗干净残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。本实施例中,有机表面活性洗剂浓度为3%,酸洗水槽的浓度为5%。步骤s2:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。本实施例中,含氟铵盐溶液的浓度为3%,反应时间为3min。步骤s3:抛光。将步骤s2中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。本实施例中,hf的浓度为15%。h2so4的浓度为20%,抛光时间为10min。此时,玻璃的表面颗粒尺寸为23μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.1μm,玻璃的鲜映度(doi)为90.6,玻璃的闪点值(sparkle)为3.4。步骤s4:清洗。清洗玻璃表面。具体地,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。步骤s5:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。本实施例中,含氟铵盐溶液的浓度为8%。反应时间为3min。步骤s6:抛光。将步骤s5中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。本实施例中,hf的浓度为3%。h2so4的浓度为5%。此时,玻璃的表面颗粒尺寸为4μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.10μm,玻璃的鲜映度(doi)为91.6,玻璃的闪点值(sparkle)为2.5。步骤s7:清洗,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。实施例4:步骤s1:预清洗。清洗玻璃表面。清洗玻璃表面包括先进入含有有机表面活性洗剂的水槽中去除油污等易去除脏污,再使用纯水清洗干净,接着进入含有氢氟酸的酸洗水槽中去除表面剩余脏污,然后使用纯水清洗干净残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。本实施例中,有机表面活性洗剂浓度为1.5%,酸洗水槽的浓度为2.5%。步骤s2:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。本实施例中,含氟铵盐溶液的浓度为2%,反应时间为10min。步骤s3:抛光。将步骤s2中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。本实施例中,hf的浓度为3%。h2so4的浓度为5%,抛光时间为40min。此时,玻璃的表面颗粒尺寸为26μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.13μm,玻璃的鲜映度(doi)为90,玻璃的闪点值(sparkle)为3.7。步骤s4:清洗。清洗玻璃表面。具体地,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。步骤s5:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。本实施例中,含氟铵盐溶液的浓度为14%。反应时间为10min。步骤s6:抛光。将步骤s5中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。本实施例中,hf的浓度为3%。h2so4的浓度为5%,抛光时间为40min。此时,玻璃的表面颗粒尺寸为2μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.1μm,玻璃的鲜映度(doi)为92,玻璃的闪点值(sparkle)为2.2。步骤s7:清洗,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。根据实施例1或实施例2或实施例3的步骤,均可制得表面颗粒尺寸的大小为4μm~6μm,鲜映度(doi)为91.6,粗糙度(ra)为0.1μm~0.12μm,闪点值(sparkle)为2.2~2.9的玻璃。该玻璃可应用于显示盖板中。实施例1、实施例2、实施例3和实施例4的玻璃各性能数据对比表对比表如下:实施例表面颗粒尺寸鲜映度(doi)粗糙度(ra)闪点值(sparkle)13μm91.80.11μm2.425μm91.70.11μm2.634μm91.60.10μm2.542μm92.00.10μm2.2实施例1、实施例2、实施例3和实施例4均选用同一品类玻璃,根据实施例1、实施例2、实施例3和实施例4的对比可知:对于同一品类玻璃,在同一抛光液中,抛光时间越长(10min~40min),玻璃光泽度越高,反之,抛光时间越短(3~10min),玻璃光泽度越低。对于同一品类玻璃,如果抛光时间相同,抛光液浓度越高,玻璃光泽度越高,反之,抛光液浓度越低,玻璃光泽度越低。对于同一品类玻璃,在同一浓度蚀刻液中,蚀刻时间越长(3~10min),玻璃表面形成的颗粒尺寸越大,表面粗糙度(ra)高,闪点值(sparkle)也高;反之,蚀刻时间越短(1~3min),玻璃表面形成的颗粒尺寸越小,表面粗糙度(ra)小,闪点值(sparkle)也低。对于同一品类玻璃,蚀刻相同时间,蚀刻液浓度越小,玻璃表面形成的颗粒尺寸越大,表面粗糙度(ra)高,闪点值(sparkle)也高;反之,蚀刻液浓度越大,玻璃表面形成的颗粒尺寸越小,表面粗糙度(ra)小,闪点值(sparkle)也小。另外,现有的玻璃防眩光工艺如下:预清洗→表面防眩处理→抛光→纯水清洗。对比例1:步骤s1:预清洗。清洗玻璃表面。清洗玻璃表面包括先进入含有有机表面活性洗剂的水槽中去除油污等易去除脏污,再使用纯水清洗干净,接着进入含有氢氟酸的酸洗水槽中去除表面剩余脏污,然后使用纯水清洗干净残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。本实施例中,有机表面活性洗剂浓度为0.5%,酸洗水槽的浓度为0.1%。步骤s2:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。本实施例中,含氟铵盐溶液的浓度为9%,反应时间为10min。步骤s3:抛光。将步骤s2中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。本实施例中,hf的浓度为3%。h2so4的浓度为5%,抛光时间为40min。此时,玻璃的表面颗粒尺寸为12μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.065μm,玻璃的鲜映度(doi)为97.5,玻璃的闪点值(sparkle)为1.5。步骤s4:清洗。清洗玻璃表面。具体地,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。对比例2:步骤s1:预清洗。清洗玻璃表面。清洗玻璃表面包括先进入含有有机表面活性洗剂的水槽中去除油污等易去除脏污,再使用纯水清洗干净,接着进入含有氢氟酸的酸洗水槽中去除表面剩余脏污,然后使用纯水清洗干净残酸。清洗完毕后的玻璃通过洁净空气吹干待用。本实施例中,有机表面活性洗剂浓度为0.5%,酸洗水槽的浓度为0.1%。步骤s2:表面防眩光处理。将玻璃表面通过化学蚀刻法蚀刻形成防眩光表面。化学蚀刻法使用含氟铵盐溶液作为蚀刻液,通过调整蚀刻液浓度和/或反应时间控制蚀刻后玻璃表面颗粒尺寸。本实施例中,含氟铵盐溶液的浓度为14%,反应时间为10min。步骤s3:抛光。将步骤s2中的玻璃制品放入抛光液中进行化学抛光。抛光液为含有hf和h2so4的混合酸溶液。本实施例中,hf的浓度为3%。h2so4的浓度为5%,抛光时间为40min。此时,玻璃的表面颗粒尺寸为2μm,玻璃的表面粗糙度(ra)为0.023μm,玻璃的鲜映度(doi)为99.1,玻璃的闪点值(sparkle)为0.25。步骤s4:清洗。清洗玻璃表面。具体地,经过纯水清洗去除玻璃表面残酸。下表为现有技术制得的玻璃和本发明的制得的玻璃各性能数据对比表:表中,gloss为光泽度,doi为鲜映度,haze为雾影,ra为表面粗糙度,sparkle为闪点值。综上所述:本发明相对于现有技术,使玻璃综合了两种形貌的功能,既能兼顾低鲜映度(doi)和高表面粗糙度(ra),又能兼顾低闪点值(sparkle)的需求。以上描述是对本发明的解释,不是对发明的限定,本发明所限定的范围参见权利要求,在不违背本发明的基本结构的情况下,本发明可以作任何形式的修改。当前第1页12
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