的。现在借助本发明，克服或者至少减小所述翘曲，为此，在包括玻璃衬底10和无机涂层20的覆盖玻璃元件1中产生弯曲力矩，所述弯曲力矩抵抗涂层20的内应力。在图1中示出的示例中，因此现在相应地施加弯曲力矩，其在没有涂层20的内应力的情况下导致经涂覆的侧面13的凸的翘曲。
[0031]根据本发明的第一实施方式，如在图3中示意性示出的那样，在玻璃衬底10的与涂层20相对置的侧面14上沉积变形补偿涂层30，其同样具有内应力，其中涂层20的内应力和变形补偿涂层30的内应力具有相同的预应力，使得在无机涂层(20)的压应力的情况下变形补偿涂层(30)也具有压应力，而相反地在无机涂层(20)的拉应力的情况下变形补偿涂层(30)具有拉应力。在理想情形中，涂层20的内应力和变形补偿涂层30的内应力大小相同。在这种情形中，完全补偿由涂层20引起的翘曲。如果变形补偿涂层30的内应力与功能涂层20的内应力不精确地相同而是仅仅相近、具有例如20%偏差，则通过涂覆变形补偿涂层30依然实现设置有功能层的覆盖玻璃元件1具有显著减小的变形。因此，变形补偿涂层30的应用提供稳健的方式来减小经涂覆的玻璃衬底的变形。
[0032]在此，变形补偿涂层30不必与无机的功能涂层20相同。更确切地说，变形补偿涂层30可以与涂层20在层厚度、层材料和可选的涂层20、30内的各个层的层顺序方面不同。
[0033]可选地，本发明的该实施方式也能够实现，在变形补偿涂层30的沉积期间控制所述翘曲。在此，也可以中断所述沉积处理，测量翘曲并且在剩余的翘曲的情况下沉积另一个层作为变形补偿涂层30的组成部分。根据本发明参考图2描述的方法的一种扩展方案，在沉积变形补偿涂层30的开始之后并且结束之前测量翘曲并且在变形补偿涂层30的进一步沉积时根据所测量的剩余的翘曲来调节沉积参数，以便补偿所述剩余的翘曲。优选地，将层厚度用作沉积参数。但可选地也可以在溅射涂覆时通过其他参数、例如等离子体的能量密度来调节内应力。
[0034]在本发明的以上所描述的实施方式的扩展方案中，变形补偿涂层30具有与玻璃衬底10相似的折射率，优选也具有小的或者与玻璃衬底10相似的吸收系数，无论无机的功能层20的类型和结构如何。由此确保，所述层在光学上不明显。此外确保，在连接(键合、层压)到聚合物薄膜上之后所述层在视觉上不明显。尤其将以下折射率视为相似的折射率:其与玻璃的折射率在量上相差不大于0.2、优选不大于0.1。
[0035]根据本发明的另一种扩展方案，变形补偿涂层30理想地具有与玻璃相似的化学组分。由此确保，键合/层压到聚合物薄膜上的方法与键合/层压到玻璃上同样好地起作用。
[0036]理想地，变形补偿涂层30具有内应力，所述内应力在层厚度相同的情况下在量值方面至少与功能层的内应力同样大。优选地，在层厚度相同时内应力甚至更大。由此，能够比无机的功能层20更薄地实施所述变形补偿层。
[0037]图4示出本发明的另一种实施方式。所述实施方式基于以下:固有弯曲力矩通过交换层11、12中的一个的部分移除实现，使得交换层(11、12)的压应力变得不同。对于如图2中所示出的、经涂覆侧面13的凹的翘曲，本发明的这种实施方式尤其适合。如根据图4所示出的那样，在与经涂覆的侧面13相对置的侧面14上部分移除所述交换层12，从而使玻璃厚度减小量值Λ do因此，在图4中交换层12比涂层20下方的交换层11更薄。
[0038]相应地，侧面14上的压应力降低，从而现在通过两个交换层的不同压应力产生弯曲力矩，所述弯曲力矩抵抗通过无机的涂层20产生的弯曲力矩。化学预应力的玻璃材料通过抛光去除了厚度量值Λ d，减小没有涂覆的一侧上的化学预应力，从而减少作用在系统上的分力。随着抛光持续时间或者抛光深度的进展，由衬底10和涂层20组成的系统越来越平坦。
[0039]在理想情形中，得到平坦覆盖玻璃元件1。在本发明的所述实施方式中，在涂层20的沉积之后实现翘曲的校正。但也可设想的是，在涂层20的沉积之前进行移除。
[0040]因此，根据所述实施方式，在侧面13上沉积具有拉内应力的无机涂层20，其中在玻璃衬底10的与所述侧面13相对置的侧面14上事先部分移除交换层12。
[0041]但是，如果涂层20具有压内应力从而发生如在图1中所示出那样的凸的翘曲，则同样可以校正所述翘曲。在这种情形中，在侧面13上部分移除交换层11。在此，在涂层20的沉积之前，然而如根据本发明所设置的那样同样在化学预应力之后，实施所述移除。图5示出根据本发明的所述实施方式的覆盖玻璃元件1，其中交换层11相应具有比交换层12更小的厚度。一般而言，所述实施方式基于:在化学预应力的玻璃衬底10的侧面13上首先部分移除交换层11，随后在所述侧面上沉积涂层20，其中所述涂层20具有压内应力。
[0042]—般而言，在没有限制于所描述的实施方式的情况下，通过相应的侧面13、14的打磨实现所述部分移除。
[0043]为了补偿涂层20的通过交换层11、12的影响引起的压内应力，存在另一种可能性。根据本发明的所述实施方式，在化学预应力的玻璃衬底10施加涂层并且随后附加地或者再一次对所述玻璃衬底10施加化学预应力。所述涂层起扩散阻挡作用，从而通过没有涂覆的侧面13、14上的化学预应力产生比相对置的侧面14更高的压应力。当无机的功能涂层20自身构成起扩散屏障作用的涂层时，所述方法则是特别简单的。因此，本发明的所述扩展方案基于:无机涂层20施加压应力，其中在无机涂层20的沉积之后对玻璃衬底10附加地或者再一次地施加化学预应力，其中所述无机涂层20起扩散阻挡作用，从而通过在涂覆有无机涂层20的侧面13上施加的化学预应力产生比在相对置的侧面14上更小的压应力。同样如在图5中示出的那样，由此在与经涂覆的侧面13相对置的侧面14上得到相对于交换层11深度足够的交换层12。
[0044]根据另一种扩展方案，另一个涂层也可以起扩散阻挡作用。所述涂层也可以在再一次施加化学预应力之后再次去除。通过这种方式也能够实现，当在待设置无机涂层20的侧面13上施加另一个涂层，所述侧面实施再一次的化学预应力，去除所述另一个涂层并且然后在所述侧面上沉积无机的功能涂层20时，补偿无机涂层20的拉内应力。
[0045]在到目前为止阐述的实施方式中，已经分别产生了固有弯曲力矩，其相对于内应力的弯曲力矩具有相反的预应力。也可能的是，通过在涂覆之后松弛所述弯曲力矩，所述弯曲力矩在涂覆之后减小了内应力。
[0046]此外也可能的是，直接在无机涂层20和/或邻接的侧面上补偿通过内应力产生的弯曲力矩。在此，尤其可以已经在无机涂层20的沉积过程中进行所述补偿。本发明的所述实施方式基于:产生固有弯曲力矩，为此，在涂覆无机涂层20的期间使玻璃衬底10弯曲或者变形并且因此处在机械应力下，并且在所述涂覆之后缓解所述玻璃衬底(10)。因此，尤其也在所述涂层20中至少部分自身地产生固有弯曲力矩。
[0047]根据图6至图9示例性地阐述根据本发明的所述实施方式的方法步骤。所述示例基于:涂覆具有压内应力的涂层20。首先如在图6中示出的那样，在层沉积装置3前方的衬底保持器4上设置玻璃衬底10。为了补偿涂层20的压内应力，现在使所述玻璃衬底10如此弯曲，使得待涂覆的侧面13凹地变形。为此，如在图7中示出的那样，在相对置的侧面14设置拉伸装置6并且通过借助拉伸装置6的拉伸使玻璃衬底10变形。随后，如在图8中示出的那样，借助层沉积装置3沉积所述无机涂层。优选通过溅射产生涂层20。因此在这种情形中，层沉积装置3是