一种镀制有防蓝光纳米薄膜的玻璃的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及玻璃，尤其涉及一种镀制有防蓝光纳米薄膜的玻璃。
【背景技术】
[0002]世卫组织WHO爱眼协会公布:2006年至2008年因蓝光、辐射每年导致全球超过30000人失明，并在2009年底发出橙色预警:“蓝色光辐射对人类的潜在隐性威胁将远远超过苏丹红、三聚氰胺、SAS1、HINI的破坏性，无形中吞噬人的双眼”。蓝光对人体危害较其他波长的光线尤为严重。德国眼科专家李查德冯克教授的研究报告指出当“不合适的光”持续照射我们的眼睛，会引起功能失调，尤其是手机，电脑屏幕等发出的含有大量不规则频率的高能短波蓝光，这些短波蓝光具有极高能量，能够穿透晶状体直达视网膜，对视网膜造成光化学损害，直接或间接导致黄斑区细胞的损害。
[0003]目前市场上防蓝光是屏幕保护膜即贴膜，以PET为原材，在PET材料表层经涂布特别处理，采用与显示器件贴合的方式消减蓝光的透过。在显示器上直接用真空磁控溅射镀膜工艺在玻璃基板表面上镀制一种防蓝光光学纳米薄膜还未应用市场及相关显示器件。目前防蓝光屏幕保护膜以PET为载体，其本身材质比较软，表面硬度低，抗老化能力差，易产生静电。在显示器件面采用离型膜贴合方式，特别是与大尺寸显示器件贴合时易包覆空气而产生气泡出现彩虹纹，在PET贴合界面涂布有硅胶，其厚薄不均将严重影响了防蓝光性會K。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的不足，提供一种镀制有防蓝光纳米薄膜，进而减轻蓝光对眼睛的刺激、伤害，消除眼睛酸涩、发胀或者疼痛等不适症状，缓解眼睛疲劳，并达到防蓝色光润眼效果的玻璃。
[0005]为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案。
[0006]—种镀制有防蓝光纳米薄膜的玻璃，其包括有玻璃基板，所述玻璃基板上设有第一HO2O3层，所述第一 HO 203层上设有第一 S1 2层，所述第一 S1 2层上设有第二 HO 203层，所述第二 HO2O3层上设有第二 S1 2层，且由所述第一 HO 203层、第一 S1 2层、第二 HO 203层和第二S1Jl构成防蓝光纳米薄膜。
[0007]优选地，所述第一 HO2O3层的厚度为21nm-30nm，所述第一 S1 2层的厚度为20nm-30nm，所述第二 110203层的厚度为45nm_65nm，所述第二 S1 2层的厚度为40nm-60nm。
[0008]优选地，所述第一 HO2O3层的厚度为25nm，所述第一 S1 2层的厚度为25nm，所述第二 HO2O3层的厚度为55nm，所述第二 S1 2层的厚度为50nmo
[0009]本实用新型公开的镀制有防蓝光纳米薄膜的玻璃，采用真空磁控溅射镀膜工艺在玻璃基板表面上镀制一种防蓝光光学纳米薄膜，膜层具备兼顾可见光的透过率同时又阻隔一部分高能量蓝光透过的光学特性，在保证屏幕色彩不失真的情况下达到高能量蓝光消减的功能，主要应用于高清的手机玻璃盖板、电脑显示屏玻璃面板、电视保护屏玻璃面板、医疗仪器显示屏玻璃面板、液晶显示屏等，本实用新型大大减轻蓝光对眼睛的刺激、伤害，消除眼睛酸涩、发胀或者疼痛等不适症状，缓解眼睛疲劳，并达到防蓝色光润眼的效果。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型镀制有防蓝光纳米薄膜的玻璃的侧向剖视图。
【具体实施方式】
[0011]下面结合附图和实施例对本实用新型作更加详细的描述。
[0012]本实用新型公开了一种镀制有防蓝光纳米薄膜的玻璃，如图1所示，其包括有玻璃基板1，所述玻璃基板I上设有第一 HO2O3层2，所述第一 HO 203层2上设有第一 S1 2层3，所述第一 S1Jl 3上设有第二 HO 203层4，所述第二 HO 203层4上设有第二 S1 2层5，且由所述第一 HO2O3层2、第一 S1 2层3、第二 HO 203层4和第二 S1 2层5构成防蓝光纳米薄膜。
[0013]本实用新型是采用真空磁控溅射镀膜工艺在玻璃基板表面上镀制一种防蓝光光学纳米薄膜，膜层具备兼顾可见光的透过率同时又阻隔一部分高能量蓝光透过的光学特性，在保证屏幕色彩不失真的情况下达到高能量蓝光消减的功能，主要应用于高清的手机玻璃盖板、电脑显不屏玻璃面板、电视保护屏玻璃面板、医疗仪器显不屏玻璃面板、液晶显示屏等，本实用新型大大减轻蓝光对眼睛的刺激、伤害，消除眼睛酸涩、发胀或者疼痛等不适症状，缓解眼睛疲劳，并达到防蓝色光润眼的效果。
[0014]进一步地，所述第一 HO2O3层2的厚度为21nm-30nm，所述第一 S1 2层3的厚度为20nm-30nm，所述第二 HO2O3层4的厚度为45nm_65nm，所述第二 S1 2层5的厚度为40nm-60nm。本实用新型采用的膜层结构可根据实际需求选择性的阻隔高能蓝光的透过多少。
[0015]进一步地，所述第一 HO2O3层的厚度为25nm，所述第一 S12层的厚度为25nm，所述第二 HO2O3层的厚度为55nm，所述第二 S1 2层的厚度为50nmo
[0016]上述镀制有防蓝光纳米薄膜的玻璃的制备方法中，该方法采用工件垂直移动的直线式多箱体连续真空镀膜设备生产线，根据第一 HO2O3层2、第一 S1 2层3、第二 HO 203层4和第二 S1Jl 5的物理厚度计算并配置孪生磁控阴极靶数量，组成连续的中频反应磁控溅射镀膜系统，玻璃基板逐一通过各靶位完成镀膜成品工艺。
[0017]作为一种优选方式，所述第一 HO2O3层2和第二 HO 203层2使用了稀土材料钬靶，反应溅射制备时，随着反应气体O2分压的不同，溅射靶材的表面存在两种不同的稳定状态，分别是金属态和氧化态，在氧分压低时溅射靶面上是钬，此时靶电压随着(V流量的增加而产生变化，此时称为金属态，当氧分压增加到一个临界值时溅射靶面的电压急剧降低，继续增加(V流量，靶面电压没有太大变化，溅射速率和沉积速率降低，此时进入氧化状态，第一S1Jl 3和第二 S1 2层5采用多晶硅靶，溅射控制方法同反应溅射制备第一 HO 203层2和第二 HO2O3层2相同，真空室的本地真空度达到3.6E10-4Pa，溅射时的气压为2_6E_lpa，溅射气体采用惰性气体氩气，氩气流量90-120SCCM，反应气体氧气45SCCM，采用靶电压监控法系统控制。根据本实用新型所需的膜厚要求选用金属态和氧化态之间的过渡态，既保证溅射过程中溅射出的钬原子和原子团与氧充分反映获得H0203，同时又能保证工艺要求的沉积速率。
[0018]本实施例中，具有一定的吸光特性的高折射率稀土氧化物介质膜层和低折射率的二氧化硅膜层高低搭配实现对高能量蓝光的部分阻隔，采用这种膜系设计即可满足对高能量蓝光的一定阻隔又能达到显示器元件在其它波长上透光量的增透效果。本膜系选用材料折射率:Si02折射率1