羧酸酐的制造方法、羧酸酰亚胺的制造方法和电子照相感光构件的制造方法与流程

技术特征：

1.一种羧酸酐的制造方法，其特征在于，包括以下步骤(i)至(iii)的任意步骤：

(i)在第一溶剂的存在下加热包含由式(1)表示的化合物的组合物从而生产由式(2)表示的羧酸酐：

其中在式(1)和(2)中，Y表示二价至六价的有机基团，n表示2至6的整数，并且m表示1至3的整数；

(ii)在第二溶剂的存在下加热包含选自由式(3)表示的化合物和由式(4)表示的化合物组成的组的至少一种化合物的组合物从而制备由式(5)表示的羧酸酐：

其中在式(3)至(5)中，X¹表示除去了四个羧基的四羧酸的残基；和

(iii)在第三溶剂的存在下加热包含由式(6)表示的化合物的组合物从而生产由式(7)表示的羧酸酐：

其中在式(6)和(7)中，R¹表示选自由氢原子、烷基、卤素原子和羧基组成的组的原子或基团，R²表示选自由氢原子、烷基和卤素原子组成的组的原子或基团，并且X²表示除去了两个羧基的二羧酸的残基，

其中所述第一溶剂、所述第二溶剂和所述第三溶剂各自包含沸点为50℃以上的非质子性极性溶剂。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述非质子性极性溶剂是选自由脂肪酸酯、酰胺、亚砜和酮组成的组的非质子性极性溶剂。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述脂肪酸酯是选自由乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸异丙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、丙酸甲酯、戊酸甲酯、戊酸乙酯、己酸甲酯、己酸乙酯、庚酸甲酯、庚酸乙酯、正辛酸甲酯和正辛酸乙酯组成的组的化合物。

4.根据权利要求2所述的方法，其中所述酰胺是由式(8)表示的化合物：

其中R³和R⁴各自表示烷基，并且R⁵表示氢原子或烷基。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述由式(8)表示的化合物是选自由N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺和N,N-二甲基乙酰胺组成的组的化合物。

6.根据权利要求2所述的方法，其中所述亚砜是由式(9)表示的化合物：

其中R⁶和R⁷各自表示烷基。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述由式(9)表示的化合物是二甲亚砜。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一溶剂、所述第二溶剂和所述第三溶剂各自进一步包含选自由烃、含卤素的溶剂和醚系溶剂组成的组的溶剂。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述烃是芳香族烃或脂族烃。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述芳香族烃是选自由甲苯、邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、异丙基苯、1,3,5-三甲基苯、对异丙基苯甲烷、1,2,4,5-四甲基苯和叔丁基苯组成的组的溶剂。

11.根据权利要求9所述的方法，其中所述脂族烃是选自由环己烷、甲基环己烷、乙基环己烷、环庚烷和环辛烷组成的组的溶剂。

12.根据权利要求1所述的方法，其中在各个所述步骤(i)至(iii)中用于生产所述羧酸酐的加热在50℃至150℃的温度下进行。

13.根据权利要求1所述的方法，其中在式(1)至(7)中的Y、X¹和X²各自是由式(10)、(11)和(12)的任何之一表示的基团：

14.一种羧酸酰亚胺的制造方法，其特征在于，包括：

将通过根据权利要求1所述的方法生产的羧酸酐和胺缩合。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述羧酸酐是四羧酸酐，并且所述羧酸酰亚胺是四羧酸二酰亚胺。

16.一种电子照相感光构件的制造方法，所述电子照相感光构件包括支承构件、遍及所述支承构件的底涂层和在所述底涂层上的感光层，所述方法的特征在于，包括：

制备包含通过根据权利要求14所述的方法生产的羧酸酰亚胺的底涂层形成用涂布液；和

通过施涂所述底涂层形成用涂布液从而形成涂膜并且干燥所述涂膜来形成所述底涂层。