技术特征：
技术总结
本发明公开了式(Ⅳ)所示的聚硅杂环丁烷型硅氧烷光敏树脂，该聚硅杂环丁烷型硅氧烷光敏树脂的制备方法是：取氯甲基甲基二氯硅烷和异丙醇合成氯甲基甲基异丙氧基氯硅烷，再合成1,3‑二异丙氧基‑1,3‑二甲基‑1,3‑二硅杂环丁烷，进一步再合成端异丙氧基聚硅杂环丁烷型硅氧烷，再制备端苯并环丁烯基聚硅杂环丁烷型硅氧烷即聚硅杂环丁烷型硅氧烷光敏树脂。本发明通过格氏反应、水解缩聚反应合成了具有苯并环丁烯/硅杂环丁烷光/热双重交联结构和低介电常数的光敏性聚合物；具有优良的热学性能、力学性能、电学性能和成膜性能，适宜于规模化批量生产，可作为高性能介电薄膜材料或封装材料用于微电子工业、航空航天和国防等领域。
技术研发人员：范立;杨军校;胡欢;李娴;韦雪莲;黄亚文
受保护的技术使用者：西南科技大学
技术研发日：2017.06.15
技术公布日：2017.10.27