一种滑动压紧反应室机构的制作方法

本发明涉及反应装置技术领域，更具体地，涉及一种滑动压紧反应室机构。

背景技术：

在做导流杂交实验过程中，要在反应室表层覆盖基因芯片，同时需要分隔室配合硅胶圈对芯片进行压紧定位，并提供一定的力矩，压紧反应室，从而防止出现分隔室间的液体互渗的情况。但当前很多在医院做实验的实验人员仍需要手动靠人力压紧反应室，无法满足其需要的可自动化、便捷、可靠性及可控性的需求；申请号为cn201210568466.2、名称为：反应室装置和用于形成反应室装置的方法的已公开专利，公开的反应室装置在使用时不能自动化、可靠稳定的压紧反应室机构。自动化压紧反应室机构可靠性不佳，容易出现反应室机构压紧过程中压紧机构卡滞顶死的情况，因此需要设计一款结构简单，操作更加快捷，功能健全的反应室压紧机构。

技术实现要素：

本发明为克服上述现有技术的反应室压紧机构可靠性不佳、易出现卡滞顶死的问题，提供一种滑动压紧反应室机构，具有机构运行稳定、流畅的优点。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种滑动压紧反应室机构，包括有机架，机架上设有反应室，其中，机架上设有驱动装置，机架上滑动连接滑动上盖，滑动上盖与驱动装置连接，反应室上设有分隔组件，分隔组件上设有凸起部，滑动上盖上设有支撑部，支撑部在滑动上盖相对于机架滑动的过程中挤压凸起部。

本方案中，反应室设置在机架上，机架上设有驱动装置，驱动装置连接滑动上盖，滑动上盖与机架滑动连接，滑动上盖在驱动装置的驱动下能相对于机架滑动，滑动上盖上设有支撑部。在反应室上设有分隔组件，在分隔组件上设有凸起部，在滑动上盖滑动至支撑部与凸起部接触时，支撑部挤压凸起部，滑动上盖对分隔组件产生压力，实现分隔组件与反应室的紧密稳定配合。

在一个实施方式中，机架包括有底板及设于底板相对的两侧的支板，支板上设有与滑动上盖连接的滑槽，支板与滑动上盖滑动连接。机架包括有底板和支板，支板设置在底板相对的两侧，支板上设有与滑动上盖连接的滑槽，滑动上盖与支板滑动连接。

优选地，驱动装置通过固定板与支板连接，滑动上盖与驱动装置通过第一传动件连接。驱动装置通过固定板固定连接在支板上，驱动装置连接第一传动件，第一传动件与滑动上盖连接，驱动装置通过驱动第一传动件实现对滑动上盖的驱动，进而实现滑动上盖相对于支板的滑动。

优选地，驱动装置连接有第二传动件，第二传动件连接有盖体，盖体在随第二传动件运动时能遮挡反应室。第二传动件与第一传动件连接，第一传动件能驱动第二传动件运动。第二传动件在运动时，带动盖体运动，盖体在运动时能遮挡反应室，对反应室起到遮挡防护作用。

优选地，盖体相对的两侧设有朝向底板、与支板配合的翼板。翼板朝向底板，翼板与支板配合，用于遮挡盖体与支板之间的间隙，避免杂质越过间隙进入到反应室，对反应室起到防护作用。

优选地，底板设有风扇，风扇的出风口朝向反应室。风扇用于鼓风，调节反应室的温度，实现对反应室温度的控制，避免反应室温度不稳定影响反应过程。

优选地，支板之间设有漏液槽，漏液槽设有漏液孔。

优选地，固定板上设有光耦，第一传动件和第二传动件运动过程中能触发光耦。固定板的光耦在第一传动件和第二传动件运动至预定位置时被触发，通过光耦的被触发，便于精确的对第一传动件和第二传动件的位置进行定位和控制。

优选地，第一传动件设有挡片，挡片在运动过程中能触发光耦。

优选地，底板上设有与反应室连接的限位块。限位块固定设置在底板上，通过固定块对反应室的位置进行限位，增加反应室的稳定性。

本发明与现有技术相比，具有以下优点：

本发明提供的滑动压紧反应室机构采用驱动装置带动滑动上盖相对于机架运行的方式来对反应室进行压紧，来替代传统手动靠人力压紧反应室的方案，同时还能保证设备运行中的流畅性。由机械设备代替人力操作，定位可靠、安全，不会出现人为污染，是实验更加高效稳定，同时能准确的保证施加在设备上的力矩适当。

附图说明

图1是本发明实施例中整体结构示意图。

图2是本发明实施例中部分结构示意图。

图3是本发明实施例中爆炸结构示意图。

具体实施方式

附图仅用于示例性说明，不能理解为对本发明的限制；为了更好说明本实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。附图中描述位置关系仅用于示例性说明，不能理解为对本发明的限制。

本发明实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件；在本发明的描述中，需要理解的是，若有术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。

实施例：

如图1至图3所示，本发明提供滑动压紧反应室机构，包括有机架，机架包括有底板5、设于底板5相对的两侧的支板4，在机架上设有驱动装置1，驱动装置1通过固定板3与支板4固定连接。在底板5上设有限位块7，限位块7用于对设置在底板5上的反应室10进行限位，实现反应室10与底板5的稳定连接，反应室10设有硅胶圈16，硅胶圈16具有缓冲密封的功能。

如图1、图2所示，机架上滑动连接滑动上盖12，在支板4上设有与滑动上盖12滑动连接的滑槽。

如图3所示，驱动装置1连接驱动轴21，驱动轴21为丝杆，在支板4之间设有与驱动轴21连接的板体20，驱动轴21的一端与驱动装置1连接，另一端与板体20连接，板体20用于增加驱动轴21在转动过程中的稳定性。在板体20与固定板3之间还设有限位轴22，驱动装置1设有两个，限位轴22设于两个驱动装置1之间，第一传动件18与驱动轴21螺纹连接，第一传动件18与限位轴22滑动连接。驱动轴21转动驱动第一传动件18，由于限位轴22与驱动轴21相互配合对第一传动件18的运动自由度起到限制作用，第一传动件18在驱动轴21的作用下只能相对于限位轴22滑动。第一传动件18与滑动上盖12连接，驱动装置1通过驱动轴21驱动第一传动件18，第一传动件18带动上盖12相对于支板4滑动。

如图2和图3所示，在反应室10上设有分隔组件8，分隔组件8上设有凸起部11，滑动上盖12上设有支撑部13。支撑部13为设置在滑动上盖12上凸起的钢珠，凸起部11上设有与支撑部13配合的斜坡结构。驱动装置1带动驱动轴21转动，驱动轴21带动第一传动件18运动，第一传动件18带动滑动上盖12相对于支板4滑动，滑动上盖12同步的带动支撑部13向凸起部11运动，由于滑动上盖12与支板4滑动连接，滑动上盖12相对于支板4只能滑动不能上下运动，支撑部13接触到凸起部11的斜坡结构后再继续相对于斜坡结构运动的，支撑部13会逐渐挤压凸起部11，施加压力在凸起部11上，实现对分隔组件8的压紧。同时分隔组件8对反应室10的硅胶圈16进行压紧，实现对反应室10中的芯片的压紧。

如图3所示，本实施例中，底板5上设有风扇6，风扇6的出风口朝向反应室10，风扇6用于对反应室10进行温度控制，在反应室10需要降温时可以开启风扇6。支板4之间设有漏液槽9，漏液槽9设有漏液孔，漏液槽9收集液体，通过漏液孔排出。

如图1和图3所示，本实施例中，驱动装置1连接的第二传动件19，第二传动件19与限位轴22滑动连接，第二传动件19连接盖体14。驱动装置1带动第二传动件19运动，在驱动装置1的驱动作用下，第一传动件18带动滑动上盖12运动，第二传动件19带动盖体14运动，滑动上盖12运动至预定位置时，对分隔组件8进行压紧，盖体14运动至反应室10上方，对反应室10进行遮盖。

固定板3上设有光耦2，第一传动件18设有挡片15，第一传动件18运动过程中通过挡片15触发光耦，第二传动件19运动过程中能触发光耦，光耦2用于感测第一传动件18、第二传动件19的位置。

本实施例中，盖体14相对的两侧设有朝向底板5、与支板4配合的翼板，翼板朝向底板5、翼板与支板4配合，用于遮挡盖体14与支板4之间的间隙，避免杂质越过间隙进入到反应室10，对反应室10起到防护作用。

显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。