基膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本申请涉及一种基膜、积层体以及制备偏光膜的方法。
【背景技术】
[0002] 将二色性材料吸附或定向在聚乙烯醇类树脂（以下称作"PVA树脂"）层中来制备 偏光膜的方法是众所周知的。偏光膜通常被用于显示器，例如液晶显示器（LCD)。例如，通 常厚度为约60μm至80μm的PVA树脂类偏光膜被粘贴到IXD液晶面板的两面。
[0003] PVA树脂是亲水性的。因此，偏光膜对温度或湿度的变化敏感，容易膨胀、收缩，并 且容易导致所谓卷曲的缺陷。因此，为了抑制膨胀、收缩以及减少温度和湿度的影响，通常 把保护膜粘贴到PVA树脂偏光膜的两面。然而，当偏光膜较厚时则不容易抑制膨胀、收缩， 并且当偏光膜被粘贴到液晶面板等时会引起应力，该应力导致在屏幕上产生污渍等。此外， 近来随着对薄型设备或低耗能设备需求增加，对更薄的偏光膜的需求也在增加。
[0004] 例如，专利文件1等公开有制备薄偏光膜的方法。
[0005]现有抟术f件
[0006] 专利f件
[0007] 专利文件1 :韩国专利第1175700号。
【发明内容】
[0008] 发明目的
[0009] 本申请提供一种基膜，积层体以及制备偏光膜的方法。
[0010] 技术方案
[0011] 本申请涉及一种基膜。一种示例的基膜，例如，可以是一种在延伸能显示偏光功能 的材料例如PVA树脂的处理中使用的膜（以下称作"可延伸膜"或"可延伸基膜"）。在上 面的描述中，如图1所示，例如，当把包含由于延伸而能显出偏光功能的材料（以下称作"可 偏光材料"）的层102 (以下称作"可偏光材料层"）层合于基膜101的任一表面或两个表面 上而制备积层体100时，可以进行该延伸处理以延伸该积层体。
[0012] 为了有效进行这样的延伸处理并得到高功能的薄偏光膜，可以在考虑到被共同延 伸的可偏光材料层的性能下确定基膜的性能。
[0013] 基膜的性能可以包括，例如，可以通过拉伸试验而测定的各种物理性质。通常，拉 伸试验所确定的伸长曲线可以被划分为显示所施加的负载与伸长度（伸长，_)之间关系 的负载-伸长曲线以及显示工程应力与工程应变之间关系的应力-应变曲线。除非另外具 体定义，否则在本说明书中所定义的性能可以为在后者曲线中，即，显示工程应力与工程应 变之间关系的应力-应变曲线中所确定的性能。
[0014] 在本申请中，通过下面的方法说明伸长曲线。首先，将待测伸长曲线的样本制备 成横向长度为15_、纵向长度为70_的样本。样本的横向长度和纵向长度是用于延伸的 长度，排除了固定于拉伸试验机的部分。接着，将样本固定于拉伸试验机中，在室温以约 300mm/min的拉伸速度在纵向方向上拉伸直到样本断裂为止，然后图示出到该样本断裂为 止的距离对所测定的力的图（X轴：距离，Y轴：力）。接着，应用样本的面积与厚度，将该图 转换为伸长率对拉伸强度的图（X轴：伸长率，Y轴：拉伸强度），待描述的各拉伸性能可以 根据该转换的图来测定。在本说明书中，术语"室温"是非人为提高或降低的自然温度，可 以指约10°C至30°C、约25°C、或约23°C的温度。同样，当在本说明书中定义物理性质时，除 非另外具体定义，否则该物理性质对应于室温下测得的物理性质。
[0015]例如，在基膜中，为了防止可偏光材料在延伸后因收缩而引起的缺陷（以下会描 述），该基膜需要满足下述式1。
[0016][式1]
[0017]E/R彡 5，
[0018] 在式1中，E为室温下测定的可延伸基膜的伸长率（单位：％ )，R为恢复率（单 位：％)。在上面的描述中，可以从伸长曲线得到伸长率，该伸长曲线是通过在测量温度下 进行上述拉伸试验而得到的。
[0019] 此外，在上面的描述中，恢复率的测定是通过将宽度和长度与基膜相同而厚度为 30μm的聚乙烯醇膜粘贴到被切成宽度为50mm、长度为100mm的基膜的表面而制备的积层 体在水（温度：60°C)中在长度方向上延伸5倍，从水中取出该积层体，除去聚乙烯醇膜，然 后将该积层体在室温保持1小时，测定该基膜在长度方向上的长度（T)，然后将所测得的值 (T)代入式"100X(T-A)/A"。在所述式中，A为延伸前的基膜的长度。
[0020] 当将根据式1的比率（E/R)调整到上述范围时，通过待述的延伸处理的有效延伸， 可以得到具有优异的偏光功能或透光率的非常薄的偏光膜。在另一个实施例中，所述比率 (E/R)可以为10以上、15以上、20以上、25以上、或30以上。在另一个实施例中，所述比率 (E/R)可以为600以下、500以下、400以下、300以下、200以下、100以下、70以下、65以下、 60以下、55以下、50以下、45以下、或40以下。
[0021] 所述基膜可以满足式1并具有约200%至1500%的伸长率范围。在另一个实施例 中，所述伸长率可以为约250 %以上、或约300 %以上。在另一个实施例中，所述伸长率可以 为约1400%以下、1300%以下、1200%以下、1100%以下、1000 %以下、900%以下、800 %以 下、700%以下、600%以下、或550%以下。
[0022] 所述基膜的恢复率也可以为30%以下、25%以下、或约20%以下。所述恢复率还 可以为约5%以上、10%以上、或15%以上。
[0023] 在所述基膜中，通过上述方法测定的伸长曲线（直到所述样本被拉伸并断裂为止 所测定的伸长率与拉伸强度的图（X轴：伸长率，Y轴：拉伸强度））的积分值范围可以为 2000Nmm至10,OOONmm。在另一个实施例中，所述积分值可以为2500Nmm以上、3000Nmm以 上、3500Nmm以上、或4000Nmm以上。在另一个实施例中，所述积分值还可以为9000Nmm以 下、8000Nmm以下、或7600Nmm以下。在该范围内，在后叙的延伸处理中可以有利地形成非常 薄且高功能的偏光膜。
[0024] 所述基膜的拉伸强度范围可以为，例如45MPa至200MPa。在另一个实施例中，所 述拉伸强度可以为50MPa以上。在另一个实施例中，所述拉伸强度可以为150MPa以下或 lOOMPa以下。在该范围内，在后叙的延伸处理中可以有利地形成非常薄且高功能的偏光膜。
[0025] 所述基膜的屈服点范围可以为，例如lOMPa至150MPa。在另一个实施例中，所述 屈服点可以为15MPa以上。在另一个实施例中，所述屈服点可以为lOOMPa以下。在该范围 内，在后叙的延伸处理中可以有利地形成非常薄且高功能的偏光膜。
[0026] 所述基膜的弹性极限范围可以为，例如200MPa至1，OOOMPa。在另一个实施例中， 所述弹性极限可以为250MPa以上、300MPa以上、或350MPa以上。在另一个实施例中，所述 弹性极限可以为900MPa以下、850MPa以下、或800MPa以下。在该范围内，在后叙的延伸处 理中可以有利地形成非常薄且高功能的偏光膜。
[0027] 当结合所述可偏光材料层来选择所述基膜以满足上述物理性质中的至少一种物 理性质时，通过延伸处理可以有效地制备厚度为，例如，约10ym以下、约8μηι以下、约7μL? 以下、约6μπι以下、或约5μπι以下并显示出高功能性的非常薄的偏光膜，并且可以有效防 止偏光膜在所述处理中产生撕裂或卷曲。
[0028]例如，可以选择所述基膜以使得以相同方式测定的伸长曲线的积分值（Α)与可偏 光材料层的积分值（Β)的差异（Α-Β)的绝对值在l，500Nmm至10,000Nmm范围内。在另 一个实施例中，所述差异的绝对值可以为2,000Nmm以上、2,500Nmm以上、3,000Nmm以上、 3,500Nmm以上、或约4,000Nmm以上。在另一个实施例中，所述差异的绝对值还可以为约 9,OOONmm以下、8,OOONmm以下、7,OOONmm以下、或 6, 500Nmm以下。
[0029]例如，可以选择所述基膜以使得所述基膜的拉伸强度与所述可偏光