基膜的制作方法_4

文档序号:9548415阅读:来源:国知局
乙烯醇 膜。将所述积层体在室温保持1小时,测定所述基膜的纵向长度(T)。然后将所测得的长度 (T)带入式"100X(T-A)/A"以计算恢复率。在所述式中,A表示延伸之前所述基膜的纵向 长度。
[0066] 3.熔融指数(MI)的评估
[0067] 根据ASTMD1238标准,使用500g的负载,在215°C的温度下,以在10分内通过直 径为2. 095mm的孔口的样本重量(单位:g/10min)来测定恪融指数。
[0068] 4.硬度的评估
[0069] 在室温下,使用厚度为2mm的样本,通过Shore D硬度计(ASKERCo.,Ltd.,Japan) 来测定硬度。
[0070] 制备例1.基膜(TPU膜⑷)的制备
[0071] 通过已知的方法,使用含有重均分子量(Mw)为约2, 000的聚酯多元醇、亚甲基二 苯基二异氰酸酯(MDI)和1,4-丁二醇(増链剂)的混合物制备出TPU膜,所述聚酯多元醇 是通过已知的己二酸与1,4-丁二醇的酯化反应制得的。具体地,将所述聚酯类多元醇和 所述MDI以1 :1. 46的重量比(聚酯类多元醇:MDI)添加到反应器内。使用所得混合物在 80°C以200rpm的转速搅拌并添加氮气下的反应来制备异氰酸酯封端的预聚合物。接着,相 对于100重量份的所述预聚合物,另外加入14重量份的増链剂(1,4- 丁二醇),并在80°C 以200rpm的转速搅拌并添加氮气下反应直到在所述反应器中的异氰酸酯(-NC0)的含量变 为0为止以合成出TPU。浇铸所合成的TPU以制备厚度为约50μπι的TPU膜。
[0072] 制备例2.基膜(TPU膜⑶)的制备
[0073] 除了将1,4- 丁二醇(BD)与新戊二醇(NPG)以1 :0. 5(BD:NPG)的重量比混合用作 増链剂之外,以与制备例1相同的方式制备出厚度约为50μπι的TPU膜。
[0074] 制备例3.基膜(TPU膜(〇)的制备
[0075] 除了将1,4- 丁二醇(BD)与新戊二醇(NPG)以1 :1. 5(BD:NPG)的重量比混合用作 増链剂之外,以与制备例1相同的方式制备出厚度为约50μπι的TPU膜。
[0076] 在下面表1中总结并示出每个被制备的膜的性质。
[0077][表1]
[0078]
[0080] 实施例1.
[0081] 使用水基PVA类粘合剂将表1示出的所述PVA类树脂膜层合于制备例1所制备的 所述TPU膜(A)的表面上以制备积层体。然后,在约30°C的温度下,将所述积层体浸渍于 含有碘和碘化钾的染料溶液(溶剂:水)中合适的时间,碘被吸附到所述PVA类树脂膜中。 相对于100重量份的水,所述染料溶液中碘的含量为约0. 1重量份、所述碘化钾的含量为约 〇. 7重量份。然后,在约60°C的温度下,将所述积层体浸渍于含硼酸和碘化钾的硼酸溶液 中,并延伸直到最终的PVA类树脂膜的厚度为约5.8μπι为止(拉伸比:原始长度的约5.6 倍)。所述PVA类树脂膜与从所述经延伸的积层体分离用于测定。结果显示所制备的偏光 膜的透光率为约40%以上、偏光度为99%以上。
[0082] 实施例2.
[0083] 除了使用在制备例2中制备的TPU膜(B)之外,以与实施例1相同的方式制备出 偏光膜。所制备的偏光膜的透光率为约40%以上、其偏光度为约99%以上。
[0084] 实施例3.
[0085] 除了使用在制备例3中制备的TPU膜(C)之外,以与实施例1相同的方式制备出 偏光膜。所制备的偏光膜的透光率为约40%以上、其偏光度为约99%以上。
[0086] 比较例1.
[0087] 除了使用表1所示的无定形PET膜来替代所述TPU膜之外,以与实施例1相同的 方式制备出偏光膜。但在该情况下,随着拉伸比增加,所述PVA类树脂膜破裂或严重卷曲, 因而未能制备出具有合适性能的偏光膜。
[0088] 附图标记说明
[0089] 100 :积层体
[0090] 101 :基膜
[0091] 102 :可偏光材料层或偏光膜
【主权项】
1. 一种满足下式1的可延伸基膜: [式1] E/R彡 5, 其中,在式1中,E表示室温下测定的可延伸基膜的伸长率(单位:% ),R表示恢复率 (单位:% ),所述恢复率的测定方法如下:通过将宽度和长度与基膜相同而厚度为30μm 的聚乙烯醇膜粘贴到被切成宽度为50mm、长度为100mm的基膜的表面而制备的积层体在 60°C的水中于纵向延伸5倍,从水中取出该积层体,剥离聚乙烯醇膜,将该积层体在室温保 持1小时,测定所述基膜在长度方向上的长度T,并将所测得的值代入式" 100X(T-A)/A"中 来计算恢复率,其中,该式中的A为延伸之前所述基膜的长度。2. 如权利要求1所述的可延伸基膜,其中,所述伸长率在200%至1500%的范围内。3. 如权利要求1所述的可延伸基膜,其中,拉伸强度的范围为20MPa至200MPa。4. 如权利要求1所述的可延伸基膜,其中,伸长曲线的积分值在2000Nmm至10,OOONmm 的范围内。5. 如权利要求1所述的可延伸基膜,其中,屈服点在lOMPa至150MPa的范围内。6. 如权利要求1所述的可延伸基膜,其中,弹性极限在200MPa至1,OOOMPa的范围内。7. 如权利要求1所述的可延伸基膜,其包含热塑性聚氨酯。8. 如权利要求7所述的可延伸基膜,其中,所述热塑性聚氨酯为包含多元醇、多异氰酸 酯化合物和増链剂的混合物的反应产物。9. 如权利要求8所述的可延伸基膜,其中,所述多元醇的重均分子量在500至5, 000的 范围内。10. 如权利要求8所述的可延伸基膜,其中,相对于100重量份的所述多元醇,所述混合 物中的多异氰酸酯化合物和増链剂的总重量在1重量份至90重量份的范围内。11. 如权利要求8所述的可延伸基膜,其中,相对于100重量份的所述多元醇,所述混合 物包含1重量份至50重量份的多异氰酸酯化合物。12. 如权利要求8所述的可延伸基膜,其中,相对于100重量份的所述多元醇,所述混合 物包含0. 1重量份至30重量份的増链剂。13. -种积层体,其包含: 权利要求1所述的基膜;以及 形成在所述基膜的任一表面或两个表面上的可偏光材料层。14. 如权利要求13所述的积层体,其中,所述可偏光材料层为含有聚乙烯醇类树脂的 薄膜或涂层。15. 如权利要求13所述的积层体,其中,所述可偏光材料层的厚度在15μπι至100μπι 的范围内。16. -种制备偏光膜的方法,其包括权利要求13所述积层体的延伸。17. 如权利要求16所述的方法,其中,所述延伸是在原始长度的2倍至15倍范围内的 拉伸比下进行。18. 如权利要求16所述的方法,其中,所述延伸是在20°C至80°C范围内的水溶液中进 行。19. 如权利要求18所述的方法,其中,所述水溶液是硼酸溶液。20.如权利要求16所述的方法,其中,延伸之后所述可偏光材料层的厚度为10μπι以 下。
【专利摘要】本发明提供了一种基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜的方法。本发明提供了一种能够有效地制备偏光膜的基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜方法,所述偏光膜的厚度为约10μm以下、约8μm以下、约7μm以下、约6μm以下或约5μm以下,并具有优异的功能,例如偏光性能。根据本发明可以防止在延伸处理中产生撕裂或卷曲等,并且可以通过容易地延伸可偏光材料例如PVA类树脂而制备偏光膜。
【IPC分类】C08L75/04, C08J5/18, G02B5/30
【公开号】CN105308103
【申请号】CN201480032961
【发明人】梁世雨, 南星铉, 罗钧日, 黄闰泰, 郑棕炫, 柳惠珉, 黄智英, 朴恩淑
【申请人】Lg化学株式会社
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2014年6月19日
【公告号】US20160195641, WO2014204248A2, WO2014204248A3
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