专利名称：密封剂的施加方法
技术领域：
本发明涉及在制造电子基质过程中施加密封剂(密封材料)以便绝缘和防潮的方法。更具体地，本发明涉及施加能够密封等离子显示器的将放置在一起的玻璃基质端面的密封剂的方法。
背景技术：
首先，通过等离子显示器的制造方法描述已知的上述类型方法。等离子显示器利用一对电极之间的气体放电产生紫外光，利用产生的紫外光激发荧光元件产生可见光。等离子显示器通常具有三明治式层状结构，不同种类的功能薄膜形成在前玻璃板和后玻璃板之间，包括电极膜、荧光膜和承载荧光膜的肋。在把导线焊到电极上通电之后，利用密封剂把结合在一起的玻璃基质的端面密封，主要是为了绝缘和防潮。
该结构略示于图2中。图2是示出等离子显示器的施加有密封剂的部分的简要透视图，图3是等离子显示器的施加有密封剂的部分的简要截面图。在图2和3中，等离子显示器1包括前玻璃板2、后玻璃板3和设置在玻璃板之间的不同种类的功能薄膜4，这些功能薄膜4包括电极膜、荧光膜和承载荧光膜的肋。这样，等离子显示器1具有类似三明治的层状结构。图2和3中的参考标号5表示驱动等离子显示器1的驱动基质。许多细导线6设置成薄膜状态以便连接驱动基质5和形成在等离子显示器1的功能薄膜4中的电极。
应该注意到前玻璃板2的尺寸小于后玻璃板3，而功能薄膜4的尺寸小于前玻璃板2。在把导线6焊接到等离子显示器1的电极上后，把密封剂7施加在前玻璃板2和位于后玻璃板3上的功能薄膜4的整个端面上，包括导线6的连接区域，以便密封等离子显示器，目的是为了绝缘和防潮。因此，如同在图2中所清楚地看到一样，施加密封剂7的部分的形状具有形成在前玻璃板2和后玻璃板3之间的凹穴。参考图3，功能薄膜4的总厚度a在100和400μm之间，前玻璃板2从功能薄膜4伸出一段距离b在500和3000μm之间。这样，凹穴由厚度a和距离b形成。
上述已知方法具有如下所述缺点。当制造上述类型的等离子显示器时，通常发生所施加的密封剂7没有填充凹穴就结束的现象，留有空隙(在图3中用c表示)，由于在制造时，功能薄膜4的端面位于前玻璃板2的端面的里面。
密封剂7通常是硅型或环氧树脂型，能够使用紫外线或加热施加，粘度在100和1000 poise/20℃之间。当使用施加喷嘴垂直于基质施加密封剂产生密封剂的连续凸缘时，凹穴可能产生空隙。虽然使用把密封剂溶解在溶剂中所获得的低粘度密封剂可以避免这一问题，但是由于溶剂蒸发所产生的气体可能污染环境，从而导致污染问题。因此，密封方面需要改进。
发明内容
鉴于上述问题，因此本发明的目的是提供一种向层状结构诸如电子基质的端面施加密封剂的方法，其中沿着端面形成的凹穴或者阶梯区域能够有效地填充密封剂，即对密封剂在喷射力和整个性能方面进行改进。
根据本发明，上述目的通过一种把密封剂施加到目标区域的方法实现，该方法包括如下步骤首先以连续凸缘的形式把密封剂施加在目标区域，然后使从气体喷嘴喷出的压缩气流冲击所述施加的密封剂的连续凸缘，同时利用所述气体喷嘴扫描所述密封剂的连续凸缘。
根据本发明，密封剂以连续凸缘的形式施加到目标区域，然后压缩气流从气体喷嘴中喷出，同时扫描所施加的凸缘，从而挤压密封剂凸缘并扩展在端面上，以便有效地填充沿着端面形成的凹穴或者阶梯区域。
下面结合附图及实施例对本发明进行详细说明图1A和1B是用于一个例子中的根据本发明的施加密封剂的方法的示意图；图2是等离子显示器的利用根据本发明的方法施加密封剂的部分的示意性透视图；图3是等离子显示器的利用现有方法施加密封剂的部分的示意性截面图；具体实施方式
将参考附图以举例方式详细描述根据本发明的施加密封剂的方法。依据等离子显示器描述本发明，该等离子显示器包括玻璃基质，这些玻璃基质放置在一起并使用已知方法在端面密封，如图2所示，并在上面进行了描述。图1A和1B简要示出根据本发明的在制造等离子显示器过程中施加密封剂的方法。图2和3中的相同元件使用相同的参考标号表示。图1A是以凸缘形式施加密封剂的简要视图，图1B是压缩气体从气体喷嘴喷向密封剂的简要视图。
参考附图，等离子显示器1包括前玻璃板2、后玻璃板3和设置在玻璃板之间的不同种类的功能薄膜4，包括电极膜、荧光膜和承载荧光膜的肋。这样，等离子显示器1具有类似三明治的层状结构。参考标号5表示驱动等离子显示器1的驱动基质。许多细导线6设置在薄膜中以便连接驱动基质5和形成在等离子显示器1的功能薄膜4中的电极。
前玻璃板2的尺寸小于后玻璃板3，而功能薄膜4的尺寸小于前玻璃板2。在把导线6焊接到等离子显示器1的电极上后，把密封剂7施加在前玻璃板2和位于后玻璃板3上的功能薄膜4的整个端面上，包括导线6的连接区域，以便密封等离子显示器，目的是为了绝缘和防潮。因此，如同在图2中所清楚地看到一样，施加密封剂7的部分的形状具有形成在前玻璃板2和后玻璃板3之间的凹穴。参考图3，功能薄膜4的总厚度a在100至400μm之间，前玻璃板2从功能薄膜4伸出一段距离b，在500至3000μm之间。这样，凹穴由厚度a和距离b形成。
首先把密封剂7从密封剂喷嘴8喷到将要密封的区域形成密封剂连续凸缘，如图1A所示，然后如图1B所示，压缩气体10从气体喷嘴9喷到所施加的密封剂7上以便扫描。结果，密封剂凸缘在气体压力下受到冲击并在端面上展开，以便密封剂有效填充到沿着端面形成的凹穴或阶梯区域。
下面将描述在该例子中所做的试验。
1、由功能薄膜的厚度a和间隙b形成的施加区域的凹穴功能薄膜的厚度a100-400μm间隙b 500-3000μm2、密封剂密封剂能够使用紫外线施加的硅型或能够加热施加的环氧树脂型粘度100-1000 poise/20℃之间(无溶剂型)密封剂凸缘0.5-3.0mm(宽度)×0.5-5.0mm(高度)3、气流气体喷嘴前端与承载密封剂的基质表面之间的距离5-25mm气体压力1-3kg/cm2(空气)气流速率50-900升/分钟气体喷嘴的移动速率100-1000mm/秒。
在上述扫描条件下压缩气体(空气)吹向所施加的密封剂凸缘并展开密封剂凸缘。
在上述条件下进行了多次试验发现凹穴总是充满密封剂。已知有一种施加密封剂的涡旋施加技术，是为产生比通常的线形一次施加技术更宽的凸缘而开发的。压缩气体吹在使用涡旋施加技术产生较宽凸缘上进行试验，也获得了满意结果。
虽然上面是依据向等离子显示器的玻璃基质端面施加密封剂的方法来描述本发明的，这些玻璃基质放置在一起以便密封端面，但是本发明并不限于此，而是可以用于具有沿着边缘形成的凹穴或阶梯区域并向内施加密封剂的各种物体。
如上所述，根据本发明提供了一种向层状结构的端面施加密封剂的方法，在所述层状结构中一个元件位于另一个上面，诸如电子基质，通过该方法密封剂能够有效地填充沿着端面形成的凹穴或阶梯区域。
权利要求
1.一种把密封剂施加到目标区域的方法，该方法包括如下步骤首先以连续凸缘的形式把密封剂施加在目标区域，然后使从气体喷嘴喷出的压缩气流冲击所述施加的密封剂的连续凸缘，同时利用所述气体喷嘴扫描所述密封剂的连续凸缘。
全文摘要
在制造层状基质(1)诸如电子基质(2,3)过程中,在把密封剂(7)施加到放置在一起的基质(2,3)的端面上密封时,首先以连续凸缘(7)的形式把密封剂(7)施加在目标区域,然后使从气体喷嘴(9)喷出的压缩气流(10)吹向所述连续凸缘(7)以便喷扫所述连续凸缘(7)。该方法能够有效地把密封剂(7)填充到沿着端面形成的凹穴或阶梯区域。
文档编号B05C11/06GK1352802SQ00806623
公开日2002年6月5日 申请日期2000年4月21日 优先权日1999年4月23日
发明者岛田隆治 申请人:诺德森公司