专利名称：具有用于提供涂布溶液的装置的狭缝涂布机的制作方法
技术领域：
本发明一般地涉及狭缝涂布机(slit coater)，并且更具体地，涉及一种能够均匀地将涂布溶液提供至喷嘴的狭缝涂布机，所述喷嘴将诸如光敏溶液、显影溶液、或滤色剂的涂布溶液涂在诸如平板显示(FPD)设备中的玻璃基板、塑料基板、半导体晶片等要进行处理的物体上。
背景技术：
在制造平板显示设备或半导体设备时，多次进行用于淀积薄膜的工艺、用于露出薄膜中被选区域的光刻工艺以及用于去除被选区域的薄膜的蚀刻工艺。具体地，光刻工艺包括涂布工艺，用于在基板或晶片上形成诸如光刻胶的光敏溶液的光敏膜；以及曝光和显影工艺，用于通过采用具有预定图案的掩模来对光敏膜进行构图。
一般而言，在用于在基板和晶片上形成光敏膜的涂布工艺中采用喷涂法、辊涂法、旋涂法等。
由于喷涂法和辊涂法不适用于在涂布膜的均匀性方面获得高精度以及对膜厚进行调整，所以采用旋涂法进行高精度图案的形成。
下面将参照附图对在旋涂法中采用的旋涂机进行详细说明。
图1是示出普通旋涂机结构的剖视图。
如图所示，旋涂机包括连接至转轴6的旋转卡盘5。外壳7包围旋转卡盘5并可以打开和关闭。喷嘴4置于旋转夹盘5上方并且当外壳7打开时移入外壳7中。
在旋转卡盘5上安装待处理并要以光敏膜对其进行涂布的物体10，并且在外壳7的下部安装有用于将诸如光刻胶的光敏溶液排放到外面的泄阀(未示出)。
为了在预定物体10上形成涂布膜，首先，放低具有前述结构的旋涂机的喷嘴4，并将光敏溶液喷涂在已放置在旋转卡盘5上的物体10的表面上。
当将光敏溶液喷涂在物体10上时，外壳7密闭，电机(M)转动，并且连接至电机的转轴6转动，从而使具有物体10的旋转卡盘5转动一定次数。
当转动旋转卡盘5时，借助离心力将物体10表面上的光敏溶液铺开，从而将光敏溶液涂在物体10的整个表面上。
在将光敏溶液涂到物体10的整个表面上之后，使所涂的光敏溶液硬化。然后，通过采用光掩模等的曝光和显影，在物体10的表面上形成预定图案。
虽然采用旋涂机的旋涂法适合用光敏膜涂布诸如晶片的小物体，但是它并不适合用光敏膜涂布又大又重的基板，例如具有用于液晶显示面板的玻璃基板的平板显示设备。
这是由于随着基板越大越重，将更难以高速转动基板。进而，当基板高速转动时，会发生对基板的损伤且会消耗大量的能量。
另外，旋涂法的缺点在于与光刻工艺中光敏溶液的用量相比，大量光敏溶液被浪费。具体地，在高速转动时，大量的光敏溶液被分散到旋转卡盘外面而被浪费。基本上，被浪费的溶液量远大于用于涂布的溶液量，并且被分散的光敏溶液会形成污染随后薄膜形成工艺的粒子。这些粒子还会导致环境污染。
发明内容
根据本发明，提供了一种具有用于提供涂布溶液的装置的狭缝涂布机，包括工作台，待处理的物体安装于其上；狭缝喷嘴单元，其被构造为将涂布溶液涂在物体表面上；以及涂布溶液提供装置，其包括被构造为存储涂布溶液的存储容器、将存储容器中存储的涂布溶液提供至狭缝喷嘴单元的泵、以及与所述泵和所述存储容器流体相通的缓冲容器，其中所述提供装置基本均匀地保持所述泵的压力并去除涂布溶液中的气泡。
另一方面，提供了一种用于制造LCD设备的方法，包括将涂布溶液从存储容器提供至与泵流体相通的密封缓冲容器中。以基本均匀的压力将基本匀量的涂布溶液从密封缓冲容器提供至狭缝喷嘴单元。采用狭缝喷嘴单元将涂布溶液涂在LCD基板表面上。
又一方面，提供了一种用于采用狭缝涂布机制造LCD设备的方法，包括提供将LCD基板安装于其上的工作台，并且采用狭缝喷嘴将涂布溶液涂在基板上。通过涂布溶液提供装置将涂布溶液提供至狭缝喷嘴，所述涂布溶液提供装置包括被构造为存储涂布溶液的存储容器、将存储容器中存储的涂布溶液提供至狭缝喷嘴单元的泵、以及与所述泵和所述存储容器流体相通的密封缓冲容器。所述提供装置被构造为基本均匀地保持泵的压力并去除涂布溶液中的气泡。
又一方面，提供了一种用于采用涂布系统涂布制造LCD设备的光刻胶层的方法，包括提供被构造为将涂布溶液涂在LCD基板上的狭缝喷嘴单元；提供涂布溶液存储容器；提供包括泵的涂布溶液提供系统；以及提供与所述泵和所述存储容器流体相通的密封缓冲容器。所述涂布溶液提供系统被构造为以基本均匀的压力将基本匀量的涂布溶液从缓冲容器提供至狭缝喷嘴单元，并且将涂布溶液涂在LCD基板上。
结合附图，根据对本发明的下述详细说明，本发明的前述和其他特征、方面以及优点将更加显见。
附图被包括进来用以进一步理解本发明，其被并入且构成说明书的一部分，示出了本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
在附图中图1是示出现有技术旋涂机的结构的剖视图；图2A和2B分别是示出根据本发明实施例的狭缝涂布机以及由狭缝涂布机涂覆光敏溶液的立体图；图3是示出根据本发明第一实施例的具有用于提供光敏溶液的装置的狭缝涂布机的示意性示例图；以及图4是示出根据本发明第二实施例的具有用于提供光敏溶液的装置的狭缝涂布机的示意性示例图。
具体实施例方式
现在将详细地说明本发明的优选实施例，其示例在附图中示出。
一般，如上所述，在半导体制造领域和平板显示设备领域中需要光刻工艺来将执行特定功能的薄膜(例如，绝缘膜、金属薄膜、半导体薄膜等)构图为希望的形式。这里，在光刻工艺中采用诸如光刻胶的与光起化学反应的光敏溶液。
在其上已经形成有薄膜的基板上形成具有均匀厚度的光敏膜，使得在工艺过程中不会产生缺陷。例如，如果光敏膜的厚度大于指定厚度，则薄膜应被蚀刻的部分没有被蚀刻，而如果光敏膜的厚度小于指定厚度，则薄膜会被过度蚀刻。另外，随着由于液晶显示(LCD)设备中液晶显示面板尺寸的增大导致基板变大，均匀涂覆光敏溶液成为最重要的问题之一。
根据本发明的实施例，采用通过使用狭缝喷嘴涂覆一定量光敏溶液的喷嘴方法来取代现有技术的旋转器。由于不使用旋转器，所以采用这种喷嘴方法的涂布装置称为无旋转涂布机。另选地，由于通过狭缝涂覆光敏溶液，因此采用“狭缝涂布机”一词。狭缝涂布机通过具有长度大于宽度的狭缝形状的喷嘴提供光敏溶液，并以平面形式将光敏溶液涂于基板表面上，这使得狭缝涂布机适用于将光敏溶液涂覆于较大LCD设备。
图2A和2B是示出狭缝涂布机和由狭缝涂布机涂覆光敏溶液的示例图。根据本发明的实施例，狭缝涂布机设置有具有又窄又长的狭缝的狭缝喷嘴22。通过狭缝喷嘴22提供光敏溶液30，从而以平面形式将光敏溶液30涂在基板100表面上。
狭缝涂布机是通过条形长狭缝喷嘴22将预定量的光敏溶液30涂在基板100等上的装置。狭缝涂布机以恒速从基板100的一侧移动到另一侧，通过细狭缝喷嘴22涂覆匀量的光敏溶液30，从而在基板100的表面上形成均匀的光敏膜。
另外，由于狭缝涂布机可以将光敏溶液30仅涂在基板100的期望表面上，所以与前述旋涂机相比可以无浪费地使用涂布溶液。此外，由于狭缝涂布机可以以具有长宽度的平面形式涂覆涂布溶液，因此它适用于大基板或四边形基板。
用作参考，元件40表示基板100安装于其上的工作台，而箭头指示沿着狭缝喷嘴22移动的方向涂覆光敏溶液30的方向。
根据本发明的狭缝涂布机设置有将光敏溶液提供至狭缝涂布机的喷嘴的装置，并且下面将参照附图对此进行详细说明。
图3是根据本发明第一实施例的设置有用于提供光敏溶液的装置的狭缝涂布机的示意性示例正视图。
如图所示，根据本实施例的狭缝涂布机包括工作台140，基板100安装于其上；狭缝喷嘴单元120，其将例如光敏溶液(诸如光刻胶)的涂布溶液涂覆在基板100上；以及驱动单元150，其安装在狭缝喷嘴单元120的两端并以恒速移动狭缝喷嘴单元120。
驱动单元150包括安装在狭缝喷嘴单元120的两端并沿垂直方向移动狭缝喷嘴单元120的一对Z轴驱动装置151和前后移动狭缝喷嘴单元120以使光敏溶液能被均匀地涂在基板100表面上的一对Y轴驱动装置152。
这里，各Y轴驱动装置152可包括电机(未示出)和诸如传送轨和导轨的传送单元(未示出)，并且非接触式线性电机可用作该电机。
诸如玻璃基板的待处理物体100安装在工作台140上，并且在工作台140内部安装有多个钉(pin)141，用来将基板100向上举离工作台140。由位于工作台140下面的平板142来支撑钉141，并且钉141通过由诸如电机的驱动单元(未示出)来依次上下移动的平板142的作用，将物体100安装在工作台140上或将物体100举离工作台140。
尽管图中未示出，可以在工作台140的一侧上安装用于进行初始涂布的预排放装置。
狭缝喷嘴单元120包括狭缝式喷嘴122，其位于基板100上方并跨越基板100，且具有与基板100的宽度相对应的长度；以及喷头121，喷嘴122安装于其上。
尽管未详细示出，喷嘴122包括喷嘴体、入口和出口，其中喷嘴体具有用来在其中存储光敏溶液的接收空间，入口形成在喷嘴体上，而出口形成在喷嘴体面向基板100的表面上。这里，出口具有长度大于宽度的狭缝形状。
另外，在喷嘴122通过Y轴驱动装置152在从基板100的一侧移动到另一侧的同时涂覆光敏溶液，从而将光敏溶液均匀地涂在基板100的表面上。也可以通过使基板100相对于保持在固定位置处的喷嘴122滑动来涂覆光敏溶液。
用于去除喷嘴122内的气泡的气泡出口160位于狭缝喷嘴单元120的喷头121的上端。
具有这种结构的狭缝涂布机还包括用于向狭缝喷嘴单元120的喷嘴122提供光敏溶液的提供装置以及存储光敏溶液的存储容器171。提供装置还包括供应线176和诸如传感器190的流量控制单元，通过供应线176将所存储的光敏溶液提供至狭缝喷嘴单元120。提供装置还包括诸如泵172的抽运单元，其通过对正从存储容器171提供至狭缝喷嘴单元120的光敏溶液施加恒压来提供待喷涂的光敏溶液。
存储容器171存储诸如光敏溶液(例如光刻胶)、显影溶液、滤色剂等的要提供至狭缝喷嘴单元120的涂布溶液。可以将存储容器171与驱动单元150相连。
缓冲容器175安装在泵172和存储容器171之间以使得泵172压力恒定并去除气泡。用来测量剩余光敏溶液量的液面传感器190与缓冲容器175相连。
在示出配置中，缓冲容器175的液面传感器190检测光敏溶液的储量并向控制装置(未示出)发送信号，并且控制装置将该信号发送至第六阀门180F使得清洁干燥的空气能被引入存储容器171，从而将存储容器171内的光敏溶液引入缓冲容器175。
在示出实施例中，将缓冲容器175放置得与泵172基本等高，以最小化由于势能导致的压差，并在缓冲容器175的上端一侧做出一个孔，即通风道185，从而始终保持缓冲容器175恒压。通过在通风道185处安装空气过滤器，可以最小化缓冲容器175内的污染。
通过通风道185来消除由于被引入缓冲容器175的光敏溶液产生的压力，使得缓冲容器175可以充满光敏溶液。这里，在第二阀门180B打开而第三阀门180C和第五阀门180E关闭的状态下，光敏溶液从缓冲容器175抽入泵172中。因此，吸入量不会变化。
在针对涂布工艺的初始信号第二阀门180B和第五阀门180E关闭而第三阀门180C打开的状态下，抽入泵172中的光敏溶液通过狭缝喷嘴122排放至基板100的表面。
如果在泵172中形成气泡，则在第三阀门180C和第二阀门180B关闭的同时打开第五阀门180E，从而去除气泡，故最小化由于气泡导致的排放量的变化。如果气泡形成在狭缝喷嘴122中，则打开第四阀门180D，使得气泡可以通过气泡出口160排出。
由于在将光敏溶液抽入泵172中的同时保持大气压，因此每当进行抽入时都可以保持泵172的内部压力恒定，这使得泵172始终抽入一定量的光敏溶液并由此排放固定量的光敏溶液。
用于从正由存储容器171提供的光敏溶液中去除杂质的过滤器170安装在缓冲容器175和存储容器171之间。
然而，在根据第一实施例的光敏溶液提供装置中，由于缓冲容器175位于过滤器170的下游并且缓冲容器175始终打开以处于大气压状态，因此提供了空气有可能进入以接触光敏溶液的环境，这可能引起光敏溶液受到污染并形成凝胶。
图4是示出根据本发明第二实施例的具有提供光敏溶液的装置的狭缝涂布机的示意性示例图。
根据本实施例的狭缝涂布机除了提供光敏溶液的装置的结构外，具有与根据第一实施例的狭缝涂布机相同的结构。
如图所示，根据本实施例的狭缝涂布机包括工作台240，基板200安装于其上；狭缝喷嘴单元220，其将例如光敏溶液(诸如光刻胶)的涂布溶液涂在基板200上；以及驱动单元250，安装在狭缝喷嘴单元220的两端并以恒速移动狭缝喷嘴单元220。
驱动单元250包括安装在狭缝喷嘴单元220的两端并上下移动狭缝喷嘴单元220的一对Z轴驱动装置251和以恒速前后移动狭缝喷嘴单元220并将光敏溶液均匀地喷涂在基板200表面上的一对Y轴驱动装置252。
诸如玻璃基板的待处理物体200安装在工作台240上，并且在工作台240内部安装有多个钉241，其用来将基板200向上举离工作台240。由位于工作台240下面的平板242来支撑钉241，从而通过平板242的垂直移动(其通过诸如电机的驱动单元(未示出)的作用)，来将基板200安装在工作台240上或将基板200举离工作台240。
狭缝喷嘴单元220位于基板200上方，并跨越基板200，且包括喷嘴222，其具有与基板200宽度对应的长度的狭缝形状；以及喷头221，喷嘴222安装于其上。
喷嘴222通过Y轴驱动装置252从基板200的一侧移动到另一侧同时喷涂光敏溶液，从而将光敏溶液均匀地涂在基板200的表面上。
用于去除喷嘴222内的气泡的气泡出口260位于狭缝喷嘴单元220的喷头221的上端。
具有这种结构的狭缝涂布机还包括在对光敏溶液的污染最小化且最大程度利用过滤功能的状态下提供匀量光敏溶液的提供装置。提供装置包括存储容器271，其用于存储光敏溶液；供应线276，通过其将存储在存储容器271中的光敏溶液提供至狭缝喷嘴单元220；以及控制装置，其包括多个传感器295A至295E和290，以及多个阀门280A至280H。提供装置还包括诸如泵272的抽运单元，其用来通过对正从存储容器271提供至狭缝喷嘴单元220的光敏溶液施加恒压使得光敏溶液能被喷涂。
存储容器271存储要提供至狭缝喷嘴单元220的诸如显影溶液、滤色剂、或光敏溶液(诸如光刻胶)的涂布溶液。可以将存储容器271与驱动单元250相连。
缓冲容器275安装在泵272和存储容器271之间以保持泵271内恒压并去除气泡。用来测量剩余光敏溶液量的液面传感器290与缓冲容器275相连。
当缓冲容器275的液面传感器290检测光敏溶液的储量时，液面传感器290向控制装置(未示出)发送信号。控制装置接着将该信号发送至第八阀门280H使得清洁干燥的空气能被引入存储容器271，从而将存储容器271内的光敏溶液引入缓冲容器275。
然后，当第一阀门280A和第二阀门280B打开，而第六阀门280F、第三阀门280C和第五阀门280E关闭时，泵272将缓冲容器275中的光敏溶液抽入泵272。
在缓冲容器275和泵272之间安装过滤器270，并且将光敏溶液流过过滤器270的速度设定为在0.1cc/s～1.0cc/s范围内尽可能低来提高过滤器270的效率。由于过滤器270安装在缓冲容器275和泵272之间，与将过滤器270安装在缓冲容器275和存储容器271之间的情况相比，可以更有效地防止将杂质引入泵272中。
由于过滤器270放置在缓冲容器275下游，且缓冲容器275没有通风道(第一实施例中存在)，所以可更有效地防止光敏溶液的污染和形成凝胶。
当泵272完成吸入操作时，存储容器271对泵272施加正压力。为了释放该压力，打开第八阀门280H，使得存储容器271内部处于大气压状态。然后，关闭第一阀门280A和第二阀门280B。
如果没有释放泵272的正压力且泵272和过滤器270内的气泡待去除，则当第一阀门280A、第二阀门280B和第三阀门280C关闭时，将第五阀门280E、第六阀门280F和第七阀门280G打开预定时间段(大约1～10秒)。由于第七阀门280G与泄阀相连，所以释放了泵272的正压力，并且同时去除了泵272和过滤器270内的气泡。
如果阀门280E～280G打开时间段过长，则由于泄阀通常位于比泵272低的位置，所以势能将低压施加给泵272内部，这可能导致将气泡引入泵272和过滤器270中。如果泵272和过滤器270充满气泡，则泵排放量的变化可能导致缺陷。
因此，将排放缓冲容器(未示出)与泵272等高地安装到泄阀，并且排放缓冲容器的泄阀关闭从而释放泵272的低压。
由此，可以经常保持内部压力(即吸入量)恒定。因此，泵排放量仅受泵性能的影响，而与管线和周围环境无关。
在泵272的排放操作期间，第三阀门280C打开且其余阀门关闭的状态下，执行光敏溶液从喷嘴222的排放。
另外，如前述第一实施例，可通过泵272执行从喷嘴222排放气泡，但是如果在第一阀门280A、第二阀门280B、第三阀门280C和第四阀门280D打开的状态下将清洁干燥的空气注入存储容器271中，则可以更迅速而有效地排放气泡。
另外，通过将存储容器271充满清洗溶液，然后当第七阀门280G关闭而其余阀门打开时以清洁干燥的空气进行加压，来清洗供应线276、泵272以及狭缝喷嘴222。
另外，以与清洗相同的设置，在清洗后将光敏溶液提供至喷嘴222。
因此，在清洗后可以更容易而迅速地进行对喷嘴222的气泡排放处理、对泵272和喷嘴222的清洗处理、以及将光敏溶液充入喷嘴222中的处理。
与第一实施例不同，根据本实施例的缓冲容器275没有通风道，并且通过直接将空气或氮气注入其中来对存储容器271加压，从而可以更容易而迅速地进行清洗和光敏溶液提供处理。在根据第一实施例的提供光敏溶液的装置中，由于通风道安装在缓冲容器处，所以当直接通过空气和氮气对存储容器加压时清洗溶液或光敏溶液被排放至缓冲容器的通风道。在根据第一实施例的装置中，不能采用利用空气和氮气直接加压，而只能通过泵来进行清洗和提供光敏溶液。因此，将花费更长的时间来执行这些操作，且降低了操作的便利性。
尽管图中未示出，但是可以附加地采用用来调节清洁干燥空气的压力的单元(诸如真空调节器)或用其来代替一般的调压器。如果真空调节器自动并单独调节用于通过喷嘴222正常排放光敏溶液的压力、用于清洗的压力、以及用于排放喷嘴222中的气泡的压力，则可以大大提高效率。
压力传感器295A～295E分别安装在存储容器271、缓冲容器275、泵272以及狭缝喷嘴单元220处。当设定了基准压力值，则基于该基准压力值进行光敏溶液的排放，从而可使涂布程度可视化，且可以提高通过反馈控制的涂布精度。
第一压力传感器295A检查存储容器271的压力，以检查当向泵272提供光敏溶液时的压力、检查当将存储容器压力改变为大气压时的压力、以及检查大气压状态的压力，从而提高了将光敏溶液传送至泵272的精度，控制了光敏溶液的传送速度，并因此提高了过滤器270的效率。
另外，第二压力传感器295B监测泵272的内部压力，并将用于吸入、停止、和排放的压力与预定基准值进行比较。第二压力传感器295B还使得能够基于比较结果通过控制装置进行反馈控制，从而提高排放精度并预先检测发生缺陷的可能性。
另外，第三压力传感器295C和第四压力传感器295D监测喷嘴222的排放压力。在本实施例中，采用两个压力传感器295C和295D来监控喷嘴222的排放压力，但是本实施例不限于此，并可仅采用一个压力传感器。具体地，可以在狭缝喷嘴单元220的一侧安装一个压力传感器。
在本实施例中，通过在狭缝喷嘴单元220的两侧安装压力传感器295C和295D，传感器295C和295D可以监测当喷嘴222不执行排放操作时和当进行排放操作时的压力。具体地，可以检测喷嘴222的阻塞、泵排放量的变化以及由于毛细现象导致的喷嘴222内光敏溶液量的改变。如果检测值不同于预定基准值，则通过控制装置进行反馈控制。另外，如果不能由反馈控制进行补偿，并且在处理期间可能发生缺陷，则将这些结果通知用户。
通过监测缓冲容器275的压力，第五压力传感器295E可以提高在提供光敏溶液时的精度。
如上所述，具有用于提供涂布溶液的装置的狭缝涂布机可以将匀量的光敏溶液涂在大基板表面上，其中最小化光敏溶液的污染并尽可能多地利用过滤功能，从而提高了生产率。
另外，本发明可以提高清洗处理以及清洗处理后将光敏溶液注入狭缝喷嘴的后续处理的可操作性、容易性和便利性。
另外，由于本发明提供了用于检测喷嘴压力的泵或单元来监测并控制光敏溶液的排放状态，所以提高了生产率和效率。
由于可以在不脱离本发明精神或实质特征的情况下以几种形式实施本发明，所以应当理解上述实施例并不受限于任何前述说明细节，而是可以在所附权利要求定义的精神和范围内概括地进行解释，因此所附权利要求旨在包括落入权利要求界限或这些界限等同物内的全部修改和变型。
权利要求
1.一种狭缝涂布机，包括工作台，待处理物体安装于其上；狭缝喷嘴单元，其被构造为将涂布溶液涂在物体表面上；以及涂布溶液提供装置，其包括被构造为存储涂布溶液的存储容器、将存储容器中存储的涂布溶液提供至所述狭缝喷嘴单元的泵、以及与所述泵和所述存储容器流体相通的密封缓冲容器，其中所述提供装置被构造为基本均匀地保持所述泵的压力并去除涂布溶液中的气泡。
2.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，其中，所述工作台和所述狭缝喷嘴单元被构造为彼此相对移动。
3.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，其中，所述涂布溶液包括光敏溶液、显影溶液或滤色剂中的一种。
4.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，其中，所述狭缝喷嘴单元包括喷嘴，其具有狭缝且长度大于宽度；以及喷头，喷嘴安装于其上。
5.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，还包括压力传感器，其监测所述泵的压力；在将所述泵连接至所述缓冲容器的管线中的第一阀门，打开该第一阀门以释放所述泵中超过预定压力限制的压力升高；以及在将所述缓冲容器连接至泄阀的管线中的第二阀门，打开该第二阀门以释放所述缓冲容器中的空气。
6.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，还包括与所述密封缓冲容器和所述泵流体相通的过滤器，其中该过滤器基本去除被引入所述泵中的杂质。
7.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，其中，所述密封缓冲容器基本防止涂布溶液受到周围环境的污染。
8.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，还包括液面传感器，其被构造为测量所述缓冲容器中的剩余涂布溶液量。
9.根据权利要求6所述的狭缝涂布机，还包括连接所述存储容器和所述缓冲容器的管线以及该管线中的阀门。
10.根据权利要求6所述的狭缝涂布机，还包括连接所述泵和所述过滤器的管线以及该管线中的阀门。
11.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，还包括连接所述泵和所述狭缝喷嘴单元的管线以及该管线中的阀门。
12.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，还包括连接所述缓冲容器和所述狭缝喷嘴单元的管线；该管线中的第一阀门；以及该管线中在所述第一阀门和所述缓冲容器之间的泄阀。
13.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，还包括连接所述缓冲容器和所述泵的管线以及该管线中的阀门。
14.根据权利要求6所述的狭缝涂布机，还包括连接所述过滤器和所述缓冲容器的管线以及该管线中的阀门。
15.根据权利要求12所述的狭缝涂布机，还包括所述管线中在所述第一阀门和所述缓冲容器之间的第二阀门。
16.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，还包括第一压力传感器，其被构造为监测所述存储容器的压力。
17.根据权利要求16所述的狭缝涂布机，其中，第一压力传感器包括这样的传感器其被构造为监测当将涂布溶液提供至所述泵时的压力、监测在将存储容器压力改变为大气压时的压力、以及监测在存储容器为大气压时的压力。
18.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，还包括压力传感器，其被构造为监测所述泵的内部压力。
19.根据权利要求18所述的狭缝涂布机，其中，所述压力传感器进一步被构造为将吸入压力、闲置压力以及排放压力与基准值进行比较，并且将比较结果提供给控制单元。
20.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，还包括至少一个压力传感器，其被构造为监测所述狭缝喷嘴单元的排放压力。
21.根据权利要求20所述的狭缝涂布机，其中，所述压力传感器包括位于所述狭缝喷嘴单元两侧的组件，并且其中所述压力传感器进一步被构造为监测当所述狭缝喷嘴单元闲置时的压力以及当所述狭缝喷嘴单元执行排放操作时的压力。
22.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，还包括压力传感器，其被构造为监测所述缓冲容器的压力。
23.根据权利要求1所述的狭缝涂布机，还包括气泡出口，其位于所述狭缝喷嘴单元的上部且被构造为排放所述狭缝喷嘴单元中的气泡。
24.一种制造LCD设备的方法，包括以下步骤将涂布溶液从存储容器提供至与泵流体相通的密封缓冲容器；以基本均匀的压力将基本匀量的涂布溶液从所述密封缓冲容器提供至狭缝喷嘴单元；以及利用所述狭缝喷嘴单元将涂布溶液涂在LCD基板表面上。
25.根据权利要求24所述的方法，其中，提供涂布溶液的步骤包括采用监测所述泵的压力的压力传感器；在将所述泵连接至所述缓冲容器的管线中设置第一阀门，打开该第一阀门以释放所述泵中超过预定压力限制的压力升高；以及在将所述缓冲容器连接至泄阀的管线中设置第二阀门，打开该第二阀门以释放所述缓冲容器中的空气。
26.根据权利要求24所述的方法，还包括用第二压力传感器监测所述泵的内部压力，其中所述第二压力传感器将所述泵的吸入压力、闲置压力以及排放压力与基准值进行比较，并且将比较结果提供给控制单元。
27.根据权利要求24所述的方法，其中，将涂布溶液涂在LCD基板表面上的步骤包括将LCD基板置于被构造为相对于所述狭缝喷嘴单元移动的工作台上。
28.一种利用狭缝涂布机来制造LCD设备的方法，包括以下步骤提供将LCD基板安装于其上的工作台；以及利用狭缝喷嘴将涂布溶液涂在基板上，其中由涂布溶液提供装置将涂布溶液提供至所述狭缝喷嘴，所述涂布溶液提供装置包括存储容器，其被构造为存储涂布溶液；泵，其将存储容器中存储的涂布溶液提供至所述狭缝喷嘴单元；以及密封缓冲容器，其与所述泵和所述存储容器流体相通，其中所述提供装置被构造为基本均匀地保持泵压力并去除涂布溶液中的气泡。
29.根据权利要求28所述的方法，还包括提供一压力控制系统，该系统包括第一压力传感器，其被构造为监测当将涂布溶液提供至所述泵时和当排放所述存储容器至大气压时所述存储容器的压力；以及第二压力传感器，其被构造为监测所述泵的内部压力。
30.根据权利要求29所述的方法，其中，所述压力控制系统还包括第三压力传感器，其被构造为监测所述狭缝喷嘴单元的排放压力；并且其中所述第三压力传感器被构造为监测当所述狭缝喷嘴单元闲置时以及当所述狭缝喷嘴单元执行溶液排放操作时的压力。
31.根据权利要求28所述的方法，还包括提供与所述缓冲容器和所述泵流体相通的过滤器，其中所述过滤器基本去除被引入所述泵的涂布溶液中的杂质。
32.根据权利要求31所述的方法，其中，所述过滤器位于所述缓冲容器的上游。
33.根据权利要求31所述的方法，其中，所述过滤器位于所述缓冲容器的下游。
34.根据权利要求31所述的方法，还包括提供液面传感器，所述液面传感器被构造为测量所述缓冲容器中的涂布溶液量。
35.根据权利要求28所述的方法，还包括提供压力传感器，其监测所述泵的压力；在将所述泵连接至所述缓冲容器的管线中的第一阀门，打开该第一阀门以释放所述泵中超过预定压力限制的压力升高；以及在将所述缓冲容器连接至泄阀的管线中的第二阀门，打开该第二阀门以释放所述缓冲容器中的空气。
36.根据权利要求28所述的方法，还包括提供一驱动单元，其用于沿预定方向移动所述狭缝喷嘴单元或所述工作台中的一个。
37.一种利用涂布系统涂布用于制造LCD设备的光刻胶层的方法，该方法包括提供狭缝喷嘴单元，其被构造为将涂布溶液涂在LCD基板上；提供涂布溶液存储容器；提供包括泵的涂布溶液提供系统；提供与所述泵和所述存储容器流体相通的密封缓冲容器，其中所述涂布溶液提供系统被构造为以基本均匀的压力将基本匀量的涂布溶液从所述缓冲容器提供至所述狭缝喷嘴单元；以及将涂布溶液涂至LCD基板。
38.根据权利要求37所述的方法，还包括监测所述缓冲容器中的涂布溶液量，并且当所述缓冲容器内的涂布溶液量低于预定最低值时，对所述存储容器加压来重填所述缓冲容器。
39.根据权利要求37所述的方法，还包括对从所述缓冲容器抽入所述泵中的涂布溶液进行过滤。
40.根据权利要求37所述的方法，还包括通过对所述缓冲容器加压以及使所述缓冲容器的顶部空间排气从而经由排出管线释放涂布溶液中的气泡。
全文摘要
具有用于提供涂布溶液的装置的狭缝涂布机。一种狭缝涂布机，包括通过利用狭缝喷嘴的涂布方法提供涂布溶液的装置，该装置被构造为最小化涂布溶液的污染，利用过滤功能，并将受控量的光敏溶液提供至狭缝喷嘴。所述狭缝涂布机还包括工作台，待处理物体安装于其上；狭缝喷嘴单元，其将涂布溶液涂在待处理物体的表面上；以及涂布溶液提供装置，包括存储涂布溶液的存储容器、将所述存储容器中存储的涂布溶液提供至所述狭缝喷嘴单元的泵、以及与所述泵和所述存储容器流体相通的缓冲容器。
文档编号B05B1/02GK1796000SQ20051013059
公开日2006年7月5日 申请日期2005年12月14日 优先权日2004年12月28日
发明者权五晙, 赵康一 申请人:Lg.菲利浦Lcd株式会社