狭缝涂布单元、涂布头以及涂布设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及液体涂覆技术领域，尤其涉及狭缝涂布单元、涂布头以及涂布设备。
【背景技术】
[0002]狭缝涂布已经成为现有薄膜涂覆领域最具有代表性的薄膜涂覆方法之一，主要体现在液晶显示领域的像素制备工艺过程中的光敏胶涂覆。当前关于狭缝涂布的薄膜厚度与均匀性的控制主要有两种方法:第一种是通过在狭缝中添加夹片的方式控制挤出量的多少，以此来进一步调控涂覆薄膜的厚度，同时保证厚度的均匀性；第二种是通过供料系统的设计，尽量保证涂布头的进料流速的平稳性，以帮助更好的完成挤出料的可控性。这两种方法，都需要供料系统的流速保持非常稳定的状态才能达到均匀涂覆的要求。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型所要解决的技术问题，在于提供一种狭缝涂布单元、涂布头以及涂布设备，能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。
[0004]本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案是:
[0005]本实用新型提供了一种狭缝涂布单元，其包括外壳，所述外壳内设有用于流体流入的进料通道、用于流体流出的出料通道、连通所述进料通道与出料通道的分压通道以及设于所述进料通道末端的狭缝喷嘴，所述进料通道的宽度沿着朝向狭缝喷嘴的方向逐级递减。
[0006]作为上述技术方案的进一步改进，所述分压通道的宽度与其对应的每一级进料通道的宽度相同。
[0007]作为上述技术方案的进一步改进，所述进料通道的下一级宽度为上一级宽度的80%。
[0008]作为上述技术方案的进一步改进，所述进料通道的深度与宽度的比例范围为1:100 至 1:1。
[0009]作为上述技术方案的进一步改进，所述进料通道的宽度从3cm递减至50 μ m。
[0010]作为上述技术方案的进一步改进，所述流体的速度范围为0.001ml/min至10ml/min0
[0011]本实用新型提供了一种涂布头，其包括并排设置的多个如上所述的狭缝涂布单
J L.ο
[0012]作为上述技术方案的进一步改进，所述涂布头的还包括一分配单元，所述分配单元设有与所述狭缝喷嘴相通的匀料槽以及至少一条与所述匀料槽相通狭缝流道，所述狭缝流道的末端为涂布口。
[0013]本实用新型提供了一种涂布设备，其包括如上所述狭缝涂布单元。
[0014]本实用新型还提供了一种涂布设备，其包括如上所述的涂布头。
[0015]本实用新型的有益效果是:
[0016]本实用新型狭缝涂布单元通过对在进料通道与狭缝喷嘴之间采用增加分压通道方式进行流体分流，通过出料通道进行回流，同时进料通道逐级变窄，将进料通道内流体的压力递减从而使流速逐级递减，如此一来，即便入口处进料流体因机械栗的压力变化引起流速变化，在狭缝喷嘴处的液体挤出速度基本不受影响，进而能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。
[0017]本实用新型涂布头采用了上述狭缝涂布单元，也就能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。
[0018]本实用新型涂布设备采用了上述狭缝涂布单元或涂布头，也能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。
【附图说明】
[0019]图1是本实用新型狭缝涂布单元的立体结构示意图；
[0020]图2是本实用新型狭缝涂布单元的全剖示意图；
[0021]图3是本实用新型狭缝涂布单元内的流体流动方向示意图；
[0022]图4是本实用新型涂布头第一种实施方式的正视角度的全剖视图；
[0023]图5是本实用新型涂布头第一种实施方式的左视角度的全剖视图；
[0024]图6是本实用新型涂布头第二种实施方式的正视角度的全剖视图。
【具体实施方式】
[0025]以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本实用新型的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本实用新型保护的范围。另外，专利中涉及到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本实用新型中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
[0026]请一并参照图1、图2和图3，本实用新型狭缝涂布单元1包括外壳10，所述外壳10内设有用于流体流入的进料通道20、用于流体流出的出料通道30、连通所述进料通道20与出料通道30的分压通道40以及设于所述进料通道20末端的狭缝喷嘴50，所述进料通道20的宽度沿着朝向狭缝喷嘴50的方向逐级递减。本实用新型狭缝涂布单元1的进料通道20、出料通道30以及分压通道40的横截面的形状可以灵活选取，例如但不限于矩形、圆形、多边形等，因此当进料通道20的横截面为矩形时，所述进料通道20的宽度即为其两平行面的距离，当进料通道20的横截面为圆形时，所述进料通道20的宽度即为直径。
[0027]本实施例中，进料通道20为多级结构，而且是宽度层层递减，优选地，下一级宽度为上一级宽度的80%，如图2所示，第二级进料通道22的宽度为第一级进料通道21宽度的80%，第三级进料通道23的宽度为第二级进料通道22宽度的80%，以此类推，逐渐递减至合适的宽度，本实施例中进料通道20的宽度优选为从3cm递减至50 μ m。
[0028]进料通道20的深度20b与宽度20a的比例范围为1:100至1:1，该比值根据流体物料的具体粘度进行调整，以达到最优涂覆效果。进料通道20外接进料系统，所述进料系统包括进料管路以及流体栗等，该进料系统将流体物料从储料罐里栗出，经过狭缝涂布单元1之后，部分流体物料再通过出料通道30回流至储料罐里。所述流体的速度范围为
0.001ml/min至10ml/min，根据涂覆薄膜厚度的需求进行调整。
[0029]分压通道40主要用于对进料通道20内的流体进行分流、降压、减速，其宽度与其对应的每一级进料通道20的宽度相同，具体而言，如图2所示，第一级分压通道41的宽度与第一级进料通道21的宽度相同，第二级分压通道42的宽度与第二级进料通道22的宽度相同，第三级分压通道43的宽度与第三级进料通道23的宽度相同，以此类推。
[0030]图4和图5示出了本实用新型涂布头的第一种实施方式的具体结构。请一并参照图4和图5，本实用新型涂布头包括并排设置的多个如上所述的狭缝涂布单元1，还包括一分配单元2，所述分配单元2设有与所述狭缝喷嘴50相通的匀料槽60以及一条与所述匀料槽60相通狭缝流道70，所述狭缝流道70的末端为涂布口 80。这里所述的“并排设置”并不局限于多个狭缝涂布单元1通过多种固接方式(如粘接、焊接、螺栓连接等)进行并排的设置，也包括涂布头的一体成型方式，也就是说，一体的涂布头具有多个狭缝涂布单元1。分配单元2的主要作用就是将狭缝喷嘴50的流体物料进行再次分配，以涂布光敏胶为例，在不同的液晶显示器的像素制备过程中，其尺寸大小各有差异，在这种情况下，通过分配单元2的流体物料再分配过程就能够进行多种不同尺寸规格的涂布，适应性强。
[0031]图6示出了本实用新型涂布头的第二种实施方式的具体结构。如图6所示，该实施方式与第一种实施方式的不同就在于其狭缝流道70为多条，其他结构都与第一种实施方式相同，在此不再赘述。因为在光敏胶的涂布过程中，有时不需要对整面进行涂布，仅需要在特定位置进行涂布，这样就可以采用多条适应性的狭缝流道70进行针对性的涂布，减少了物料的使用量，降低了成本。
[0032]本实用新型还提供了一种涂布装置，其采用了上述狭缝涂布单元或涂布头。
[0033]以上是对本实用新型的较佳实施进行了具体说明，但本实用新型并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换，这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
【主权项】
1.一种狭缝涂布单元，其特征在于:包括外壳，所述外壳内设有用于流体流入的进料通道、用于流体流出的出料通道、连通所述进料通道与出料通道的分压通道以及设于所述进料通道末端的狭缝喷嘴，所述进料通道的宽度沿着朝向狭缝喷嘴的方向逐级递减。2.如权利要求1所述的狭缝涂布单元，其特征在于:所述分压通道的宽度与其对应的每一级进料通道的宽度相同。3.如权利要求1所述的狭缝涂布单元，其特征在于:所述进料通道的下一级宽度为上一级宽度的80%。4.如权利要求1所述的狭缝涂布单元，其特征在于:所述进料通道的深度与宽度的比例范围为1:100至1:1。5.如权利要求1所述的狭缝涂布单元，其特征在于:所述进料通道的宽度从3cm递减至 50 μ m06.如权利要求1所述的狭缝涂布单元，其特征在于:所述流体的速度范围为0.001ml/min 至 10ml/mino7.一种涂布头，其特征在于:包括并排设置的多个如权利要求1至6任一项所述的狭缝涂布单元。8.如权利要求7所述的涂布头，其特征在于:所述涂布头的还包括一分配单元，所述分配单元设有与所述狭缝喷嘴相通的匀料槽以及至少一条与所述匀料槽相通狭缝流道，所述狭缝流道的末端为涂布口。9.一种涂布设备，其特征在于:包括如权利要求1至6任一项所述狭缝涂布单元。10.一种涂布设备，其特征在于:包括如权利要求7所述的涂布头。
【专利摘要】本实用新型提供了一种狭缝涂布单元、涂布头以及涂布装置。该狭缝涂布单元包括外壳，外壳内设有进料通道、出料通道、分压通道以及狭缝喷嘴，进料通道的宽度沿着朝向狭缝喷嘴的方向逐级递减。该涂布头包括并排设置的多个如上所述的狭缝涂布单元。该涂布设备包括如上所述狭缝涂布单元或涂布头。本实用新型狭缝涂布单元通过对在进料通道与狭缝喷嘴之间采用增加分压通道方式进行流体分流，同时进料通道逐级变窄，即便入口处进料流体的流速变化，在狭缝喷嘴处的液体挤出速度基本不受影响，进而能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。本实用新型涂布头和涂布设备均采用了上述狭缝涂布单元，也就能够解决因进料流速不稳定导致薄膜涂覆不均匀的问题。
【IPC分类】B05C11/10, B05C5/00
【公开号】CN205008186
【申请号】CN201520719013
【发明人】金名亮, 王丹, 水玲玲, 周国富
【申请人】华南师范大学, 深圳市国华光电科技有限公司, 深圳市国华光电研究院
【公开日】2016年2月3日
【申请日】2015年9月16日