专利名称：狭缝涂布机喷嘴的清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及清洗装置，特别涉及一种狭缝涂布机喷嘴的清洗装置。
背景技术：
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体管显示器)面板制造行业当中，面板制造流程通常需要用到狭缝涂布机喷嘴来涂布光刻胶， 狭缝涂布机喷嘴经过一段时间涂布动作之后都需要进行清洗。现有的狭缝涂布机喷嘴包括两个斜面和一喷嘴面。上述喷嘴面上设有用于涂布光阻剂的狭缝。目前，狭缝涂布机喷嘴的两个斜面是使用清洗装置清洗，而狭缝的光阻剂是需要人工使用疏通薄膜进行疏通。然而， 人工疏通时，需要打开设备防护门，导致产生微粒和颗粒污染狭缝涂布机喷嘴，清洗起来工时也较长。
实用新型内容本实用新型的主要目的是提供一种狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，旨在可以减少污染，节省工时。本实用新型提出一种狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，包括一本体，所述本体上设置有一用于接收一狭缝涂布机喷嘴的接收槽，所述接收槽包括一第一斜面、一第二斜面和连接第一斜面与第二斜面的一连接面，所述第一斜面、第二斜面上分别形成有多个用于清洗剂喷出的注入孔，所述连接面上形成有一插口，上述插口中插接有一用于疏通狭缝涂布机喷嘴的疏通薄膜。优选地，所述插口形成于连接面的中间位置。优选地，所述疏通薄膜垂直于上述连接面插接在插口内。优选地，所述清洗装置还包括一引导架，上述引导架用于引导狭缝涂布机喷嘴垂直下移到接收槽中。优选地，上述清洗装置还包括一驱动所述本体沿接收槽的长度方向运动的电机。优选地，所述接收槽的截面为倒梯形。优选地，所述插口的宽度为40至lOOum。 优选地，所述插口的深度为2 5mm。优选地，所述插口的宽度与所述疏通薄膜的厚度均为50um。本实用新型的清洗装置的两个斜面可以用来清洗狭缝涂布机喷嘴的两个斜面，插口内的疏通薄膜可以用来疏通狭缝涂布机喷嘴的狭缝，不再需要人工来疏通狭缝涂布机喷嘴，可避免因打开设备防护门而产生较多的微粒、颗粒。另外，本实用新型的清洗装置清洗狭缝涂布机喷嘴的两个斜面和疏通狭缝可同时进行，节省工时。
图1为本实用新型的狭缝涂布机喷嘴的清洗装置第一实施例的立体结构示意图；[0015]图2为图1所示的清洗装置所清洗的狭缝涂布机喷嘴的立体结构示意图；图3为图1所示的清洗装置清洗狭缝涂布机喷嘴的剖面结构示意图。本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。参照图1，图1为本实用新型的狭缝涂布机喷嘴的清洗装置的第一实施例的立体结构示意图。该清洗装置包括一本体100，本体100上形成有一用于接收狭缝涂布机喷嘴的接收槽101，接收槽101包括一第一斜面102、一第二斜面103和一连接第一斜面102与第二斜面103的连接面104，连接面104设置在接收槽101的底部，第一斜面102、第二斜面 103上分别形成有多个用于喷出清洗剂的注入孔105。连接面104上形成有一用于插接疏通薄膜107的插口 106。插口 106形成于连接面104的中间位置。疏通薄膜107通过人工或机器设备垂直于上述连接面104插接在插口 106内。上述清洗装置还包括一电机(图未示)，用于驱动所述本体100沿所述接收槽101 的长度方向运动。本实施例中，插口 106的深度为2 5mm，宽度为40至IOOum ；疏通薄膜107的厚度与插口 106的宽度是相对应适配的，疏通薄膜107能刚刚好插紧在插口 106内。插口 106 的宽度与疏通薄膜107的厚度优选为50um。疏通薄膜107采用的是硬度较强的金属材料制成，如钢片、铜片等。在其它实施例中，疏通薄膜107的厚度和插口 106的宽度可根据实际清洗的喷嘴的狭缝来确定，以便于能起到更好的清洗作用。参照图2和图3，图2为图1所示的清洗装置所清洗的狭缝涂布机喷嘴的立体结构示意图，图3为图1所示的清洗装置清洗狭缝涂布机喷嘴的剖面结构示意图。狭缝涂布机喷嘴200的底部包括一第三斜面201、一第四斜面202和一喷嘴面203。狭缝涂布机喷嘴200 的顶部设有一孔洞204，内部设有一与该孔洞204相通的腔体205和一与腔体205相通的狭缝206，光阻剂从该孔洞204注入狭缝涂布机喷嘴200内，被存放于狭缝涂布机喷嘴200内的腔体205中，以供清洗狭缝206用。所述狭缝涂布机喷嘴200的第三斜面201、第四斜面202和喷嘴面203分别与所述清洗装置的第一斜面102、第二斜面103、连接面104相适配。上述清洗装置的接收槽101 的横截面和狭缝涂布机喷嘴200的横截面均为倒梯形，相适配连接。使用本实用新型的清洗装置时，先在清洗装置的接收槽101底部上的插口 106插接上述疏通薄膜107，再将需清洗的狭缝涂布机喷嘴200的底部放至清洗装置的接收槽101 内，同时疏通薄膜107插入狭缝涂布机喷嘴的狭缝206，第一斜面102、第二斜面103上的注入孔105喷出清洗剂清洗狭缝涂布机喷嘴200的第三斜面201和第四斜面202，在清洗的过程中，光阻剂从狭缝涂布机喷嘴200的狭缝206中流出，同时电机带动本体100沿着接收槽 101的长度方向来回移动，使得疏通薄膜107在狭缝206内来回移动，以便疏通狭缝206。本实用新型的清洗装置可直接清洗和疏通狭缝涂布机喷嘴200，不再需要人工来疏通狭缝涂布机喷嘴，可避免因打开设备防护门而产生较多的微粒、颗粒。另外，本实用新型的清洗装置清洗狭缝涂布机喷嘴200的两个斜面201、202和疏通狭缝206可同时进行，节省工时。本实用新型第二实施例的狭缝涂布机喷嘴的清洗装置与第一实施例的清洗装置大致相同，其区别之处在于第二实施例的清洗装置进一步包括一引导架(图未示)，上述引导架用于引导狭缝涂布机喷嘴200垂直下移到接收槽101中，使疏通薄膜107刚好插进狭缝206内。以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围， 凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
权利要求1.一种狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，包括一本体，其特征在于，所述本体上设置有一用于接收一狭缝涂布机喷嘴的接收槽，所述接收槽包括一第一斜面、一第二斜面和连接上述两个斜面的一连接面，所述第一斜面、第二斜面上分别形成有多个用于清洗剂喷出的注入孔，所述连接面上形成有一插口，上述插口中插接有一用于疏通狭缝涂布机喷嘴的疏通薄膜。
2.根据权利要求1所述的狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，其特征在于，所述插口形成于连接面的中间位置。
3.根据权利要求2所述的狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，其特征在于，所述疏通薄膜垂直于上述连接面插接在插口内。
4.根据权利要求3所述的狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括一引导架，上述引导架用于引导狭缝涂布机喷嘴垂直下移到接收槽中。
5.根据权利要求1所述的狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，其特征在于，上述清洗装置还包括一驱动所述本体沿接收槽的长度方向运动的电机。
6.根据权利要求1所述的狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，其特征在于，所述接收槽的截面为倒梯形。
7.根据权利要求1所述的狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，其特征在于，所述插口的宽度为40至lOOum，上述疏通薄膜的厚度与插口的宽度相适配。
8.根据权利要求7所述的狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，其特征在于，所述插口的深度为2 5mm0
9.根据权利要求7所述的狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，其特征在于，所述插口的宽度与所述疏通薄膜的厚度均为50um。
专利摘要本实用新型公开一种狭缝涂布机喷嘴的清洗装置，包括一本体，所述本体上设置有一用于接收一狭缝涂布机喷嘴的接收槽，所述接收槽包括一第一斜面、一第二斜面和连接第一斜面与第二斜面的一连接面，所述第一斜面、第二斜面上分别形成有多个用于清洗剂喷出的注入孔，所述连接面上形成有一插口，上述插口中插接有一用于疏通狭缝涂布机喷嘴的疏通薄膜。本实用新型的清洗装置可同时清洗和疏通狭缝涂布机喷嘴，清洗起来污染少，工时短。
文档编号B05B15/02GK202087472SQ20112014688
公开日2011年12月28日 申请日期2011年5月10日 优先权日2011年5月10日
发明者王江 申请人:深圳市华星光电技术有限公司