专利名称：涂布装置以及涂布方法
技术领域：
本发明涉及一种涂布装置以及涂布方法，尤其涉及一种从喷嘴向装载于载物台上的基板喷出有机EL材料等涂布液而进行涂布的涂布装置以及涂布方法。
背景技术：
一直以来，都在对将涂布液涂布于基板等被处理物体的涂布装置进行各种开发。例如，在制造有机EL(Electro Luminescence电致发光)显示装置的装置中，采用这样的涂布装置在被装载于载物台上的玻璃基板等基板的主面通过喷嘴以规定的图案形状涂布空穴输送材料或有机EL材料。在该涂布装置中，从喷嘴以规定的压力喷出涂布液(有机EL材料或空穴输送材料)。具体而言，在涂布装置所具有的槽等供给源贮存涂布液，利用泵对从供给源所供给的涂布液进行增压，并用被设置于配管内的过滤器除去异物之后，从喷嘴被喷出。
一般地，众所周知，有机EL材料的品质会因氧化而恶化。因此，在向基板涂布有机EL材料时，必须防止该有机EL材料的氧化。例如，在JP特开2004-164873号公告(以下记为专利文献1)公开了为了防止这种有机EL材料的品质恶化而在管理氧气浓度的同时进行制造的技术。专利文献1所公开的制造装置，在腔室(chamber)内配列涂布装置、干燥装置、热固化装置、基板层压装置等，使该腔室内成为氮气环境来进行制造。
另外，例如在JP特开2001-237178号公报(以下记为专利文献2)开发了一种膜形成装置，该膜形成装置虽然和涂布有机EL材料或空穴输送材料的技术领域不同，但是从喷嘴喷出涂布液，并且连续地、一气呵成地在晶片上涂布涂布液。如上述专利文献2的图38所公开那样，该膜形成装置使支撑喷出喷嘴85的滑动91沿着导向轴98a以及98b进行往复移动。另外，驱动带92沿着和导向轴98a以及98b的并排设置方向相同的方向可转动地被架设在两个驱动带轮93以及驱动带轮94(参照上述专利文献2的图6)之间。并且，滑动91与驱动带92相连接，受到来自驱动带92的驱动力而沿着导向轴98a以及98b移动。通过这种结构，构成上述膜形成装置的移动装置86。另一方面，如上述专利文献2的图36所示，移动装置86以在被膜形成体、即晶片W上横向架设的方式而被设置。然后，从喷出喷嘴85向晶片W上喷出涂布液的同时，使滑动91进行往复移动，从而在晶片W上形成了膜。
但是，在上述专利文献1所公开的制造装置中，由于将多个装置设置在一个腔室内，所以腔室内的容积变大。也就是，为了使腔室内变为氮气环境，必须供给大量的氮气。另外，为了向上述腔室供给氮气来保持在所希望的氧气浓度，需要设置多个吸气/排气泵或闸门，装置本身变复杂。因此，存在制造成本和装置成本变大的问题。另外，在使大空间变为氮气环境时，存在因人进入该空间而产生窒息等危险要素，从而也产生出在安全方面的课题。
另外，在使被架设在带轮之间的驱动带的一侧的带轮被驱动的情况下，因带轮和驱动带的接触而成为发尘源。并且，在带轮附近产生的粉尘附着在驱动带上，伴随该驱动带的动作，被运送到支撑喷出喷嘴的滑动往复移动的空间，有可能会落到被装载于其下的被涂布体(例如，专利文献2中的晶片W)上。也就是，因带轮和驱动带的接触而产生的粉尘(颗粒)附着在被涂布体上，从而导致被涂布体的制造品质显著下降。
另一方面，考虑通过设置覆盖驱动带和带轮接触的附近的空间的罩，并具备从由该罩包围的密闭空间向外部排气的机构，将产生的粉尘排出到外部。但是，即使具有这种排气设备，也不能完全地防止产生的粉尘从上述密闭空间向滑动进行往复移动的空间流出。另外，考虑通过设置覆盖滑动进行往复移动的空间的罩，并具有从由该罩包围的密闭空间向外部排气的机构，将流到了该空间的粉尘排到外部。但是，在覆盖滑动进行往复移动的空间的罩至少必须形成喷出喷嘴能在罩外部进行往复移动那样的开口部(例如，以往复移动方向为长轴方向的狭缝状的开口部)。因此，由于流到滑动进行往复移动的空间的粉尘有可能经由开口部而落到被涂布体上，因而粉尘会附着在被涂布体上。
发明内容
因此，本发明的目的是提供一种防止涂布液的氧化并考虑了成本方面和安全方面的涂布装置以及涂布方法。另外，本发明的另一目的是提供一种防止异物落到作为被涂布体的基板上的涂布装置以及涂布方法。
为了实现上述目的，本发明具有如下所述特征。
第一方案是在基板上涂布涂布液的涂布装置。涂布装置具有载物台、喷嘴、以及局部环境生成机构。载物台将基板装载于其上。喷嘴在载物台上的空间，从其前端部喷出涂布液。局部环境生成机构，对于包含喷嘴喷出涂布液的空间、以及涂布液所涂布的基板的涂布部位的涂布空间，局部性地提供规定气体，在规定的环境进行涂布液的涂布。
第二方案为，在上述第一方案中还具有喷嘴移动机构。喷嘴移动机构，在载物台上的空间，在横贯该载物台面的方向使喷嘴往复移动。局部环境生成机构具有第一箱体以及第一供给口。第一箱体包围载物台而设置，隔开喷嘴移动机构配置的空间和该载物台配置的空间。第一供给口设置在第一箱体，对该第一箱体的内部空间提供规定气体。
第三方案为，在上述第二方案中，第一箱体包围载物台装载基板进行移动的空间而设置。
第四方案为，在上述第二方案中，第一箱体的上面配置在载物台和喷嘴移动机构之间。在第一箱体的上面形成喷嘴的至少一部分从喷嘴移动机构侧向该第一箱体内突出而进行往复移动的开口部。
第五方案为，在上述第二方案中，局部环境生成机构还具有排气口。排气口设置在第一箱体并将该第一箱体的内部空间内的气体排出到外部。
第六方案为，在上述第五方案中，第一供给口设置在第一箱体的一端的侧面。排气口设置于与在第一箱体设置第一供给口的一端的侧面相对的另一端的侧面。
第七方案为，在上述第五方案中，第一供给口以及排气口相对于第一箱体分别设置多个。
第八方案为，在上述第五方案中，排气口设置在第一箱体的底部附近。
第九方案为，在上述第二方案中，环境生成机构还具有第二箱体。第二箱体包围了包含喷嘴移动机构的第一箱体的上部空间而设置。
第十方案为，在上述第九方案中，局部环境生成机构还具有排气口。排气口设置在第二箱体并将该第二箱体的内部空间内的气体排出到外部。
第十一方案为，在上述第九方案中，在第二箱体形成喷嘴的至少一部分从喷嘴移动机构侧向该第一箱体内突出而进行往复移动的开口部。
第十二方案为，在上述第九方案中，局部环境生成机构还具有第三箱体。第三箱体设置在第二箱体内并包围了喷嘴移动机构而设置第十三方案为，在上述第十二方案中，在第三箱体形成喷嘴的至少一部分从喷嘴移动机构侧向该第一箱体内突出而进行往复移动的开口部、和连通该第三箱体内的空间和该第三箱体的外侧的第二箱体内的空间的开口部。
第十四方案为，在上述第十二方案中，局部环境生成机构还具有其他的供给口。其他的供给口设置在第三箱体并向将该第三箱体的内部空间供给规定气体。
第十五方案为，在上述第十二方案中，局部环境生成机构还具有排气口。排气口被设置在第三箱体并将该第三箱体的内部空间内的气体排出到外部。
第十六方案为，在上述第二方案中，在第一箱体的上表面形成喷嘴的至少一部分从喷嘴移动机构侧突出而进行往复移动的开口部。局部环境生成机构还具有第二箱体、第一排气口、以及第二排气口。第二箱体包围喷嘴移动机构而设置在第一箱体的上部。第一排体口被设置在第一箱体，将该第一箱体的内部空间内的气体排出到外部。第二排气口被设置在第二箱体，将该第二箱体的内部空间内的气体排出到外部。直到第一箱体内的规定空间达到规定氧气浓度为止，将从第一供给口提供的气体从第一以及第二排气口排出。在规定空间达到了规定氧气浓度时，将从第一供给口提供的气体从第二排气口排出。
第十七方案为，在上述第十六方案中，局部环境生成机构还具有氧气浓度检测部件以及第一阀门。氧气浓度检测部件检测第一箱体内的规定空间中的氧气浓度。第一阀门设置在第一排气口。涂布装置还具有控制部件。控制部件在氧气浓度检测部件检测到的氧气浓度未达到规定氧气浓度时开启第一阀门，在氧气浓度检测部件检测到的氧气浓度达到规定氧气浓度时关闭第一阀门。
第十八方案为，在上述第十六方案中，还具有控制部件。控制部件在规定空间达到规定氧气浓度时，使喷嘴移动机构的喷嘴的往复移动开始，进行对于基板的涂布处理。
第十九方案为，在上述第十六方案中，规定空间为第一箱体内的载物台上的空间。
第二十方案为，在上述第十九方案中，还具有相对移动机构。相对移动机构使喷嘴以及载物台的至少一个在与该载物台的装载面平行的方向相对地移动。规定空间为在第一箱体内喷嘴喷出涂布液的空间，以及伴随相对移动机构的载物台的相对移动，涂布了涂布液的基板的涂布部位进行相对移动的该载物台上的空间。
第二十一方案为，在上述第二十方案中，局部环境生成机构还具有第二供给口。第二供给口固定设置于第一箱体内，对规定空间提供规定的气体，通过该规定空间，在向着开口部的方向上形成该气体的流动。
第二十二方案为，在上述第二十方案中，第一箱体包围载物台装载基板并进行相对移动的空间而设置。局部环境生成机构还具有第三排气口，该第三排气口设置在第一箱体的底部并且在载物台相对移动的后方位置，将该第一箱体的内部空间内的气体排出到外部。
第二十三方案为，在上述第十六方案中，第一供给口以及第一排气口相对于第一箱体分别设置多个。
第二十四方案为，在上述第一方案中，涂布装置还包括喷嘴移动机构、箱体、以及气体膜生成部件。喷嘴移动机构在载物台上的空间，在横贯该载物台面的方向使喷嘴往复移动。箱体包围喷嘴移动机构而设置，形成了喷嘴的至少一部分从该喷嘴移动机构侧向该载物台侧突出而进行往复移动的开口部。气体膜生成部件具有喷射规定的气体的喷射口，生成遮住箱体的开口部的带状的气体膜。
第二十五方案为，在上述第二十四方案中，气体膜生成部件设置在箱体的内部。
第十六方案为，在上述第二十四方案中，气体膜生成部件设置在箱体的外部。
第二十七方案为，在上述第二十四方案中，开口部形成于在构成箱体的壁面当中的一个上下方向竖立设置的壁面上。气体膜生成部件并列设置于开口部的上部，生成气体流从开口部的上部流向下部的带状的气体膜。
第二十八方案为，在上述第二十四方案中，开口部形成于构成箱体的底面。气体膜生成部件并列设置于开口部的横向部位，生成气体向遮住开口部的水平方向流动的带状的气体膜。
第二十九方案为，在上述第二十四方案中，还具有排气口。排气口设置于箱体，将该箱体的内部空间内的气体排出到外部。
第三十方案为，在上述第二十四方案中，局部环境生成机构具有载物台侧箱体、供给口、以及排气口。载物台侧箱体，在箱体的下部包围载物台而设置，并在其上面形成喷嘴的至少一部分从喷嘴移动机构侧突出而进行往复移动的开口部。供给口设置于载物台侧箱体，对该载物台侧箱体的内部空间提供惰性气体。排气口设置于箱体，将该箱体的内部空间内的气体排出到外部。气体膜生成部件从喷射口喷射惰性气体，生成遮住箱体的开口部的带状的气体膜。
第三十一方案为，在上述第一方案中，涂布装置还具有涂布机构。涂布机构具有朝着下方排出涂布液的喷嘴。局部环境生成机构具有箱体、隔开构件、以及第一气体供给部件。箱体在内部具有空间，将装载基板的载物台配置于该空间。隔开构件配置于箱体内，为在内部形成空间的形状并且在一端具有开口部。第一气体供给部件，对于隔开构件的内部空间提供惰性气体。涂布装置还具有载物台移动机构。载物台移动机构能够对于喷嘴以及隔开构件相对地移动载物台，使得基板通过喷嘴之下，同时从开口部进入隔开构件的内部。
第三十二方案为，在上述第三十一方案中，涂布装置，具有喷嘴移动机构，能够在与在载物台上装载的基板大致平行的方向并且与载物台的移动方向大致垂直的方向移动喷嘴。此时，在隔开构件的上表面，在喷嘴通过的位置，沿着该喷嘴的移动方向形成有孔。载物台以通过开口部之后通过喷嘴之下的方式进行移动。
第三十三方案为，在上述第三十一方案中，在隔开构件的下表面，在载物台移动机构通过的部分形成有孔。
第三十四方案为，在上述第三十一方案中，隔开构件将具有比基板的宽度大的宽度的遮蔽板作为其上表面以及下表面。
第三十五方案为，在上述第三十一方案中，局部环境生成机构还具有第二气体供给部件，该第二气体供给部件从箱体的内壁对该箱体的内部空间提供惰性气体。
第三十六方案为将从装载于载物台上的喷嘴喷出的涂布液涂布在装载于该载物台上表面的基板的涂布方法。涂布方法包含局部环境生成步骤。局部环境生成步骤，对包括喷嘴喷出涂布液的空间、以及涂布了涂布液的基板的涂布部位的涂布空间，局部性地提供规定气体，在规定的环境进行涂布液的涂布。
第三十七方案为，在上述第三十六方案中，局部环境生成步骤，对涂布空间，从该涂布空间的一侧提供规定气体，并从该涂布空间的另一侧排出该涂布空间内的气体。
第三十八方案为，在上述第三十七方案中，局部环境生成步骤，从涂布空间的一侧的多个部位供给规定气体，并从该涂布空间的另一侧的多个部位排出该涂布空间内的气体。
第三十九方案为，在上述第三十六方案中，喷嘴被喷嘴移动机构支撑，在横贯该载物台面的方向，在载物台上的空间进行往复移动。局部环境生成步骤，对涂布空间，从该涂布空间的一侧供给规定气体，通过配置了喷嘴以及喷嘴移动机构的空间，从载物台上部排出该涂布空间内的气体。
第四十方案为，在上述第三十九方案中，局部环境生成步骤，对于涂布空间，从该涂布空间的一侧供给规定气体，从该涂布空间的另一侧和通过配置了喷嘴以及喷嘴移动机构的空间从载物台上部分别排出该涂布空间内的气体。
第四十一方案为，在上述第三十九方案中，局部环境生成步骤，对于涂布空间，从该涂布空间的一侧以及另一侧分别供给规定气体，通过配置了喷嘴以及喷嘴移动机构的空间，从载物台上部排出该涂布空间内的气体。
第四十二方案为，在上述第三十六方案中，喷嘴被喷嘴移动机构支撑，在横贯该载物台面的方向，在载物台上的空间进行往复移动。局部环境生成步骤，除了涂布空间，对配置了喷嘴移动机构的空间供给规定气体。
第四十三方案为，在上述第三十六方案中，喷嘴被喷嘴移动机构支撑，在横贯该载物台面的方向，在载物台上的空间进行往复移动。局部环境生成步骤，直到规定空间达到规定氧气浓度为止，从该规定空间的一侧供给规定气体，从该规定空间的另一侧和通过配置了喷嘴以及喷嘴移动机构的空间而从载物台上部分别排出气体。局部环境生成步骤，在规定空间达到规定氧气浓度时，从该规定空间的一侧排供给规定气体，在通过配置了喷嘴以及喷嘴移动机构的空间而从载物台上部排出气体的状态下，对基板涂布涂布液。
第四十四方案为，在上述第四十三方案中，规定空间被包含在腔室内的空间中。腔室形成有开口部，该开口部用于喷嘴从腔室的外部向规定空间突出。局部环境生成步骤，在规定空间达到规定氧气浓度为止，从腔室的一侧供给规定气体，并从该腔室的另一侧和开口部分别排出该腔室内的气体。局部环境生成步骤，在规定空间达到规定氧气浓度时，从腔室的一侧供给规定气体，并在从开口部排出该腔室内的气体的状态下，对基板涂布涂布液。
根据上述第一方案，能够将局部的空间置换成规定气体进行涂布处理。例如，通过局部地提供氮等惰性气体，能够生成局部的低氧气环境，能够防止涂布处理中的涂布液的氧化。所以，能够将限定的空间置换成所希望的环境来进行涂布处理，因此，进行在所希望的涂布环境中的处理同时，能够抑制用于置换所提供的气体的消耗量。另外，因为置换所限定范围内的空间内的气体，所以能够排除因人进入该空间而会产生的危险因素。
根据上述第二方案，能够将从外部空间遮蔽的箱体内部局部性地置换成规定气体来进行涂布处理。例如，通过将氮等惰性气体向箱体内部供给，能够将箱体内部置换成低氧气环境，能够防止在涂布处理中涂布液被氧化。所以，能够将限定的空间置换成所希望的环境来进行涂布处理，因此，进行在所希望的涂布环境中的处理同时，能够抑制用于置换而提供的气体的消耗量。另外，因为置换限定的范围内的空间内的气体，所以能够排除因人进入该空间而会产生的危险因素。
根据上述第三方案，载物台装载基板进行移动的空间被第一箱体包围，所以也能够管理载物台上装载的涂布后的基板周围的环境。
根据上述第四方案，由于除了最小限度的开口部，与使喷嘴往复移动的机构之间被隔开，所以能够防止因往复移动产生的气体搅拌的影响波及第一箱体内。
根据上述第五方案，因为第一箱体内的气体从排气口直接被排出，所以快速地进行第一箱体内的气体的置换。
根据上述第六方案，在第一箱体上，第一供给口和排气口被设置在相对的面上，所以从第一供给口供给的气体通过第一箱体内之后被排出。所以，能够防止第一箱体内残留置换前存在的气体，能够使规定气体在整个第一箱体内均匀地运行。
根据上述第七方案，从多个第一供给口对第一箱体内供给规定气体，所以对该第一箱体内的气体供给不集中于一部分。而且，第一箱体内的气体从多个排气口排出，所以来自该第一箱体内的气体排出不集中于一部分。所以，能使供给的气体在整个第一箱体内均匀地运行。
根据上述第八方案，能够将落到第一箱体内的粉尘等排到第一箱体外，能够期待作为箱体内的粉尘对策的效果。
根据上述第九方案，考虑到在涂布处理时，由于喷嘴等因往复移动产生的气体搅拌的影响波及到第一箱体内，进一步通过将用于该往复移动的空间由第二箱体覆盖，该第二箱体内的气体也被置换成规定气体。所以，即使气体搅拌的影响波及到第一箱体内，在第二箱体内置换后的气体也流出到第一箱体内，所以即使喷嘴正在动作，也能够使第一箱体内的气体环境稳定。
根据上述第十方案，第二箱体内的气体从排气口直接被排出，所以第二箱体内的气体的置换被快速进行。
根据上述第十一方案，利用与第一箱体连通的最小限度的开口部，能够从第一箱体向第二箱体供给规定气体。
根据上述第十二方案，通过将第二箱体内用第三箱体划分，比起置换整个第二箱体的内部气体，第三箱体内的置换比较快速地被进行。另外，由于第三箱体被第二箱体包围，难以受到外部气体的影响。所以，第三箱体内的气体环境早早稳定地被置换，因此第三箱体内的气体搅拌的影响即使波及第一箱体内，置换后的气体也流出到第一箱体内，即使喷嘴正在动作，也能够使第一箱体内的气体环境稳定。
根据上述第十三方案，利用连通第一箱体和第三箱体之间的最小限度的开口部、以及连通第三箱体和第二箱体之间的开口部，能够从第一箱体向第二箱体以及第三箱体供给规定气体。
根据上述第十四方案，因为对第三箱体直接供给规定气体，所以第三箱体内的气体的置换快速地被进行。
根据上述第十五方案，因为第三箱体内的气体从排气口直接地被排出，所以，第三箱体内的气体的置换快速地被进行。
根据上述第十六方案，通过局部性地供给规定气体，在固定氧气浓度环境内进行涂布液的涂布，能够防止在涂布处理中涂布液被氧化。并且，因为将限制的空间置换成规定氧气浓度环境，所以能够抑制用于置换所提供的气体的消耗量。另外，对在搬入基板后缩短氧气浓度到达规定氧气浓度的到达时间的效果良好的连接状态、和在达到规定氧气浓度之后的涂布处理中等的氧气浓度稳定的效果良好的连接状态进行切换，由此能够兼顾两者的效果。
根据上述第十七方案，能够自动地检测涂布处理中的氧气浓度，在适当的时刻切换流路。
根据上述第十八方案，即使喷嘴的往复移动开始，第二箱体内的气体被搅拌，也会形成向第一箱体→开口部→第二箱体流动的气体流，所以第二箱体内的气体流出到第一箱体的情况少，气体也不会向着从开口部到规定空间的方向流动。所以，即便是在第二箱体内残留了氧气，也能够防止氧气流到规定空间，并能够防止涂布处理时间中的氧气浓度上升。
根据上述第十九以及第二十方案，因为涂布液喷出的空间以及涂布涂布液、装载基板的空间的氧气浓度被管理，所以能够防止涂布中以及涂布后的涂布液的氧化。
根据上述第二十一方案，直接向规定空间提供规定气体，所以还能够防止在涂布处理中的氧气浓度的上升。例如，即使在第二箱体内的气体从开口部流出到第一箱体的情况下，也形成有从规定空间朝向开口部的气体的流，所以来自第二箱体的气体流向与第一箱体的规定空间相反的方向，即涂布前的基板被装载的方向。所以，假设即便是在第二箱体内残留了氧气，也能够防止氧气流出到规定空间，并能够防止在涂布处理时间中等的氧气浓度上升。
根据上述第二十二方案，因为形成了第一箱体内的气体从设置在该第一箱体的底部的第三排气口排出的流，所以能够将落到第一箱体内的粉尘等排出到第一箱体外，并能够期待作为第一箱体内的粉尘对策的效果。
根据上述第二十三方案，因为从多个部位对规定空间供给规定气体，所以对该规定空间内的气体供给不会集中在一部分。而且，因为规定空间内的气体从多个部位被排出，所以来自该规定空间内的气体排出不会集中在一部分。因此，能够使供给的规定气体在整个规定空间内均匀地运行。
根据上述第二十四至第二十六的方案，由于喷嘴移动机构使喷嘴往复移动会成为发尘源，但是因为通过气体膜生成机构生成的气体膜遮住箱体的开口部，所以产生的粉尘不会流到基板侧。所以，能够防止在对基板的涂布处理中异物落下到该基板上。
根据上述第二十七方案，例如，对将横贯载物台面的方向作为长尺寸方向的、在箱体侧面形成的开口部，生成气流在成为该开口部的短尺寸方向的上下方向流动的气体膜，能够高效率地遮住开口部。
根据上述第二十八方案，例如，对将横贯载物台面的方向作为长尺寸方向的、在箱体底面形成的开口部，生成气流在成为该开口部的短尺寸方向的水平方向流动的气体膜，能够高效率地遮住开口部。
根据上述第二十九方案，能够将箱体内部产生的粉尘等的异物排出到外部。
根据上述第三十方案，通过局部性地提供惰性气体，在低氧气浓度环境下进行涂布液的涂布，能够防止在涂布处理中涂布液被氧化，并还能够防止恶化或者功能降低。并且，通过以惰性气体喷射的气体膜遮住开口部，能够防止气体从开口部流出到基板侧，并能够使涂布处理中等的氧气浓度稳定。
根据上述第三十一方案，装载于载物台上的基板通过喷嘴之下，由此进行对基板的涂布。而且，基板随着涂布的进行而进入到隔开构件的内部空间。即，基板进入由第一气体供给部件提供惰性气体而成为低氧气环境的空间，所以能够防止涂布到基板上的涂布液的氧化。进而，因为通过隔开构件将内部空间与外部空间隔开，所以能够在短时间内使上述内部空间成为低氧气环境。由此，能够缩短到开始涂布装置的涂布为止的时间，所以能够提高涂布装置的处理效率。
根据上述第三十二方案，载物台以通过开口部之后并通过喷嘴之下的方式进行移动，所以进行涂布的位置成为隔开构件的内部。所以，能够在低氧气环境中进行对基板的涂布，所以能够更可靠地防止涂布液的氧化。而且，通过在隔开构件上形成孔，隔开构件不会妨碍喷嘴的移动，所以能够可靠地使喷嘴动作。
根据上述第三十三方案，在隔开构件的下表面中，在载物台移动机构部通过的区域形成孔，所以隔开构件不会成为载物台移动机构部的移动的妨碍，并能够可靠地使载物台移动机构部进行动作。
根据上述第三十四方案，能够将整个基板收于隔开构件的内部空间，所以能够更可靠地防止在基板上涂布的涂布液的氧化。
根据上述第三十五方案，对箱体内的整个空间供给惰性气体，所以能够更可靠地防止在基板上涂布的涂布液的氧化。
根据上述第三十六方案，能够将局部的空间置换成规定的气体进行涂布处理。例如，通过局部性地供给氮等惰性气体，能够生成局部的低氧气环境，能够防止在涂布处理中涂布液被氧化。所以，能够将限制的空间置换成所希望的环境进行涂布处理，所以进行在所希望的涂布环境中的处理，同时能够抑制用于置换所提供的气体的消耗量。另外，因为置换限制的范围内的空间内的气体，所以能够排除因人进入该空间而产生的危险因素。
根据上述第三十七方案，直接进行向涂布空间供给规定气体，涂布空间的气体被直接排出，所以涂布空间内的气体的置换被快速地进行。另外，供给和排气从相对于涂布空间的位置进行，所以所供给的气体通过涂布空间后被排出。所以，能够防止在涂布空间残留置换前存在的气体，并能够使规定气体在整个涂布空间内均匀地进行。
根据上述第三十八方案，对涂布空间从多个部位供给规定气体，所以对该涂布空间内的气体供给不会集中在一部分。而且，涂布空间内的气体从多个部位被排出，所以来自该涂布空间内的气体排出不会集中在一部分。所以，能够使供给的规定气体在整个涂布空间内均匀地进行。
根据上述第三十九方案，考虑到在涂布处理时由于喷嘴等进行往复移动而产生的气体搅拌的影响波及涂布空间内，但是通过从该涂布空间朝着用于该往复移动的空间排出气体，用于该往复移动的空间的气体也被置换成规定气体。另外，气体的流从涂布空间朝着用于往复移动的空间，所以消除了逆流向涂布空间的情况，所以即使在喷嘴动作中，也能够使涂布空间内的气体环境稳定。
根据上述第四十一方案，通过从涂布空间的前后供给规定气体，能够降低涂布空间内的气体偏差，并能够使局部环境稳定。
根据上述第四十二方案，考虑到在涂布处理时由于喷嘴等进行往复移动产生的气体搅拌的影响波及到涂布空间内，但是通过进而将用于该往复移动的空间置换成规定气体，由此即使气体搅拌的影响波及到涂布空间内，置换后的气体也会流出。所以，在喷嘴正在动作中也能够使涂布空间内的气体环境稳定。
另外，根据本发明的涂布方法，能够得到与上述的涂布装置同样的效果。
本发明的这些以及其它的目的、特征、方案、效果与附图对照，从以下的详细说明中会进一步明确。
图1是表示本发明的一实施方式的涂布装置1的主要部分的概略结构的俯视图以及主视图，图2是表示图1的涂布装置1的控制功能以及供给部的框图，图3是表示被设置在图1的涂布装置1的局部环境生成机构的概略结构的俯视图，图4是表示被设置在图1的涂布装置1的局部环境生成机构的概略结构的一例的侧剖视图，图5是表示第三箱体(box)63的外观的立体图，图6是表示氮气投入口的结构的剖面图，图7是表示扩散板731的结构的立体图，图8是用于说明在点(point)C的氧气浓度管理值的曲线图，图9是表示在局部环境生成结构的氮气供给的流程的框图，图10是表示涂布装置1进行涂布处理时的动作的一例的流程图，图11是表示在本发明的第一实施方式的涂布装置1中的氮气流动流(flow)的第一例的示意图，图12是表示在本发明的第一实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第二例的示意图，图13是表示在本发明的第一实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第三例的示意图，图14是表示在本发明的第一实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第四例的示意图，图15是表示在本发明的第二实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第一例的示意图，图16是表示在本发明的第二实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第二例的示意图，图17是表示在本发明的第二实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第三例的示意图，图18是表示在本发明的第三实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第一例的示意图，图19是表示在本发明的第三实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第二例的示意图，图20是表示在本发明的第三实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第三例的示意图，图21是表示在本发明的第四实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第一例的示意图，图22是表示在本发明的第四实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第二例的示意图，图23是表示在本发明的第四实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第三例的示意图，图24是表示在本发明的第四实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第四例的示意图，图25是表示在本发明的第四实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第五例的示意图，图26是由隔板64形成局部的低氧环境的涂布装置1的主视图，图27是表示由隔板64所设置的局部环境生成机构的概略机构的侧剖视图，图28是表示在本发明的第五实施方式的涂布装置1所设置的局部环境生成机构的概略结构的侧剖视图，图29是表示在本发明的第五实施方式的涂布装置1的氮气流动流的示意图，
图30是表示涂布装置1进行涂布处理时的动作的流程图，图31是表示在本发明的第六实施方式的涂布装置1所设置的局部环境生成机构的概略结构的侧剖视图，图32是表示图31的背面侧气体供给部75的概略结构的立体图，图33是表示在图31的涂布装置1中的氮气流动流的示意图，图34是表示在图31的涂布装置1中的氮气流动流的变形例的示意图，图35是表示本发明的第七实施方式的图1的涂布装置1的局部环境生成机构的概略结构的俯视图，图36是表示本发明的第七实施方式的局部环境生成机构的概略结构的侧剖视图，图37是表示第三箱体63的外观的立体图，图38是表示图36的第三箱体63内部的概略结构的侧剖视图，图39是表示在涂布装置1中的氮气流动流的示意图，图40是表示本发明的第八实施方式的局部环境生成机构的概略结构的侧剖视图，图41是表示图40的第三箱体63内部的概略结构的侧剖视图，图42是表示在本发明的第八实施方式的涂布装置所设置的局部环境生成机构的概略结构的侧剖视图，图43是表示隔离构件的外观的立体图，图44A～图44D是表示隔离构件的结构的俯视图，图45是表示对基板的涂布处理结束了时刻的隔离构件和基板的位置关系的图。
具体实施例方式
在说明本发明的具体的各实施方式之前，参照附图，对本发明的涂布装置的概要进行说明。为了具体地说明，以将该涂布装置用于使用有机EL材料或空穴输送材料作为涂布液的、制造有机EL显示装置的涂布装置为例，来进行以下的说明。该涂布装置是在被装载于载物台上的玻璃基板上将有机EL材料或空穴输送材料等涂布成规定的图案形状，制造有机EL显示装置的涂布装置。图1是表示涂布装置1的主要部分概略结构的俯视图以及主视图。此外，如上所述，涂布装置1使用有机EL材料或空穴输送材料等多种涂布液，但是作为它们的代表，以有机EL材料为涂布液进行说明。
图1中，涂布装置1大致具有基板装载装置2和有机EL涂布机构5。有机EL涂布机构5具有喷嘴移动机构部51、喷嘴单元50和接液部53L以及53R。喷嘴移动机构部51在沿图示X轴方向上延伸设置导向构件511，使喷嘴单元50沿导向构件511在图示X轴方向移动。喷嘴单元50在将喷出红、绿和蓝色的任一种颜色的有机EL材料的喷嘴52a～52c并列设置的状态下进行保持。分别从供给部(参照图2)向各喷嘴52a～52c供给红、绿和蓝色中任一种颜色的有机EL材料。这样，典型地，虽然从三根喷嘴52a～52c喷出相同颜色的有机EL材料，但是为了使说明具体，使用从三根喷嘴52a～52c喷出红色有机EL材料的例子。此外，涂布装置1，其周围和内部被第一～第三箱体61～63等隔开，其详细内容在后面叙述。
基板装载装置2具有载物台21、旋转部22、平行移动工作台23、接受导向部24、和导向构件25。载物台21将成为被涂布体的玻璃基板等的基板P装载在该载物台上表面。载物台21的下部通过旋转部22支承着，通过旋转部22的转动动作，可使载物台21在图示θ方向转动。此外，在载物台21的内部设置有加热机构、基板P的吸附机构、交接销机构，该加热机构用于在载物台面上对涂布了有机EL材料的基板P进行预加热处理。
以通过有机EL涂布机构5的下方的方式，导向构件25沿与上述X轴方向垂直的图示Y轴方向延伸设置并固定。在平行移动工作台23的下表面固定设置有与导向构件25抵接并在导向构件25上滑动的接受导向部24。此外，在平行移动工作台23的上表面，固定设置有旋转部22。由此，如平行移动工作台23接受来自直线电动机(未图示)的驱动力，从而可以在沿着导向构件25的图示Y轴方向移动，也可以移动由旋转部22支承的载物台21。
经由交接销机构而在载物台21上装载并吸附基板P，在平行移动工作台23移动到有机EL涂布机构5的下方时，该基板P处于从喷嘴52a～52c接受红色的有机EL材料的涂布的位置。并且，控制部(参照图2)，以使喷嘴单元50在X轴方向做往复移动的方式控制喷嘴移动机构部51，以使载物台21每次在Y轴方向直线移动仅移动规定的间距的方式控制平行移动工作台23，从喷嘴52a～52c喷出规定流量的有机EL材料。此外，在喷嘴52a～52c的X轴方向喷出位置，在从装载于载物台21的基板P脱离的两边空间中，分别固定设置有接收偏离基板P被喷出的有机EL材料的接液部53L和53R。喷嘴移动机构部51使喷嘴单元50在从配置在基板P的一侧边缘外侧的接液部53的上部空间，和横贯基板P而配置在基板P的另一侧边缘外侧的接液部53的上部空间之间做往复移动。此外，平行移动工作台23，在喷嘴单元50被配置在接液部53的上部空间时，使载物台21在与喷嘴往复移动方向垂直的规定方向(图示Y轴方向)仅移动规定的间距。通过在这种喷嘴移动机构部51和平行移动工作台23动作的同时，从喷嘴52a～52c以液柱状态喷出有机EL材料，从而红色的有机EL材料，被排列在形成于基板P上的条纹状的每个槽内，也就是在基板P上形成为条纹排列。
接着，参照图2，针对涂布装置1中的控制功能和供给部的概略结构进行说明。另外，图2是表示涂布装置1的控制功能和供给部的框图。
图2中，涂布装置1除上述的结构部以外，还具有控制部3、第一供给部54a、第二供给部54b、和第三供给部54c。第一～第三供给部54a～54c都经由配管分别向喷嘴52a～52c供给红色有机EL材料。此外，从供给源541a～541c至喷嘴52a～52c的各配管采用以PE(聚乙烯)、PP(聚丙烯)、特富龙(注册商标，即聚四氟乙烯)等为材料的管构件。
第一供给部54a具有有机EL材料的供给源541a、用于从供给源541a取出有机EL材料的泵542a、检测有机EL材料的流量的流量计543a。此外，第二供给部54b具有有机EL材料的供给源541b、用于从供给源541b取出有机EL材料的泵542b、检测有机EL材料的流量的流量计543b。第三供给部54c具有有机EL材料的供给源541c、用于从供给源541c取出有机EL材料的泵542c、检测有机EL材料的流量的流量计543c。并且，控制部3控制第一～第三供给部54a～54c、旋转部22、平行移动工作台23、和喷嘴移动机构部51的各个动作。
喷嘴52a具有用于除去从供给部54a供给的有机EL材料中的异物的过滤器521a。喷嘴52b具有用于除去从供给部54b供给的有机EL材料中的异物的过滤器521b。喷嘴52c具有用于除去从供给部54c供给的有机EL材料中的异物的过滤器521c。此外，由于喷嘴52a～52c分别是相同的构造，在统称说明的情况下，标上附图标记“52”进行说明。
在接受红色的有机EL材料的涂布的基板P的表面，以多条并列设置的方式形成有应涂布有机EL材料的、对应于规定图案形状的条纹状的槽。作为有机EL材料，可以使用例如具有能在基板P上的槽内扩展开那样的流动程度的粘性的有机性的EL材料，具体来说，根据颜色可以使用该颜色的高分子类型的有机EL材料。喷嘴单元50能够绕规定的支承轴自由转动地被支承着，通过控制部3的控制，绕该支承轴转动，从而可以调整涂布间距间隔。
控制部3基于装载于载物台21上的基板P的位置或方向，以使形成于基板P上的槽的方向为上述X轴方向的方式调整旋转部22的角度，算出涂布开始点、即在形成于基板P上的槽的一个端部侧开始涂布的涂布开始位置。另外，上述涂布开始位置为一个接液部53的上部空间。并且，控制部3如上所述那样地驱动平行移动工作台23和喷嘴移动机构部51。
在上述涂布开始位置，控制部3指示各个泵542a～542c开始从各个喷嘴52a～52c喷出有机EL材料。此时，控制部3根据喷嘴52a～52c的移动速度控制其涂布量，并反馈来自流量计543a～543c的流量信息来进行控制，以便条纹状的槽的各个点的有机EL材料的涂布量变得均匀，以液柱状态喷出有机EL材料。并且，为了向基板P上的槽内注入有机EL材料，控制部3控制喷嘴单元50沿导向构件511移动，使得有机EL材料沿着基板P上的槽注入到此槽内。根据此动作，以液柱状态从各个喷嘴52a～52c喷出的红色的有机EL材料同时被注入到各自的槽中。
控制部3，当喷嘴单元50横穿基板P上而位于固定设置在槽的另一侧端部的外侧的另一个接液部53上时，保持从喷嘴52a～52c继续喷出有机EL材料的状态下，停止由喷嘴移动机构部51进行的喷嘴单元50的移动。通过这一次移动，完成向3列槽涂布有机EL材料的作业。具体地说，由于从各喷嘴52a～52c喷出同种颜色的有机EL材料，所以向每3列以1列的槽为涂布对象的、总计3列的槽涂布有机EL材料。
接着，控制部3，将平行移动工作台23沿Y轴正方向只进给规定距离(例如9列槽的量)的间距，接着，向成为涂布对象的槽进行有机EL材料的涂布。并且，控制部3，从另一侧的接液部53的上部空间开始，使喷嘴单元50向相反方向横穿基板P上而位于一侧的接液部53上时，保持从喷嘴52a～52c持续喷出有机EL材料的状态下，停止由喷嘴移动机构部51带来的喷嘴单元50的移动。通过这第二次的移动，完成向接下来3列槽涂布有机EL材料的作业。通过重复这样的动作，红色的有机EL材料被注入以红色为涂布对象的槽内。
接下来，参照图3～图10，针对被设置在涂布装置1的局部环境生成机构进行说明。图3是表示被设置在涂布装置1的局部环境生成机构的概略结构的俯视图。图4是表示被设置在涂布装置1的局部环境生成机构的概略结构的侧剖视图。图5是表示第三箱体63的外观的立体图。图6是表示氮气投入口的结构的剖视图。图7是表示扩散板731的结构的立体图。图8是用于说明在点C的氧气浓度管理值的曲线图。图9是表示在局部环境生成结构的氮气供给的流程的框图。图10是表示涂布装置1进行涂布处理时的动作的一例的流程图。
在图3～图5中，涂布装置1由第一箱体61、第二箱体62、以及第三箱体63分别从外部遮蔽地被设置。第一箱体61以包围基板装载装置2向图示Y轴方向进行往复移动的空间(以下记为腔室空间)从外部进行遮蔽的方式而被设置。另外，第一箱体61，除了喷嘴52向腔室空间突出而进行往复移动用的开口部S1，以隔开腔室空间和设置有有机EL涂布机构5的空间之间的方式而被设置。第三箱体63包括设置有有机EL涂布机构5的空间，包围喷嘴单元50等在图示X轴方向进行往复移动的空间(以下记为滑动(slider)空间)而被设置。此外，第三箱体63也形成有喷嘴52从滑动空间向腔室空间突出而进行往复移动用的开口部S1(参照图5)。另外，在第三箱体63的上表面形成有配管(未图示)通过用的开口部S2，该配管用于从第一～第三供给部54a～54c将有机EL材料分别供给到喷嘴52a～52c。在喷嘴单元50设置有静压轴承的情况下，用于向该静压轴承供给气体的配管也通过开口部S2而被连接。第二箱体62包围第一箱体61的上部空间而被设置。在第二箱体62的内部设置有有机EL涂布机构5以及第三箱体63，在第二箱体62也形成有喷嘴52从滑动空间向腔室空间突出而进行往复移动用的开口部S1。此外，将由第二箱体62包围的空间内的、除了滑动空间的空间记为箱体(box)空间。这样，涂布装置1通过第一～第三箱体61～63被隔开而分别设置成腔室空间、滑动空间、以及箱体空间。此外，第一～第三箱体61～63都形成有上表面，但是，在图3中，为了容易理解与内部的关系，而省略上表面和下表面，用斜线或者交叉线区域仅表示侧壁。
在第一～第三箱体61～63，连接有用于向其内部空间供给氮气等惰性气体(以下仅记为氮气)的供给管71、用于排出其内部空间的气体的排气管72。在图3和图4的例子中，供给管71与第一箱体61的Y轴负方向侧的壁面(以下，将Y轴负方向侧的壁面记为前面)相连接。另外，在图4的例子中，多个供给管71a～71c与第一箱体61的壁面相连接。另外，排气管72与第二箱体62的Y轴正方向侧的壁面(以下，将Y正负方向侧的壁面记为背面)相连接。这样，在连接了供给管71和排气管72的情况下，从供给管71所供给的氮气这样流动向腔室空间被供给，通过开口部S1而流入到滑动空间，通过开口部S2流入到箱体空间之后，从排气管72流出。
另外，在第一箱体61设置有用于进行基板P的搬入和搬出的投入口611。投入口611通过以旋转轴为中心进行转动(图示箭头方向)的闸门而可进行开闭。基板P在投入口611被开放的状态下，由搬送机械手(未图示)搬入到腔室空间内，并被装载于载物台21上。另外，在利用涂布装置1进行涂布处理时，关闭上述闸门而从外部遮蔽腔室空间。
在连接第一箱体61和供给管71a以及71b的附近，设置有扩散部73，具体而言，扩散部73被设置在从供给管71a以及71b流入到第一箱体61的内部空间的入口附近的该内部空间侧。如图6和图7所示，扩散部73包括扩散板731和整流板(punching matel)732。扩散板731是被固定设置在阻碍从供给管71a以及71b流入上述内部空间的氮气的位置的板状构件，在其周围形成有规定的间隙。从供给管71a以及71b流入到上述内部空间的氮气因扩散板731而被阻碍，不会直接地流入到上述内部空间，而会改向扩散板731的周围流动。整流板732是冲孔加工有多个孔的板状构件，与扩散板731相对地被固定设置在上述内部空间侧。另外，整流板732被配置在从扩散板731的周围流动的氮气的流动路径上。也就是，从供给管71a以及71b供给的氮气必定通过在整流板732形成的孔而流入到上述内部空间内。因此，通过扩散部73，能够将从供给管71a以及71b所供给的氮气扩散而供给到第一～第三箱体61～63内。
另外，在投入口611附近连接有供给管71c。一般地，在投入口611附近，因基板P的搬入/搬出时的开闭，外部空气容易侵入，导致氧气浓度容易变高，但是通过向这样的地方供给氮气，能够使侵入的氧气扩散。此外，从供给管71c流到内部空间的入口附近，其流路被弯曲，在该入口附近没有设置扩散部。
在排气管72和第一～第三箱体61～63的连接部设置有整流板733。该整流板733被固定设置在排气管72的内部空间侧、并被配置在向排气管72流动的气体的流动路径上。也就是，向排气管72排出的气体必定通过在整流板733所形成的孔而被排出。这样，通过在排出口附近配置整流板733，能够防止排出气体的地方集中，从而均匀地排出整个内部空间的气体。
从供给管71向第一～第三箱体61～63内供给氮气并从排气管72排出第一～第三箱体61～63内的气体，从而第一～第三箱体61～63内部变为氮气环境，内部的氧气浓度下降。由此，涂布装置1能够防止向基板P涂布有机EL材料时的氧化。在这里，为了防止有机EL材料的氧化，使整个腔室空间内的氧气浓度降低即可，但是最必须降低氧气浓度的空间是从喷嘴52喷出有机EL材料的空间和涂布后的基板P面依次向Y轴正方向侧输送的空间(在图4所示的点C)。例如，在将有机EL材料涂布在基板P上时的氧气浓度上限作为氧气浓度管理值时，至少在点C的氧气浓度必须满足氧气浓度管理值。
为了在点C的氧气浓度满足氧气浓度管理值的状态下进行涂布处理，使在点C的氧气浓度降低到氧气浓度管理值以下后，必须开始涂布处理。因此，通过缩短搬入基板P之后在点C的氧气浓度降低至氧气浓度管理值以下的时间(图8所示的“到达时间”)，能够使涂布装置1更有效地运转。另外，在涂布处理中，因为必须防止在点C的氧气浓度超过氧气浓度管理值(图8所示的“涂布处理时间”)，所以在涂布处理中也继续进行来自供给管71的氮气供给以及来自排气管72的气体排出。在这里，通过使喷嘴单元50和喷嘴52在X轴方向往复移动，从而搅拌了滑动空间内的气体和开口部S1附近的气体。因此，例如在滑动空间内残存了氧气的情况下，会因搅拌而使该氧气流到点C，从而使点C的氧气浓度上升。也就是，对于在点C的氧气浓度的管理中，需要考虑涂布处理前以及涂布处理中的流体平衡。在后面所述的实施例中，通过将滑动空间内和箱体空间内也置换成低氧环境，从而防止了在涂布处理中氧气浓度的上升。
另外，为了使在点C的氧气浓度稳定，第一～第三箱体61～63内的压力也很重要。例如，在第一～第三箱体61～63相对外部不是完全密闭结构的情况下，当第一～第三箱体61～63内的压力被维持在不到大气压力(也就是低于外部的压力)时，外部的气体流入第一～第三箱体61～63内。因此，在本实施方式中，调整涂布处理前和涂布处理中的流体平衡，以便能将第一～第三箱体61～63内的压力维持在大气压以上(也就是与外部相同或者高于外部的压力)。因此，即使第一～第三箱体61～63相对外部不是完全密闭结构，也能够对在点C的氧气浓度进行管理。这样，第一～第三箱体61～63内，管理局部的环境成为可能，特别是使内部氧气浓度下降的管理成为可能。
在图9中，局部环境生成机构除了上述的结构部之外，还具有氮气瓶81、过滤器83、压力调整部84、供给侧的流量调整部85、排气侧的流量调整部86、以及吸引部87，相互用配管等连接在一起。氮气瓶81、过滤器83、压力调整部84、以及流量调整部85相当于从供给管71供给氮气的供给系统。另一方面，流量调整部86和吸引部87相当于从排气管72排出气体的排气系统。此外，这些机构可以内置在涂布装置1，也可以作为涂布装置1的外部装置来设置。在作为涂布装置1的外部装置设置的情况下，也可以使用预先被设置在设置部位的设备(例如，工厂的氮气供给装置或吸引装置)。
在氮气瓶81的内部贮藏有液态氮气等。从氮气瓶81将氮气以气体状态取出，作为工厂的动力供给并向过滤器83流动。过滤器83除去流动的氮气中的异物而将其输送到压力调整部84和流量调整部85。然后，通过压力调整部84调整向涂布装置1供给的氮气压力，并通过流量调整部85调整向涂布装置1供给的氮气流量之后，向供给管71供给氮气。另一方面，吸引部87从排气管72吸引气体，将第一～第三箱体61～63内的气体排出到外部。然后，通过流量调整部86调整从排气管72吸引气体并排出到外部的流量。用户通过调整在压力调整部84、流量调整部85、以及流量调整部86设置的流路的节流孔或设定值等，从而能够调整上述的涂布装置1的流体平衡。
接着，参照图4和图10，针对涂布装置1进行涂布处理时的动作进行说明。首先，开放投入口611(步骤S51)。然后，用搬送机械手等从开放的投入口611搬入基板P，在载物台21上装载有基板P(步骤S52)。然后，关闭投入口611(步骤S53)，成为从外部遮蔽腔室空间的空间。
接着，开始从供给管71向第一～第三箱体61～63内供给氮气，并开始向排气管72排出第一～第三箱体61～63内的气体(步骤S54)。然后，在第一～第三箱体61～63内(例如点C)的氧气浓度达到氧气浓度管理值以下时(在步骤S55为“是”)，对基板P进行涂布处理(步骤S56)。
在对基板P的涂布处理结束时(在步骤S57为“是”)，停止从供给管71供给氮气，并停止向排气管72排出气体(步骤S58)。接着，开放投入口611(步骤S59)，用搬送机械手等从开放的投入口611搬出被装载于载物台21上的涂布处理后的基板P(步骤S60)。并且，在持续涂布处理的情况下(在步骤61为“是”)，返回到上述步骤S52，反复进行动作。另一方面，在涂布处理结束的情况下(在步骤S61为“否”)，该流程图的动作结束。
(第一实施方式)下面，参照附图，针对本发明的第一实施方式的涂布装置1进行说明。第一实施方式是在腔室空间没有设置排气管而在箱体空间或者滑动空间设置了排气管的涂布装置1。此外，关于涂布装置1的概要，省略说明，主要针对作为第一实施方式的特征的供给管和排气管的连接处进行说明。此外，图11是表示在第一实施方式的涂布装置1中的氮气流动流(flow)的第一例的示意图。图12是表示在第一实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第二例的示意图。图13是表示在第一实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第三例的示意图。图14是表示在第一实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第四例的示意图。此外，在图11～图14中，为了便于说明，在各涂布装置1中，仅图示第一～第三箱体61～63、腔室空间、箱体空间、以及滑动空间而进行简化。
在图11中，在第一箱体61的前面连接有供给管71，氮气经由供给管71而被供给到腔室空间(图示箭头Ci1；为供给Ci1)。另外，在第二箱体62的背面连接有排气管72，箱体空间内的气体经由排气管72而被排出(图示箭头Bo；为排出Bo)。例如，供给Ci1相当于图4所示的供给管71a，排出Bo相当于图4所示的排气管72。
从供给Ci1供给的氮气流入腔室空间之后，流向开口部S1→滑动空间→开口部S2→箱体空间，并从排出Bo被排出。因此，在图11所示的连接状态下，能够形成供给Ci1→腔室空间→开口部S1→滑动空间→开口部S2→箱体空间→排出Bo这种没有逆流的一系列的流程，能有效地使腔室空间变化为氮气环境。另外，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧所供给的氮气通过开口部S1露到滑动空间的气流。也就是，即使因喷嘴单元50的往复移动，滑动空间内的气体被搅拌了，也会形成腔室空间→开口部S1→滑动空间的气体流，因此滑动空间内的气体流出到腔室空间的情况少。因此，即使在滑动空间残存有氧气，也能够防止氧气流到腔室空间，能够防止图8所示的涂布处理时间中的氧气浓度上升。
在图12中，在第一箱体61的前面和背面分别连接有供给管71，通过两个供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1、Ci2；为供给Ci1、Ci2)。进而，在第三箱体63的前面连接有供给管71，通过供给管71向滑动空间供给氮气(图示箭头Si；为供给Si)。另外，在第二箱体62的背面连接有排气管72，箱体空间内的气体经由排气管72而被排出(图示箭头Bo；为排出Bo)。在图12所示的连接状态下，设置有三处供给口，但是全部以和参照图6说明的结构相同的连接方式来分别连接着供给管71。
从供给Ci1和Ci2供给的氮气在腔室空间内汇流而从开口部S1流入滑动空间，并在该滑动空间内与从供给Si供给的氮气汇流。然后，汇流在一起的氮气向滑动空间→开口部S2→箱体空间流动，并从排出Bo被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧和另一侧分别供给的氮气通过开口部S1露到滑动空间的气流。这样，通过从第一箱体61的前后来供给氮气，能够降低腔室空间内的氧气浓度的波动，在点C的氧气浓度稳定。
在图13中，在第一箱体61的前面和背面分别连接有供给管71，通过两个供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1、Ci2；为供给Ci1、Ci2)。进而，在第三箱体63的前面连接有供给管71，通过供给管71向滑动空间供给氮气(图示箭头Si；为供给Si)。另外，在第三箱体63的背面连接有排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So，为排出So)。在图13所示的连接状态，排出口被设置在第三箱体63，意味着排气管72直接与第三箱体63相连接，例如，排气管72从外部贯通安装在箱体空间内，并与第三箱体63相连接。另外，关于与第三箱体63的背面相连接的排气管72，以和参照图4说明的结构相同的连接方式连接，以下也是同样。
从供给Ci1和Ci2供给的氮气在腔室空间内汇流而从开口部S1流入滑动空间，并在该滑动空间内与从供给Si供给的氮气汇流。然后，汇流在一起的氮气从排出So被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧和另一侧分别供给的氮气通过开口部S1露到滑动空间的气流。在这里，箱体空间内没有被包含在氮气流程的流路，因此不会主动地进行向氮气环境的置换。但是，因为从滑动空间经由开口部S2有氮气的流出，因此在箱体空间的氧气浓度比装置外部空间低。因此，即使不主动地进行向氮气环境的置换，也能够通过设置第二箱体62来防止与外部空间同样的氧气流到滑动空间。
参照图14说明的连接状态是省略了第三箱体63的例子。也就是，有机EL涂布机构5被设置在箱体空间内。在图14中，在第一箱体61的前面连接有供给管71，通过供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1；为供给Ci1)。另外，在第二箱体62的背面连接有排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；为排出Bo)。例如，图14所示供给管71和排气管72的连接处是图4所示的供给管71a和排气管72，相对图4所示的结构为省略了第三箱体63的状态。
从供给Ci1所供给的氮气流入到腔室空间后，向开口部S1→箱体空间流动，并从排出Bo被排出。因此，在图14所示的连接状态能够形成供给Ci1→腔室空间→开口部S1→箱体空间→排出Bo这种没有逆流的一系列的流，能高效地使腔室空间变化为氮气环境。另外，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧所供给的氮气通过开口部S1露到箱体空间的气流。也就是，即使因喷嘴单元50的往复移动，滑动空间内的气体被搅拌，也会形成腔室空间→开口部S1→滑动空间的气体流，因此滑动空间内的气体流到腔室空间的情况少。因此，即使在滑动空间残存有氧气，也能够防止氧气流到腔室空间。进而，在图14所示的连接状态，能够省略第三箱体63而构成将供给管和排气管做成最小限度的最简单的局部环境生成机构。
(第二实施方式)下面，参照附图，针对本发明的第二实施方式的涂布装置1进行说明。第二实施方式是不在腔室空间设置排气管而在箱体空间和滑动空间分别设置了排气管的涂布装置1。此外，关于涂布装置1的概要，省略说明，主要针对作为第二实施方式的特征的供给管和排气管的连接处进行说明。此外，图15是表示在第二实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第一例的示意图。图16是表示在第二实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第二例的示意图。图17是表示在第二实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第三例的示意图。此外，在图15～图17中，为了便于说明，对各涂布装置1，仅图示第一～第三箱体61～63、腔室空间、箱体空间、以及滑动空间而进行简化。
在图15中，在第一箱体61的前面连接有供给管71，通过供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1；为供给Ci1)。进而，在第三箱体63的前面连接有供给管71，通过供给管71向滑动空间供给氮气(图示箭头Si；为供给Si)。另外，在第二箱体62的背面连接有排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；为排出Bo)。进而，在第三箱体63的背面连接有排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So，为排出So)。在图15所示的连接状态，设置有两处供给口，但是全部以与参照图6说明的结构同样的连接方式而分别连接有供给管71。另外，在图15所示的连接状态，排出口被设置在第三箱体63，如上所述那样地意味着排气管72直接与第三箱体63相连接，以下也同样。另外，针对分别与第一箱体61的背面和第三箱体63的背面分别相连接的排气管72，以与参照图4说明的结构同样的连接方式而连接，以下也同样。
从供给Ci1供给的氮气流入腔室空间后，从开口部S1流入滑动空间，并在滑动空间与从供给Si供给的氮气汇流。然后，汇流在一起的氮气从排出口So被排出、或者从开口部S2流入箱体空间而从排出Bo被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧供给的氮气通过开口部S1露到滑动空间的气流。
在图16中，在第一箱体61的背面连接有供给管71，通过供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci2；为供给Ci2)。进而，在第三箱体63的前面连接有供给管71，通过供给管71向滑动空间供给氮气(图示箭头Si；为供给Si)。另外，在第二箱体62的背面连接有排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；为排出Bo)。进而，在第三箱体63的背面连接有排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So，为排出So)。在图16所示的连接状态，设置有两处供给口，但是以与参照图6说明的结构同样的连接方式而连接。
从供给Ci2供给的氮气流入腔室空间后，从开口部S1流入滑动空间，并在滑动空间与从供给Si供给的氮气汇流。然后，汇流在一起的氮气从排出口So被排出、或者从开口部S2流入箱体空间而从排出Bo被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的另一侧供给的氮气通过开口部S1露到滑动空间的气流。
在图17中，在第一箱体61的前面和背面分别连接有供给管71，通过两个供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1、Ci2；为供给Ci1、Ci2)。进而，在第三箱体63的前面连接有供给管71，通过供给管71向滑动空间供给氮气(图示箭头Si；为供给Si)。另外，在第二箱体62的背面连接有排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；为排出Bo)。进而，在第三箱体63的背面连接有排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So，为排出So)。在图17所示的连接状态，设置有三处供给口，但是以与参照图6说明的结构同样的连接方式而连接。
从供给Ci1和Ci2供给的氮气在腔室空间内汇流，并从开口部S1流入滑动空间，并在该滑动空间内与从供给Si供给的氮气汇流。然后，汇流在一起的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入箱体空间而从排出Bo被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧和另一侧分别供给的氮气通过开口部S1露到滑动空间的气流。这样，通过从第一箱体61的前后供给氮气，能够降低腔室空间内的氧气浓度的波动，稳定在点C的氧气浓度。
(第三实施方式)下面，参照附图，针对本发明的第三实施方式的涂布装置1进行说明。第三实施方式是在腔室空间设置排气管，并在箱体空间或滑动空间设置了排气管的涂布装置1。此外，关于涂布装置1的概要，省略说明，主要针对作为第三实施方式的特征的供给管和排气管的连接处进行说明。此外，图18是表示在第三实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第一例的示意图。图19是表示在第三实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第二例的示意图。图20是表示在第二实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第三例的示意图。此外，在图18～图20中，为了便于说明，也对各涂布装置1，仅图示第一～第三箱体61～63、腔室空间、箱体空间、以及滑动空间而进行简化。
在图18中，在第一箱体61的前面连接有供给管71，通过供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1；为供给Ci1)。进而，在第三箱体63的前面连接有供给管71，通过供给管71向滑动空间供给氮气(图示箭头Si；为供给Si)。另外，在第一箱体61的背面连接有排气管72，通过排气管72排出腔室空间内的气体(图示箭头Co；为排出Co)。进而，在第二箱体62的背面连接有排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；为排出Bo)。在图18所示的连接状态，设置有两处供给口，但是以与参照图6说明的结构同样的连接方式而连接。对与第一箱体61的背面相连接的排气管72也以与参照图4说明的结构同样的连接方式而连接，以下也同样。
从供给Ci1供给的氮气流入腔室空间后，从处于第一箱体61的背面的排出Co被排出。另外，从供给Ci1供给的氮气流入腔室空间后，从开口部S1向滑动空间流入，并在滑动空间内与从供给Si供给的氮气汇流。然后，在滑动空间内汇流在一起的氮气从开口部S2流入箱体空间，并从排出Bo被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧供给的氮气向腔室空间的另一侧泄露的气流和、通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。这样，在第三实施方式中，由于一边向腔室空间供给氮气一边直接地排出腔室空间内的气体，所以在腔室空间内的气体被置换成氮气环境的速度加快。也就是，由于在图4所示的点C的氧气浓度的下降也快速地被进行，所以能够缩短图8所示的到达时间。
在图19中，在第一箱体61的前面连接有供给管71，通过供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1；为供给Ci1)。进而，在第三箱体63的前面连接有供给管71，通过供给管71向滑动空间供给氮气(图示箭头Si；为供给Si)。另外，在第一箱体61的背面连接有排气管72，通过排气管72排出腔室空间内的气体(图示箭头Co；为排出Co)。进而，在第三箱体63的背面连接有排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So，为排出So)。在图19所示的连接状态下，供给口仅设置有两处，但是以和参照图6说明的结构相同的连接方式而连接。
从供给Ci1供给的氮气流入到腔室空间后，从处于第一箱体61的背面的排出Co被排出。另外，从供给Ci1供给的氮气流入到腔室空间后，从开口部S1向滑动空间流入，并在该滑动空间内与从供给Si供给的氮气汇流。然后，在滑动空间内汇流在一起的氮气从排出So被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧供给的氮气向腔室空间的另一侧泄露的气流和、通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。在此，箱体空间内没有被包含在氮气流的流路中，因此不会主动地进行向氮气环境的置换。但是，因为从滑动空间经由开口部S2有氮气的流出，因此在箱体空间的氧气浓度比装置外部空间低。因此，即使不主动地进行向氮气环境的置换，也能够通过设置第二箱体62来防止与外部空间同样的氧气流入滑动空间。
参照图20说明的连接状态是省略了第三箱体63的例子。也就是，有机EL涂布机构5被设置在箱体空间内。在图20中，在第一箱体61的前面连接有供给管71，通过供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1；为供给Ci1)。进而，在第二箱体62的前面的设置有有机EL涂布机构5的附近连接有供给管71，通过供给管71向箱体空间供给氮气(图示箭头Si；为供给Si)。另外，在第一箱体61的背面连接有排气管72，通过排气管72排出腔室空间内的气体(图示箭头Co；为排出Co)。另外，在第二箱体62的背面连接有排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；为排出Bo)。在图20所示的连接状态，设置有两处供给口，但是以与参照图6说明的结构同样的连接方式而连接。
从供给Ci1供给的氮气流入腔室空间后，从处于第一箱体61的背面的排出Co被排出。另外，从供给Ci1供给的氮气流入腔室空间后，从开口部S1向箱体空间流入，并在该箱体空间内与从供给Si供给的氮气汇流。然后，在箱体空间内汇流在一起的氮气从排出Bo被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧供给的氮气向腔室空间的另一侧泄露的气流和、通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。在图20所示的连接状态，能够省略第三箱体63而构成在腔室空间和箱体空间设置了排气管的第三实施方式的局部环境生成机构。
(第四实施方式)下面，参照附图，针对本发明的第四实施方式的涂布装置1进行说明。
第四实施方式是在腔室空间设置排气管并在箱体空间和腔室空间分别设置了排气管的涂布装置1。此外，关于涂布装置1的概要，省略说明，主要针对作为第四实施方式的特征的供给管和排气管的连接处进行说明。此外，图21是表示在第四实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第一例的示意图。图22是表示在第四实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第二例的示意图。图23是表示在第四实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第三例的示意图。图24是表示在第四实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第四例的示意图。图25是表示在第四实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的第五例的示意图。此外，在图21～图25中，为了便于说明，也对各涂布装置1，仅图示第一～第三箱体61～63、腔室空间、箱体空间、以及滑动空间而进行简化。
在图21中，在第一箱体61的前面连接有供给管71，通过供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1；为供给Ci1)。在第一箱体61的背面连接有排气管72，通过排气管72排出腔室空间内的气体(图示箭头Co；为排出Co)。另外，在第二箱体62的背面连接有排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；为排出Bo)。进而，在第三箱体63的背面连接有排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So，为排出So)。例如，供给Ci1相当于图4所示的供给管71a。
从供给Ci1供给的氮气流入腔室空间后，从处于第一箱体61的背面的排出Co被排出。另外，从供给Ci1供给的氮气流入腔室空间后，从开口部S1向滑动空间流入。并且，流入滑动空间内的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2向箱体空间流入而从排出Bo被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧供给的氮气向腔室空间的另一侧泄露的气流和、通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。这样，在第四实施方式中，由于也是一边向腔室空间供给氮气一边直接地排出腔室空间内的气体，所以在腔室空间内的气体被置换成氮气环境的速度加快。另外，由于从内部空间排出的流路也设置有多条，进而整个内部空间被置换成氮气环境的速度加快。也就是，由于在图4所示的点C的氧气浓度的下降也快速地被进行，所以能够缩短图8所示的到达时间。
在图22中，在第一箱体61的前面连接有供给管71，通过供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1；为供给Ci1)。进而，在第三箱体63的前面连接有供给管71，通过供给管71向滑动空间供给氮气(图示箭头Si；为供给Si)。在第一箱体61的背面连接有排气管72，通过排气管72排出腔室空间内的气体(图示箭头Co；为排出Co)。在第二箱体62的背面连接有排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；为排出Bo)。进而，在第三箱体63的背面连接有排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So，为排出So)。在图22所示的连接状态，设置有两处供给口，但是以与参照图6说明的结构同样的连接方式而连接。
从供给Ci1供给的氮气流入腔室空间后，从处于第一箱体61的背面的排出Co被排出。另外，从供给Ci1供给的氮气流入腔室空间后，从开口部S1向滑动空间流入，并在滑动空间内与从供给Si供给的氮气汇流。然后，在滑动空间内汇流在一起的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入到箱体空间，并从排出Bo被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧供给的氮气向腔室空间的另一侧泄露的气流和、通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。
在图23中，在第一箱体61的前面连接有多个供给管71，通过多个供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1×n，为供给Ci1×n)。例如，供给Ci1×n相当于图4所示的供给管71a～71c。具体地说，由横向并排连接在一起的三根供给管71a和横向并排连接一起的三根供给管71b构成的、共计6根供给管71被连接在第一箱体61的前面。这些供给管71以与参照图6说明的结构同样的连接方式而连接。此外，也可以在上述6根供给管71加上供给管71c而与第一箱体61的前面相连接。
在第一箱体61的背面连接有多个排气管72，通过多个排气管72排出腔室空间内的气体(图示箭头Co×n；为排出Co×n)。例如，共计6根排气管72和与第一箱体61的前面连接的供给管71同样地与第一箱体61的背面相连接。此外，关于与第一箱体61的背面连接的多个排气管72，以与参照图4所说明的结构同样的连接方式而连接，以下也是同样。另外，在第二箱体62的背面连接有排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；为排出Bo)。进而，在第三箱体63的背面连接有排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So，为排出So)。
从供给Ci1×n供给的氮气流入腔室空间后，从处于第一箱体61的背面的排出Co×n被排出。另外，从供给Ci1×n供给的氮气流入腔室空间后，从开口部S1向滑动空间流入。并且，流入滑动空间内的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入箱体空间，并从排出Bo被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧的多处供给的氮气向腔室空间的另一侧的多处泄露的气流和、通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。这样，在图23所示的连接状态，由于一边通过多个供气管向腔室空间供给氮气一边直接从多个排气管排出腔室空间内的气体，所以向腔室空间内流入或从腔室空间被排出的气体量变多，在腔室空间内的气体被置换成氮气环境的速度进而加快。也就是，由于在图4所示的点C的氧气浓度的下降也快速地被进行，所以能够缩短图8所示的到达时间。
在图24中，在第一箱体61的前面连接有多个供给管71，通过多个供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1×n；为供给Ci1×n)。进而，在第三箱体63的前面连接有供给管71，通过供给管71向滑动空间供给氮气(图示箭头Si；为供给Si)。在第一箱体61的背面连接有多个排气管72，通过多个排气管72排出腔室空间内的气体(图示箭头Co×n；为排出Co×n)。此外，在第二箱体62的背面连接有排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；为排出Bo)。进而，在第三箱体63的背面连接有排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So，为排出So)。此外，在图24所示的Ci1×n以及排出Co×n，与图23所示的连接状态相同，图24所示的连接状态是相对于图23所示的连接状态是追加了供给Si的状态。
从供给Ci1×n供给的氮气流入腔室空间后，从处于第一箱体61的背面的排出Co×n被排出。另外，从供给Ci1×n供给的氮气流入腔室空间后，从开口部S1向滑动空间流入，并在滑动空间内与从供给Si供给的氮气汇流。然后，在滑动空间内汇流在一起的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入箱体空间，并从排出Bo被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧的多处供给的氮气向腔室空间的另一侧的多处泄露的气流和、通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。
在图25中，在第一箱体61的前面上部和背面上部分别连接有供给管71，通过两个供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci1u、Ci2u；为供给Ci1u、Ci2u)。进而，在第三箱体63的前面连接有供给管71，通过供给管71向滑动空间供给氮气(图示箭头Si；为供给Si)。另外，在第一箱体61的前面底部附近和背面底部附近分别连接有排气管72，通过两个排气管72排出腔室空间的气体(图示箭头Co1d、Cod2；为排出Co1d、Co2d)。在第二箱体62的背面连接有排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；为排出Bo)。进而，在第三箱体63的背面连接有排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So，为排出So)。在图17所示的连接状态，设置有三处供给口，但是以与参照图6说明的结构同样的连接方式而连接。
从供给Ci1u和Ci2u供给的氮气流入腔室空间内后而从排出Co1d和Co2d被排出。另外，从供给Ci1u和Ci2u供给的氮气在腔室空间内汇流在一起而从开口部S1流入滑动空间，并在该滑动空间内与从供给Si供给的氮气汇流。然后，在滑动空间内汇流在一起的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入箱体空间，并从排出Bo被排出。因此，在该连接状态，形成有从腔室空间的一侧以及另一侧分别供给的氮气，向腔室空间的一侧泄露的气流、向腔室空间的另一侧的多处泄露的气流、和通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。在图25所示的连接状态，从腔室空间进行排气的排气管72被设置在第一箱体61的底部。因此，能够将落下至腔室空间内的粉尘向腔室空间外排出，也能够期待作为腔室空间内的粉尘对策的效果。
这样，本发明的涂布装置对包括喷嘴喷出涂布液的空间以及输送涂布了涂布液的基板(涂布部位)的空间的涂布空间，局部地供给氮气，在低氧气环境中进行涂布液的涂布，从而防止在涂布处理中的涂布液的氧化。因此，因为将所限定的空间置换成低氧气环境，所以能够抑制为置换而供给的氮气等的消耗量。另外，通过调整空间内的流体平衡，不需要将箱体自身做成完全密闭结构，所以装置自身的结构也变简单。另外，因为使所限定范围的空间置成为低氧气环境，所以能够排除因人进入该空间而引起的窒息等危险要素。进而，通过在涂布处理时，使喷嘴等往复移动，能够阻碍局部上的低氧气环境，但是，通过将用于该往复移动的空间也置换成低氧气环境，能够防止在喷嘴动作中的氧气浓度的上升，因此能够确保稳定的品质。
此外，在上述实施方式中，虽然通过由箱体包围而形成了局部成为低氧气环境的空间，但是也可以通过其他结构生成局部环境。以下，参照图26和图27，来说明由其他结构形成局部的低氧气环境的一例。此外，图26是由隔板64形成局部的低氧环境的涂布装置1的主视图。图27是表示由隔板64所设置的局部环境生成机构的概略机构的侧剖视图。
在图26和图27中，涂布装置1由隔板64将设置有基板装载装置2的空间和设置有有机EL涂布机构5的空间隔开。隔板64，除了喷嘴52向基板P侧突出而往复移动用的开口部S4，以隔开上述两个空间的方式设置。
在隔板64的前后，连接有用于向隔板64的下部空间供给氮气等惰性气体的供给管71、用于排出隔板64的下部空间的气体的排气管72。在图27的例子中，供给管71与隔板64的Y轴负方向侧(前侧)的下部相连接。另外，排气管72与第二箱体62的Y轴正方向侧(后侧)的下部相连接。这样，在连接了供给管71和排气管72的情况下，形成这样的气流从供给管71供给的氮气向隔板64的下部空间供给并从该下部空间向排气管72排出、或者通过开口部S4向隔板64的上部空间流出。另外，优选在供给口71的开口部设置与图6说明的扩散部同样的扩散部。进而，优选在排气管72的开口部设置冲孔板(punching plate)。
通过一边从供给管71向隔板64的下部空间供给氮气一边从排气管72排出该下部空间的气体，从而该下部空间成为氮气环境而使氧气浓度下降。由此，涂布装置1能够防止向基板P涂布有机EL材料时的氧化。在这里，为了和上述的实施方式同样地防止有机EL材料的氧化，最必须降低氧气浓度的空间是从喷嘴52喷出有机EL材料的空间和涂布后的基板P面被依次向Y轴正方向侧输送的空间(图27所示的点C)。因此和上述实施方式同样地，在使向基板P涂布有机EL材料时的氧气浓度上限为氧气浓度管理值的情况下，可以调整氮气的流动平衡，使得至少在点C的氧气浓度满足氧气浓度管理值。
另外，在上述的实施方式中，具有缩短搬入基板P之后到在点C的氧气浓度下降到氧气浓度管理值以下为止的到达时间的效果优越的实施例、在涂布处理时间中的点C的氧气浓度稳定的效果优越的实施例。具体而言，为了提高前者的效果而要求从腔室空间直接排出，为了提高后者的效果而要求主动地形成从腔室空间通过开口部S1向滑动空间(箱体空间)的气体流动。
另外，在上述的箱体空间和滑动空间所设置的供给管和排气管(即供给Si、排出So、排出Bo)分别可以是多根。若调整上述的流体平衡，无论是1根配管还是多根配管都能得到本发明的效果。
(第五实施方式)下面，参照图28，针对在本发明的第五实施方式的涂布装置1所设置的局部环境生成机构进行说明。在这里，该局部环境生成机构是相对上述的局部环境生成机构设置了氧气浓度检测部88的状态。在该局部环境生成机构中的其他构成要素由于和上述的局部环境生成机构相同，因此对相同的构成要素表上相同的附图标记，省略详细的说明。此外，图28是表示在本发明的第五实施方式的涂布装置1所设置的局部环境生成机构的概略结构的侧剖视图。
在图28的例子中，供给管71与第一箱体61的Y轴负方向侧的壁面(以下将Y轴负方向侧的壁面设为前面)和第三箱体63的前面相连接。在图28的例子中，多个供给管71a～71c与第一箱体61的壁面相连接，供给管71d与第三箱体63的壁面相连接。
另外，排气管72与第一箱体61的Y轴正方向侧的壁面(以下将Y轴正方向侧的壁面记为背面)、第二箱体62的背面、以及第三箱体63的背面相连接。在图28的例子中，多个排气管72a以及72b与第一箱体61的壁面相连接，排气管72d与第二箱体62的壁面相连接，排气管72c与第三箱体63的壁面相连接。
如图28所示，在连接了供给管71和排气管72的情况下，从供给管71a～71c供给的氮气向腔室空间供给并从其背面的排气管72a和72b流出。此外，从供给管71a～71c供给的氮气通过开口部S1而流入到滑动空间，与从供给管71d供给的氮气汇流。然后，汇流在一起的氮气成为从滑动空间的背面的排气管72c流出、或者通过开口部S2流入箱体空间之后从排气管72d流出的气流。
此外，在第一箱体61设置有用于进行基板P的搬入和搬出的投入口611。投入口611通过以旋转轴为中心转动(图示箭头方向)的闸门而可开闭。基板P在投入口611被开放的状态下，由搬送机械手(未图示)搬入腔室空间内，并装载于载物台21上。另外，在通过涂布装置1进行涂布处理时，关闭上述闸门而从外部遮蔽腔室空间。
在连接第一箱体61和供给管71a以及71b的附近、以及连接第三箱体63和供给管71d附近，设置有扩散部73。具体而言，扩散部73被设置在从供给管71a、71b、以及71d流入内部空间的入口附近的该内部空间侧。如图6和图7所示，扩散部73包括扩散板731和整流板732。扩散板731是被固定设置在阻碍从供给管71a、71b、以及71d向上述内部空间流入的氮气的位置的板状构件，在其周围形成有规定的间隙。从供给管71a、71b、以及71d向上述内部空间流入的氮气，因扩散板731阻碍而不会直接地流入上述内部空间，而改向扩散板731的周围方向流动。整流板732是冲孔加工有多个孔的板状构件，相对扩散板731而固定设置在上述内部空间侧。另外，整流板732被配置在从扩散板731的周围流动的氮气的流动路径上。也就是，从供给管71a、71b、以及71d供给的氮气，必定通过在整流板732形成的孔而流入上述内部空间内。因此，在扩散部73中，能够将从供给管71a、71b、以及71d供给的氮气扩散而供给到第一～第三箱体61～63内。
与上述第一例同样地，通过一边从供给管71向第一～第三箱体61～63内供给氮气，一边从排气管72排出第一～第三箱体61～63内的气体，从而第一～第三箱体61～63内部变为氮气环境，内部的氧气浓度下降。由此，涂布装置1能够防止在对基板P涂布有机EL材料时的氧化。在此，为了防止有机EL材料的氧化，只要降低整个腔室空间内的氧气浓度即可。但是，最必须降低氧气浓度的空间是从喷嘴52喷出有机EL材料的空间和涂布后的基板P面依次被输送到Y轴正方向侧的空间(图28所示的点C)。例如，在使向基板P涂布有机EL材料时的氧气浓度上限为氧气浓度管理值(例如为10ppm)的情况下，至少在点C的氧气浓度必须满足氧气浓度管理值。此外，在第一箱体61内，设置有检测出在点C的氧气浓度的氧气浓度检测部88。氧气浓度检测部88将在点C的氧气浓度的检测结果显示在未图示的显示装置而向涂布装置的用户报告，或者将该检测结果输出到涂布装置的控制部(例如控制部3(参照图2))。
在后述的实施例中，滑动空间内或箱体空间内也置换成低氧气环境，或者使从滑动空间内流出的气体不流向上述点C侧，从而防止涂布处理中在上述点C的氧气浓度的上升。
下面，参照图29和图30，针对本发明的第五实施方式的涂布装置1进行说明。第五实施方式是在涂布处理中主动地形成从腔室空间通过开口部S1向滑动空间(箱体空间)的气体流动，而使在点C的氧气浓度稳定的形式。此外，图29是表示在第五实施方式的涂布装置1的氮气流动流的示意图。图30是表示涂布装置1进行涂布处理时的动作的流程图。此外，在图29中，为了简化说明，关于涂布装置1仅图示第一～第三箱体61～63、腔室空间、箱体空间、以及滑动空间进行简化。
在图29中，在第一箱体61的前面连接有多个供给管71，通过多个供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci×n；为供给Ci×n)。并且，在与第一箱体61连接的各供给管71分别设置有阀Vci(设为阀Vci×n)。例如，供给Ci×n相当于图28所示的供给管71a～71c。具体地说，由横向并排连接在一起的三根供给管71a和横向并排连接一起的三根供给管71b构成的、共计6根供给管71与第一箱体61的前面相连接。这些供给管71以参照图6说明的结构相同的连接方式相连接。此外，也可以在上述6根供给管71加上供给管71c而与第一箱体61的前面相连接。进而，在第三箱体63的前面连接着设置有阀Vsi的供给管71，氮气通过供给管71而被供给到滑动空间(图示箭头Si，为供给Si)。例如，供给Si相当于图28所示的供给管71d。
此外，在第一箱体61的背面连接有多个排气管72，通过多个排气管72排出腔室空间内的气体(图示箭头Co×n；为排出Co×n)。并且，在各排气管72分别设置有阀Vco(设为阀Vco×n)。例如，排出Co×n相当于图28所示的排气管72a和72b。例如，和与第一箱体61的前面相连接供给管71同样地、共计6根排气管72与第一箱体61的背面相连接。此外，关于与第一箱体61的背面相连接的多个排气管72，以与参照图28进行说明的结构同样的连接方式而连接。另外，在第二箱体62的背面连接有设置了阀Vbo的排气管72，通过排气管72排出箱体空间内的气体(图示箭头Bo；设为排出Bo)。另外，在第三箱体63的背面连接有设置了阀Vso的排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So；设为排出So)。
接着，参照图29和图30，针对涂布装置1进行涂布处理时的动作进行说明。这些动作可以由涂布装置的控制部(例如，控制部3(参照图2))来进行，也可以由涂布装置的用户进行各动作，也可以按步骤由该控制部或者涂布装置的用户来进行。
首先，开放投入口611(步骤S71)。接着，由搬送机械手等从开放的投入口611搬入基板P，并将基板P装载于载物台21上(步骤S72)。然后，关闭投入口611(步骤S73)，成为从外部遮蔽了腔室空间的空间。
接着，打开阀Vci×n、Vsi、Vco×n、Vbo、以及Vso(步骤S74)。然后，开始从供给管71向第一～第三箱体61～63内供给氮气，并开始向排气管72排出第一～第三箱体61～63内的气体(步骤S75)。然后，基于由氧气浓度检测部88检测的氧气浓度检测结果，等待第一～第三箱体61～63内(例如点C)的氧气浓度到达氧气浓度管理值以下(步骤S76)。
在这里，在步骤S75和S76中从供给Ci×n供给的氮气流入到腔室空间后，从处于第一箱体61的背面的排出Co×n被排出。另外，从供给Ci×n供给的氮气流入到腔室空间后，从开口部S1向滑动空间流入。并且，流入到滑动空间内的氮气与从供给Si供给的氮气汇流。汇流在一起的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入到箱体空间，并从排出Bo被排出。因此，在打开了阀Vci×n、Vsi、Vco×n、Vbo、以及Vso的状态下，形成有从腔室空间的一侧的多处供给的氮气向腔室空间的另一侧的多处泄露的气流和、通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。这样，在打开了阀Vci×n、Vsi、Vco×n、Vbo、以及Vso的状态下，由于一边通过多个供气管向腔室空间供给氮气一边直接地从多个排气管排出腔室空间内的气体，所以向腔室空间内流入或从腔室空间被排出的气体量变多，在腔室空间内的气体被置换成氮气环境的速度加快。也就是，由于在图28所示的点C的氧气浓度的下降也快速地被进行，所以能够缩短图8所示的到达时间。
并且，在第一～第三箱体61～63内的氧气浓度到达氧气浓度管理值以下时(在步骤S76为“是”)，关闭阀Vco×n(阀Vci×n、Vsi、Vbo、以及Vso持续打开状态)(步骤S77)。然后，对基板P进行涂布处理(步骤S78)。此时，在涂布装置的控制部取得了来自氧气浓度检测部88的氧气浓度的检测结果的情况下，该控制部可以使用该检测结果来判断点C的氧气浓度是否在氧气浓度管理值以下。并且，在控制部判断在氧气浓度管理值以下的情况下，关闭阀Vco×n。另一方面，在氧气浓度检测部88将氧气浓度的检测结果显示在显示装置而向涂布装置的用户报告的情况下，被报告的用户关闭阀Vco×n。这样，可以通过涂布装置的控制部自动地进行到达氧气浓度管理值的判定以及阀Vco×n的关闭，也可以由该涂布装置的用户来进行。
在这里，在步骤S78中从供给Ci×n供给的氮气流入到腔室空间后，从开口部S1流入到滑动空间。并且，流入到滑动空间的氮气与从供给Si供给的氮气汇流。汇流在一起的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入到箱体空间，并从排出Bo被排出。因此，在关了了阀Vco×n并打开了阀Vci×n、Vsi、Vbo、以及Vso的状态下，加强形成了从腔室空间的一侧供给的氮气通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。也就是，即使因喷嘴单元50的往复移动而搅拌了滑动空间内的气体，也形成有腔室空间→开口部S1→滑动空间的气体流，因此滑动空间内的气体流出到腔室空间的情况少，也没有从开口部S1向点C方向的气体流动。因此，即使在滑动空间残存有氧气，也能够防止氧气流出到腔室空间(点C)，能够防止图8所示的涂布处理时间中的氧气浓度上升。
在对基板P的涂布处理结束时(在步骤S79为“是”)，停止从供给管71供给氮气，并停止向排气管72排出气体(步骤S80)。接着，开放投入口611(步骤S81)，从开放的投入口611用搬送机械手等搬出被装载于载物台21上的涂布处理后的基板P(步骤S82)。并且，在持续涂布处理的情况下(在步骤83为“是”)，返回到上述步骤S72，反复进行动作。另一方面，在结束涂布处理的情况下(在步骤S83为“否”)，结束该流程图的动作。
如上所述，具有缩短搬入基板P之后到在点C的氧气浓度下降到氧气浓度管理值以下为止的到达时间的效果优越的连接状态、在涂布处理时间中的点C的氧气浓度稳定的效果优越的连接状态。具体而言，为了提高前者的效果而要求从腔室空间直接排出，为了提高后者的效果而要求主动地形成从腔室空间通过开口部S1向滑动空间(箱体空间)的气体流动、或者没有从开口部S1向点C的气体流动。因此，在上述的动作中，为了使这些效果并存而组合使用多个连接状态。
这样，第五实施方式的涂布装置对包括喷嘴喷出涂布液的空间以及输送涂布了涂布液的基板(涂布部位)的空间的涂布空间局部地供给氮气，在低氧气环境中进行涂布液的涂布，从而防止在涂布处理中的涂布液的氧化。因此，因为将所限定的空间置换成低氧气环境，所以能够抑制为置换而供给的氮气等的消耗量。另外，该涂布装置通过切换缩短搬入基板P之后到在点C的氧气浓度下降到氧气浓度管理值以下为止的到达时间的效果优越的连接状态、在涂布处理时间中的点C的氧气浓度稳定的效果优越的连接状态，从而使两者的效果并存。
(第六实施方式)下面，参照图31～图33，针对在本发明的第六实施方式的涂布装置1进行说明。此外，图31是表示在第六实施方式的涂布装置1所设置的局部环境生成机构的概略结构的侧剖视图。图32是表示的背面侧气体供给部75的概略结构的立体图。图33是表示在该涂布装置1中的氮气流动流的示意图。在图33中，为了简化说明，对涂布装置1仅图示第一～第三箱体61～63、背面侧气体供给部75、腔室空间、箱体空间、以及滑动空间而进行简化。此外，第六实施方式是相对第五实施方式还设置背面侧气体供给部75及向该背面侧气体供给部75供给气体的供给系统，从而能够主动地形成从点C的背面侧向开口部S1的气体流动，使点C的氧气浓度稳定的方式。第六实施方式中的其他结构要素，由于与上述的第五实施方式相同，因此对相同的构成要素标上相同的附图标记，省略详细的说明。
在图31中，背面侧气体供给部75被固定设置在第一箱体61的内部。并且，在背面侧气体供给部75连接有与其他供给管71a～71d同样地供给氮气的供给管71e。基板装载装置2伴随涂布处理而向图示Y轴正方向侧移动时(图31的状态)，背面侧气体供给部75被固定设置在与装载了基板P的载物台21上表面接近的位置。
如图32所示，背面侧气体供给部75具有框体751、扩散板752、以及整流板753。此外，图32省略框体751的上表面而表示其内部结构。框体751是第一箱体61的上表面内部的在X轴方向延伸设置的中空长尺状物体，其一部分由整流板753构成。并且，至少1根供给管71e(在图32中为3根)与框体751相连接，从供给管71e向框体751内部供给氮气。扩散板752是被固定设置在阻碍从供给管71e流入框体751内部的氮气的位置的板状构件，在其周围形成有规定的间隙。从供给管71e流入到框体751内部的氮气因扩散板752而被阻碍，不会直接地流入到框体751内部，而会改向扩散板752的周围流动。整流板753是冲孔加工有多个孔的板状构件，形成框体751的Y轴负方向侧(也就是前面侧)侧面。
框体751的长度尺寸(也就是整流板753的长边宽度)大于等于载物台21的X轴方向的宽度。另外，框体751的高度尺寸(也就是整流板753的短边宽度)大于等于在点C的载物台21与第一箱体61上表面的间隙。因此，通过将背面侧气体供给部75固定设置在与载物台21上表面接近的第一箱体61内部上表面，从而被供给到框体751内部的氮气通过在整流板732形成的孔而在点C向Y轴负方向流动。例如，如图31所示，在基板装载装置2伴随涂布处理向图示Y轴正方向侧移动时，从背面侧气体供给部75供给的氮气，沿着被装载于载物台21上的涂布后的基板P的上表面向开口部S1侧流动。另外，即使基板装载装置2不向Y轴正方向侧移动，从背面侧气体供给部75供给的氮气也从背面侧通过点C而向开口部S1侧流动。也就是，从背面侧气体供给部75供给的氮气形成局部地被供给到腔室空间内的点C并向开口部S1侧的气流。
在图33中，在背面侧气体供给部75连接有供给管71，通过供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Cir；设为供给Cir)。并且，在与背面侧气体供给部75相连接的供给管71设置有阀Vcir(设为阀Vcir)。例如，供给Cir相当于图31所示的供给管71e。关于其他的供给以及排气，由于与使用图29说明的第五实施方式相同，故省略详细的说明。
接着，针对第六实施方式的涂布装置1进行涂布处理时的动作进行说明。首先，与第五实施方式同样地，从投入口611搬入基板P，并将基板P装载于载物台21上。然后，关闭投入口611，成为从外部遮蔽了腔室空间的空间。
接着，打开阀Vci×n、Vsi、Vcir、Vco×n、Vbo、以及Vso。然后，开始从供给管71向第一～第三箱体61～63内供给氮气，并开始向排气管72排出第一～第三箱体61～63内的气体。此时，将氮气也从背面侧气体供给部75向点C局部地供给(供给Cir)。然后，基于由氧气浓度检测部88检测的氧气浓度检测结果，等待第一～第三箱体61～63内(例如点C)的氧气浓度到达氧气浓度管理值以下。
在这里，从供给Ci×n供给的氮气流入到腔室空间后，与从供给Cir供给的氮气汇流。并且，在腔室空间内汇流在一起的氮气从处于第一箱体61的背面的排出Co×n被排出。另外，在腔室空间内汇流在一起的氮气从开口部S1流入到滑动空间。然后，流入到滑动空间的氮气和从供给Si供给的氮气汇流。在滑动空间内汇流在一起的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入到箱体空间，并从排出Bo被排出。因此，在打开了阀Vci×n、Vsi、Vcir、Vco×n、Vbo、以及Vso的状态下，形成有从腔室空间的前面侧以及背面侧的多处分别供给的氮气向腔室空间的背面侧的多处泄露的气流和、通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。这样，在打开了阀Vci×n、Vsi、Vcir、Vco×n、Vbo、以及Vso的状态下，由于一边通过多个供气管向腔室空间供给氮气一边直接地从多个排气管排出腔室空间内的气体，所以向腔室空间内流入或从腔室空间被排出的气体量变多，在腔室空间内的气体被置换成氮气环境的速度加快。也就是，由于在图31所示的点C的氧气浓度的下降也快速地被进行，所以能够缩短图8所示的到达时间。
并且，在第一～第三箱体61～63内的氧气浓度到达氧气浓度管理值以下时，关闭阀Vco×n(阀Vci×n、Vsi、Vcir、Vbo、以及Vso持续打开状态)。然后，对基板P进行涂布处理。此时，与上述的第五实施方式同样地，在涂布装置的控制部取得了来自氧气浓度检测部88的氧气浓度的检测结果的情况下，该控制部可以使用该检测结果来判断点C的氧气浓度是否在氧气浓度管理值以下。并且，在控制部判断在氧气浓度管理值以下的情况下，关闭阀Vco×n。另一方面，在氧气浓度检测部88将氧气浓度的检测结果显示在显示装置而向涂布装置的用户报告的情况下，被报告的用户关闭阀Vco×n。这样，可以通过涂布装置的控制部自动地进行到达氧气浓度管理值的判定以及阀Vco×n的关闭，也可以由该涂布装置的用户来进行。
在这里，从供给Ci×n供给的氮气流入到腔室空间后，从开口部S1流入到滑动空间。并且，另外，从供给Cir供给的氮气在腔室空间的点C流动后，从开口部S1流入到滑动空间。并且，流入到滑动空间的氮气与从供给Si供给的氮气汇流。汇流在一起的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入到箱体空间，并从排出Bo被排出。因此，在关闭了阀Vco×n并打开了阀Vci×n、Vsi、Vcir、Vbo、以及Vso的状态下，加强形成有从供给Ci×n供给的氮气通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。另外，也形成有从供给Cir供给的氮气从点C通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。也就是，即使因喷嘴单元50的往复移动而搅拌了滑动空间内的气体，也形成有腔室空间→开口部S1→滑动空间的气体流，因此滑动空间内的气体流出到腔室空间的情况少。另外，即使在滑动空间内的气体流出到腔室空间的请况下，也形成有从点C向开口部S1的氮气的气流，来自滑动空间的气体在腔室空间的前面方向、即在装载有涂布前的基板P的方向流动。因此，即使在滑动空间残存有氧气，也能够防止氧气流到点C，能够防止图8所示的涂布处理时间中的氧气浓度上升。也就是，能够防止涂布在基板P之后的涂布液氧化。
这样，在第六实施方式中，除了第五实施方式的效果，还能够防止涂布处理中的点C的氧气浓度的上升。此外，在上述的动作中，总是从背面侧气体供给部75供给氮气，但是也可以仅在涂布动作的一部分的期间从背面侧气体供给部75供给氮气。若至少在对基板P的涂布处理中从背面侧气体供给部75向点C供给氮气，则在其他期间也可以关闭阀Vcir。
另外，如图34所示，也可以在第一箱体61的底面附近设置排气。在图34中，在第一箱体61的前面侧底部附近还连接有排气管72，通过排气管72排出腔室空间内的气体(图示箭头Cou；设为排出Cou)。并且，在与第一箱体61的前面侧底部附近连接的排气管72设置有阀Vcou(设为阀Vcou)。
在涂布处理前关闭了阀Vci×n、Vsi、Vcir、Vco×n、Vcou、Vbo、以及Vso的情况下，从供给Ci×n供给的氮气流入到腔室空间并与从供给Cir供给的氮气汇流后，从处于第一箱体61的背面的排出Co×n和Cou被排出。另外，在腔室空间内汇流在一起的氮气从开口部S1流入到滑动空间。然后，流入到滑动空间内的氮气与从供给Si供给的氮气汇流。在滑动空间内汇流的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入到箱体空间并从排出Bo被排出。因此，形成有在涂布处理前腔室空间内的气体从在该腔室空间的底部所设置的排出Cou被排出的气流。因此，除了上述效果，能够将落下至腔室空间内的粉尘排出到腔室空间外，并能够期待作为腔室空间内的粉尘对策的效果。
另一方面，在涂布处理中关闭了阀Vco×n以及打开了阀Vci×n、Vsi、Vcir、Vcou、Vbo、以及Vso的情况下，从供给Ci×n供给的氮气流入到腔室空间后，从开口部S1流入滑动空间或者从排出口Cou被排出。另外，从供给Cir供给的氮气流过腔室空间的点C后，从开口部S1流入到滑动空间。并且，流入滑动空间的氮气和从供给Si供给的氮气汇流。汇流在一起的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入到箱体空间并从排出Bo被排出。因此，在关闭了阀Vco×n以及打开了阀Vci×n、Vsi、Vcir、Vcou、Vbo、以及Vso的状态下，形成有从供给Ci×n供给的氮气从排出Cou排出的气流，但是比涂布处理前更强地形成通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。另外，也形成有从供给Cir供给的氮气从点C通过开口部S1向滑动空间泄露的气流。即使是设置了排出Cou也形成有腔室空间→开口部S1→滑动空间的气体流，因此滑动空间内的气体流出到腔室空间的情况少。另外，即使在滑动空间内的气体流到了腔室空间的情况下，也形成有从点C向开口部S1的氮气的气流，流出的气体流向腔室空间前方并从排出Cou被排出。也就是，由于从滑动空间流出的气体不向涂布处理中和涂布处理后的涂布液存在的空间(相比开口部S1为Y轴正方向侧的腔室空间后方)流动，因此来自滑动空间的气体在腔室空间的前面方向、即装载有涂布前的基板P的方向流动。因此，即使在滑动空间残存有氧气，也能够防止氧气流到点C，能够防止图8所示的涂布处理时间中的氧气浓度上升。也就是，能够防止涂布在基板P后的涂布液氧化。另外，在涂布处理中也形成有腔室空间内的气体从在该腔室空间的底部所设置的排出Cou被排出的气流，因此，能够在涂布处理中将落下至腔室空间内的粉尘向腔室空间外排出，也能够期待作为腔室空间内的粉尘对策的效果。
此外，在上述的第五和第六实施方式中的箱体空间或滑动空间所设置的供给管以及排气管(即，供给Si、排出So、排出Bo)分别有多根。另外，在腔室空间所设置的供给管以及排气管(即，供给Ci×n、排出Co×n)可以分别是1根的配管。若调整上述的流体平衡，则无论是1根配管还是多根配管都能够得到本发明的效果。
另外，上述的第五以及第六实施方式中的滑动空间所设置的供给管(即，供给Si)也可以不设置。在没有供给Si的情况下，只是在滑动空间汇流的氮气消失，不言而喻，若调整上述的流体平衡，则能得到同样的效果。
另外，可以省略上述的第五以及第六实施方式中的第三箱体63、排出So、以及供给Si。也就是，有机EL涂布机构5被设置在由第二箱体62包围的箱体空间内。此时，关于涂布处理前，被供给到腔室空间的氮气从排出Co×n被排出、或者向开口部S1→箱体空间流动并从排出Bo被排出。另外，关于涂布处理中，被供给到腔室空间的氮气向开口部S1→箱体空间流动并从排出Bo被排出。也就是，即使不设置第三箱体63、排出So、以及供给Si，也形成有被供给到腔室空间的氮气通过开口部S1向箱体空间泄露的气流。也就是，即使通过喷嘴单元50的往复移动搅拌了箱体空间内的气体，也形成有腔室空间→开口部S1→箱体空间的气体流，因此箱体空间内的气体流出到腔室空间的情况少。因此，即使在箱体空间残存有氧气，也能够防止氧气流出到腔室空间。
另外，在上述步骤S76等的动作中，表示了等待由氧气浓度检测部88检测的氧气浓度检测结果表示氧气浓度管理值以下，然后开始涂布处理的顺序，但是也可以用其他方法开始涂布处理。例如，预先调查向涂布装置供给的氮气的流量或压力和点C为氧气浓度管理值以下的到达时间(图8)的关系。然后，采用实际上供给的氮气的流量或压力和供给时间，也可以进行在点C的氧气浓度管理。此时，在开始氮气的供给后等待经过规定的时间(到达时间)，然后开始涂布处理。
(第七实施方式)参照图35～图38，针对在本发明的第七实施方式的涂布装置1所设置的局部环境生成机构进行说明。此外，图35是表示该局部环境生成机构的概略结构的俯视图。图36是表示该局部环境生成机构的概略结构的侧剖视图。图37是切掉其前面一部分来表示第三箱体63的外观的立体图。图38是表示第三箱体63内部的概略结构的侧剖视图。图6是表示氮气投入口的结构。此外，对与上述的局部环境生成机构同样的结构要素标上相同的附图标记，省略详细的说明。
在图35～图38中，涂布装置1由第一箱体61、第二箱体62、以及第三箱体63分别从外部被遮蔽而设置。第一箱体61以包围基板装载装置2在图示Y轴方向进行往复移动的空间(以下记为腔室空间)来从外部进行遮蔽的方式而被设置。另外，第一箱体61，除了喷嘴52向腔室空间突出来进行往复移动用的开口部S1，以隔开腔室空间和设置有有机EL涂布机构5的空间之间的方式而被设置。
第三箱体63包括设置有有机EL涂布机构5的空间，包围喷嘴单元50等在图示X轴方向进行往复移动的空间(以下记为滑动空间)而被设置。此外，第三箱体63也形成有喷嘴52从滑动空间向腔室空间突出进行往复移动用的开口部S1(参照图37和图38)。此外，在第七实施方式中，在第三箱体63中沿Z轴方向竖立设置的Y轴负方向侧的壁面(以下将Y轴负方向侧的壁面设为前面)形成有开口部S1。并且，在开口部S1的上部的第三箱体63前面内壁设置有气体膜生成机构9。另外，在第三箱体63的上表面形成有用于让配管(未图示)通过的开口部S2，该配管用于从第一～第三供给部54a～54c将有机EL材料分别供给到喷嘴52a～52c。在喷嘴单元50设置有静压轴承的情况下，用于向该静压轴承供给气体的配管也通过在第三箱体63的侧壁所形成的开口而被连接。
第二箱体62包围第一箱体61的上部空间而被设置。在第二箱体62的内部设置有有机EL涂布机构5以及第三箱体63，在第二箱体62也形成有喷嘴52从滑动空间向腔室空间突出进行往复移动用的开口部S1。此外，将由第二箱体62包围的空间内、除了滑动空间的空间记为箱体空间。这样，涂布装置1通过第一～第三箱体61～63被隔开而分别设置成腔室空间、滑动空间、以及箱体空间。此外，第一～第三箱体61～63都形成有上表面，但是，在图35中为了容易理解与内部的关系，省略上表面和下表面，在斜线或者交线区域仅表示侧壁。
在第一～第三箱体61～63，连接有用于向其内部空间供给氮气等惰性气体(以下仅记为氮气)的供给管71、和用于排出其内部空间的气体的排气管72。在本实施例中，供给管71与在第一箱体61的前面和第三箱体63所设置的气体膜生成机构9相连接。在图36的例子中，多个供给管71a～71c与第一箱体61的壁面相连接，供给管71d与第三箱体63的气体膜生成机构9相连接。此外，在图35中省略了供给管71d。
另外，排气管72与第二箱体62的Y轴正方向侧的壁面(以下，将Y轴正方向侧的壁面记为背面)以及第三箱体63的背面相连接。在图36的例子中，排气管72d与第二箱体62的壁面相连接，排气管72c与第三箱体63的壁面相连接。此外，在图35中省略了排气管72c。
如图36所示，在连接了供给管71和排气管72的情况下，从供给管71a～71c供给的氮气被供给到腔室空间，通过开口部S1而流入到滑动空间。并且，流入到滑动空间的氮气，与从供给管71d向气体膜生成机构9供给的氮气汇流。然后，汇流在一起的氮气成为从滑动空间的背面的排气管72c流出、或者通过开口部S2流入到箱体空间之后，从排气管72d流出的气流。
如图36～图38所示，气体膜生成机构9生成像遮盖在第三箱体63上形成的整个开口部S1那样的气体膜(图38所示的NC)。具体地说，由于喷嘴52从开口部S1向腔室空间突出并在X轴方向往复移动，因此开口部S1形成为以X轴方向为长轴方向的狭缝状。并且，气体膜生成机构9与开口部S1同样地在X轴方向延伸设置，生成从开口部S1的上部向Z轴负方向流动的气体膜。在气体膜生成机构9形成有在开口部S1的整个上部向Z轴负方向开口的狭缝状的喷射口，从该喷射口呈带状地喷射出气体。优选气体膜生成机构9被设置在第三箱体63的内部。
在此，如上所述，在气体膜生成机构9连接有供给管71d，从气体膜生成机构9的喷射口喷射的气体是从供给管71d供给的氮气。因此，以遮盖开口部S1的方式生成的气体膜严格来说并不是空气的膜而是由氮气等惰性气体构成的带状的气体膜。在以下的说明中，将气体膜生成机构9生成的氮气的膜记为氮气帘NC。
从气体膜生成机构9喷射的氮气帘NC这样生成以遮盖开口部S1的方式沿着第三箱体63的前面相对该开口部S1通过第三箱体63的内侧后，碰撞第三箱体63的内部底面。在这里，第三箱体63包围的滑动空间内的气体从与其背面相连接的排气管72c流出、或者通过开口部S2流入到箱体空间后，从排气管72d流出。也就是，氮气帘NC的氮气气流与第三箱体63的内部底面碰撞后，流向该第三箱体63的背面侧、或者流向该第三箱体63的上表面侧。因此，氮气帘NC的氮气气流从开口部S1向腔室空间流出的情况少。
另外，如上所述，有机EL涂布机构5所包含的喷嘴移动机构部51使喷嘴单元50沿着导向构件511在X轴方向往复移动。喷嘴移动机构部51例如具有一对带轮和驱动带(未图示)。一对带轮被设置在导向构件511的两端附近，在该带轮之间沿着X轴方向架设有驱动带。并且，喷嘴单元50与驱动带的一部分相连接。也就是，喷嘴移动机构部51当根据一侧的带轮的旋转而使驱动带转动时，根据该驱动带的移动喷嘴单元50也沿着导向构件511在X轴方向往复移动。这样，喷嘴移动机构部51在使喷嘴单元50进行往复移动时，因带轮和驱动带的接触而成为发尘源。另外，在使用其他驱动方式使喷嘴单元50往复移动的情况下，因机械方面的接触等，喷嘴移动机构部51成为发尘源的情况较多。但是，喷嘴移动机构部51，除了开口部S1和S2，由第三箱体63包围，因此第三箱体63也具有防止在喷嘴移动机构部51产生的粉尘向腔室空间流出的功能。另外，在第三箱体63包围的滑动空间内产生的粉尘因被氮气帘NC遮挡而不会从开口部S1向腔室空间流出。
接着，参照图39，针对第七实施方式的涂布装置1中的氮气流动流和处理动作进行说明。此外，图39是表示第七实施方式的涂布装置1中的氮气流动流的示意图。此外，在图39中，为了简化说明，关于涂布装置1，仅图示第一～第三箱体61～63、腔室空间、箱体空间、以及滑动空间进行简化。
在图39中，在第一箱体61的前面连接有多个供给管71，通过多个供给管71向腔室空间供给氮气(图示箭头Ci×n，为供给Ci×n)。例如，供给Ci×n相当于图36所示的供给管71a～71c。具体地说，由横向并排连接在一起的三根供给管71a和横向并排连接一起的三根供给管71b构成的、共计6根供给管71与第一箱体61的前面相连接。这些供给管71以与参照图6说明的结构同样的连接方法而连接。此外，也可以在上述6根供给管71加上供给管71c而与第一箱体61的前面相连接。进而，在第三箱体63的前面连接有供给管71，从供给管71隔着气体膜生成机构9向滑动空间供给氮气(图示箭头NCi；为供给NCi)。例如，供给NCi相当于图36所示的供给管71d以及气体膜生成机构9。
另外，在第二箱体62的背面连接有排气管72，箱体空间内的气体经由排气管72被排出(图示箭头Bo；为排出Bo)。另外，在第三箱体63的背面连接有排气管72，通过排气管72排出滑动空间内的气体(图示箭头So，为排出So)。此外，关于连接在第二箱体62和第三箱体63的背面上的多个排气管72，以与参照图36说明的结构同样的连接方式而连接。
从供给Ci×n供给的氮气流入到腔室空间后，与从供给NCi供给的氮气汇流而从开口部S1向滑动空间流入。然后，流入到滑动空间内的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入箱体空间并从排出Bo被排出。因此，形成有从腔室空间的一侧的多处供给的氮气通过开口部S1分别向滑动空间泄漏的气流。这样，一边通过多个供给管向腔室空间供给氮气一边通过开口部S1从箱体空间或者滑动空间的排气管排出，因此腔室空间、滑动空间以及箱体空间内的气体被置换成氮气环境。并且，由于在图36所示的点C的氧气浓度也下降，所以等待该氧气浓度到达氧气浓度管理值。
并且，在第一～第三箱体61～63内(具体地说，点C)的氧气浓度到达氧气浓度管理值以下时，开始对基板P的涂部处理。此时，由于持续对涂布装置1的氮气的供给和气体的排出，所以从供给Ci×n供给的氮气流入到腔室空间后，与从供给NCi供给的氮气汇流而从开口部S1向滑动空间流入。然后，流入到滑动空间内的氮气从排出So被排出、或者从开口部S2流入箱体空间并从排出Bo被排出。因此，形成有从腔室空间的一侧供给的氮气通过开口部S1向滑动空间泄漏的气流。也就是，即使通过喷嘴单元50的往复移动而搅拌了滑动空间内的气体，也形成有腔室空间→开口部S1→滑动空间的气体流，因此滑动空间内的气体流到腔室空间的情况少，因此，气体也不会从开口部S1向点C的方向流动。另外，由于以遮盖开口部S1的方式形成有氮气帘NC，因此滑动空间内的气体不会流到腔室空间。因此，即使在滑动空间残存有氧气，也能够防止氧气流出到腔室空间(点C)，能够防止图8所示的涂布处理时间中的氧气浓度上升。
另外，如上所述，喷嘴移动机构部51通过使喷嘴单元50往复移动而成为发尘源，有时会在滑动空间内产生粉尘。但是，因为由气体膜生成机构9生成的氮气帘NC遮盖开口部S1，所以滑动空间内的粉尘不会流出到腔室空间。因此，在对基板S的涂布处理中，能够防止异物从滑动空间落下至基板S上。另外，开口部S1以横贯载物台21的方向为长尺寸方向而形成在第三箱体63的侧面，但是通过在成为开口部S1的短尺寸方向的上下方向生成气流流动的氮气帘NC，从而能够有效地遮盖开口部S1。
此外，在该实施方式中，以气体膜生成机构9在开口部S1的上部的X轴方向延伸设置，并形成向Z轴负方向流动的氮气帘NC为例进行了说明，但是，也可以生成向其他方向流动的氮气帘NC。例如，可以使气体膜生成机构9在开口部S1的下部的X轴方向延伸设置，生成向Z轴正方向流动的氮气帘NC。另外，将气体膜生成机构9设置在了第三箱体63的内部，但是，若生成像遮盖在第三箱体63形成的开口部S1那样的氮气帘NC，则也可以设置在第三箱体63的外部。
(第八实施方式)以下，参照图40和图41，针对在本发明的第八实施方式的涂布装置1所设置的局部环境生成机构进行说明。图40是表示该局部环境生成机构的概略结构的侧剖视图。图41是表示第三箱体63内部的概略结构的侧剖视图。此外，第八实施方式相对上述的第七实施方式，开口部S1的形成方向和气体膜生成机构9的设置方向不同，其它结构要素和第七实施方式同样。因此，在第八实施方式中，对与第七实施方式同样的结构要素标上相同的附图标记，省略详细的说明。
在图40和图41中，开口部S1形成在第三箱体63的底面，喷嘴52从该开口部S1向腔室空间突出而进行往复移动。也就是，喷嘴单元52向第三箱体63的下方突出。并且，第三箱体63除去开口部S1和开口部S2以包围有机EL涂布机构5的方式而被设置。气体膜生成机构9设置在开口部S1的Y轴负方向侧(是图40所示的右侧，前面侧)的第三箱体63底面内壁。并且，供给管71d与第三箱体63的气体膜生成机构9相连接。
气体膜生成机构9生成遮盖在第三箱体63的底面形成的整个开口部S1那样的氮气帘NC。具体而言，由于喷嘴52从开口部S1向腔室空间突出而在X轴方向往复移动，所以开口部S1与第七实施方式同样地形成为以X轴方向为长轴方向的狭缝状。并且，气体膜生成机构9与开口部S1同样地在X轴方向延伸设置，而生成从开口部S1的前面侧向Y轴正方向流动的氮气帘NC。在气体膜生成机构9形成有在开口部S1的整个前面侧向Y轴正方向开口的狭缝状的喷射口，从该喷射口呈带状地喷射出气体。优选气体膜生成机构9被设置在第三箱体63的内部。
从气体膜生成机构9喷射的氮气帘NC以遮盖开口部S1的方式，沿着第三箱体63的底面相对该开口部S1通过了第三箱体63的内侧后，向第三箱体63的后面侧流动。在这里，第三箱体63包围的滑动空间内的气体从与其背面相连接的排气管72c流出、或者通过开口部S2流入到箱体空间后，从排出管72d流出。也就是，氮气帘NC的氮气气流流到第三箱体63的后面侧后从排气管72c流出、或者通过开口部S2流入箱体空间。也就是，氮气帘NC的氮气气流，即使是在底面形成的开口部S1，也不会从该开口部S1向腔室空间流出。因此，根据第八实施方式的气体膜生成机构9，滑动空间内的粉尘不会向腔室空间流出，在对基板S的涂布处理中，能够防止异物从滑动空间落下至基板S上。另外，根据第八实施方式的气体膜生成机构9，在涂布处理中气体不会从滑动空间流出到腔室空间，能够防止涂布处理时间中的氧气浓度的上升。另外，开口部S1以横跨载物台21的方向为长尺寸方向而形成在第三箱体63的底面，但是，通过生成在成为开口部S1的短尺寸方向的水平方向气流流动的氮气帘NC，能够有效地遮盖开口部S1。
此外，在第八实施方式中，以气体膜生成机构9在开口部S1的前面侧的X轴方向延伸设置，并形成向Y轴正方向流动的氮气帘NC为例进行了说明，但是也可以生成向其他方向流动的氮气帘NC。例如，可以使气体膜生成机构9在开口部S1的后面侧的X轴方向延伸设置，而生成向Y轴负方向流动的氮气帘NC。另外，将气体膜生成机构9设置在了第三箱体63的内部，但是，若生成像遮盖在第三箱体63形成的开口部S1那样的氮气帘NC，则也可以设置在第三箱体63的外部。
另外，采用通过向气体膜生成机构9供给氮气等惰性气体而得到从该喷射口喷射该惰性气体使滑动空间内部的氧气浓度下降的效果这样的方式进行了说明，但是在不期待这种效果的情况下，可以从气体膜生成机构9的喷射其它气体。例如，通过从气体膜生成机构9的喷射口呈带状地喷射空气，从而形成遮盖开口部S1的空气膜(气体帘)。由此，能够得到防止滑动空间内的粉尘流出到腔室空间的效果，能够防止在对基板S进行涂布处理中异物从滑动空间落下至基板S上。
另外，在上述的第七以及第八实施方式的箱体空间和滑动空间所设置的供给管以及排气管(即，供给Ci×n、供给NCi、排出So、排出Bo)无论分别为多根还是1根都可以。若调整上述那样的流体平衡，则无论是1根配管还是多根配管都能得到本发明的效果。
另外，相对在上述的第七以及第八实施方式中的滑动空间和箱体空间，除了用于向气体膜生成机构9供给氮气的供给管71d，还可以设置其它供给管。通过增加向滑动空间和箱体空间的氮气供给，从而仅是在滑动空间和箱体空间汇流在一起的氮气量增加，若调整上述的气体平衡，则得到同样的效果是不言而喻的。另外，也可以将直接排出腔室空间内的气体的排气管设置在第一箱体61。因此，由于腔室空间内的气体直接地被置换成氮气环境，所以能够期待整个腔室空间被置换成氮气环境的速度加快(在图8的到达时间变短)的效果。
另外，也可以省略上述的第七和第八实施方式中的第二箱体62以及排出Bo。也就是，有机EL涂布机构5仅由第三箱体63包围而被设置。此时，被供给到腔室空间的氮气在开口部S1附近和供给NCi汇流在一起而从排出So或者开口部S2被排出。也就是，即使不设置第二箱体62和排出Bo，也形成有被供给到腔室空间的氮气通过开口部S1泄漏到滑动空间的气流。另外，即使通过喷嘴单元50的往复移动而搅拌了滑动空间内的气体，也因氮气帘NC，滑动空间内的粉尘不会流出到腔室空间，在对基板S进行涂布处理中能够防止异物从滑动空间内的落下至基板S上。另外，因氮气帘NC，在涂布处理中气体不会从滑动空间向腔室空间流出，能够防止涂布处理时间中的氧气浓度的上升。
进而，在仅期待通过喷嘴单元50的往复移动来防止滑动空间内的粉尘落下至基板S上的情况下，可以省略上述第七和第八实施方式中的第一箱体61、第二箱体62、供给Ci×n、以及排出Bo，而从气体膜生成机构9喷出其它气体。也就是，有机EL涂布机构5仅由第三箱体63包围而被设置，没有从外部遮蔽基板装载装置2等其他机构。并且，从气体膜生成机构9的喷射口呈带状喷射空气，从而形成遮盖开口部S1的空气膜(气体帘)。此时，即使通过喷嘴单元50的往复移动来搅拌滑动空间内的气体也能得到防止滑动空间内的粉尘落下至腔室空间流出的效果，能够防止在对基板S进行涂布处理中异物从滑动空间落下至基板S上。
(第九实施方式)下面，参照图42～图45，对在本发明的第九实施方式的涂布装置1所设置的局部环境生成机构来说明概要。在这里，如上所述，有机EL材料因氧化而导致品质恶化，所以在对基板涂布有机EL材料时，需要防止有机EL材料的氧化。因此，在本实施方式中，为了管理基板P周围的氧气浓度，有机EL涂布机构5具有局部环境生成机构。以下，参照图42～图45，针对局部环境生成机构进行说明。
图42是表示在本发明的第九实施方式的涂布装置1所设置的局部环境生成机构的概略结构的侧剖视图。在图42中，涂布装置1作为局部环境生成机构，具有第一箱体61、第二箱体62、第三箱体63、以及隔开构件10。此外，第一～第三箱体61～63都形成有平行于YZ平面的侧面，但是，在在图42中，为了容易理解箱体空间内部的关系而省略该侧面。
首先，针对各箱体61～63进行说明。在图42中，涂布装置1由第一箱体61、第二箱体62、以及第三箱体63分别从外部遮蔽而被设置。第一箱体61以包围基板装载装置2在图示Y轴方向进行往复移动的空间(以下记为腔室空间)来从外部进行遮蔽的方式而被设置。另外，第一箱体61，除了各喷嘴52a～52c向腔室空间突出来进行往复移动用的开口部S1，以隔开腔室空间和设置有有机EL涂布机构(喷嘴移动机构部51和喷嘴单元50)的空间之间的方式而被设置。
第三箱体63包括设置有有机EL涂布机构的空间，包围喷嘴单元50等在图示X轴方向进行往复移动的空间(以下记为滑动空间)而被设置。
第二箱体62以包围第一箱体61的上部空间的方式而被设置。在第二箱体62的内部设置有在其内部具有有机EL涂布机构的第三箱体63，在第二箱体62也和第三箱体63同样地形成有各喷嘴52a～52c从滑动空间向腔室空间突出而进行往复移动用的开口部S1。此外，将由第二箱体62包围的空间内、除了滑动空间的空间记为箱体空间。这样，涂布装置1通过第一～第三箱体61～63被隔开而分别设置成腔室空间、滑动空间、以及箱体空间。
在第一～第三箱体61～63，连接有用于向其内部空间供给氮气的供给管71、用于排出其内部空间的气体的排气管72。在图42的例子中，供给管71与在第一箱体61的前面相连接。此外，在图42的例子中，多个供给管71a～71c与第一箱体61的壁面相连接。另外，排气管72与第二箱体62的背面相连接。这样，在连接了供给管71和排气管72的情况下，从供给管71所供给的氮气被供给到腔室空间，通过开口部S1流入滑动空间，并通过开口部S2流入到箱体空间后，从排气管72流出。
另外，在第一箱体61设置有用于进行基板P的搬入和搬出的投入口。投入口通过以旋转轴为中心进行转动(图示箭头方向)的闸门611而可进行开闭。基板P在投入口611被开放的状态下，由搬送机械手(未图示)搬入到腔室空间内，并被装载于载物台21上。另外，在利用涂布装置1进行涂布处理时，关闭上述闸门611而从外部遮蔽腔室空间。
返回到图42的说明，在连接第一箱体61和供给管71a以及71b的附近，设置有扩散部73。具体而言，扩散部73被设置在从供给管71a以及71b向第一箱体61的内部空间流入的入口附近的该内部空间侧。
如上所述，涂布装置1具有用于使由各箱体61～63包围的各空间为低氧气环境的结构。在这里，为了防止有机EL材料的氧化，只要使整个腔室空间内的氧气浓度下降即可，但是最必须降低氧气浓度的空间是从各喷嘴52a～52c喷出有机EL材料的空间和涂布后的基板P被依次向Y轴正方向侧输送的空间(图42所示的空间C)。例如，在使向基板P涂布有机EL材料时的氧气浓度的上限为氧气浓度管理值的情况下，至少在空间C的氧气浓度必须满足氧气浓度管理值。因此，若能够缩短在空间C的氧气浓度下降到氧气浓度管理值以下的时间，则能使涂布装置1高效地运转。也就是，为了提高涂布装置1的处理效率，使在空间C的氧气浓度在短时间内下降很重要。
因此，为了使空间C局部地在短时间内为低氧气状态，涂布装置1作为局部环境生成机构还具有隔开构件10。隔开构件10是将空间C和周围的空间隔开的构件。图43是表示隔开构件10的外观的立体图。图44A～图44D是表示隔开构件10的结构的俯视图。即，图44A是隔开构件10的俯视图(从Z轴正方向侧观察到的图)，图44B是隔开构件10的侧视图(从X轴负方向侧观察到的图)，图44C是隔开构件10的仰视图(从Z轴负方向侧观察到的图)，图44D是隔开构件10的前面图(从Y轴负方向侧观察到的图)。此外，在图43中，为了便于观察附图，除了隔开构件10，仅表示基板P、载物台21以及旋转部22。
隔开构件10是在其内部具有空间的箱状的形状，其外观是一面开口的大致长方体形状。此外，在隔开构件10，除了该一面的开口部91，还形成有孔92～94。在本实施方式中，成为隔开构件10的上表面和下表面的遮蔽板的宽度(X轴方向的长度)大于基板P的宽度，能够将基板P搬入隔开构件10的内部。此外，隔开构件10被配置在腔室空间内，以上述空间C被包含于其内部空间的方式配置。并且，隔开构件10以在基板P移动来的一侧朝向开口部91的方式被配置。具体来说，因为基板P从Y轴负方向侧移动来(参照图43所示的箭头)，所以以将开口部91朝向Y轴负方向侧的方式配置隔开构件10。另外，隔开构件10，其上表面固定设置在第一箱体的上表面的内侧(参照图42)。
在隔开构件10，以不阻碍涂布装置1的其他构件配置的方式形成有多个孔92～94。具体地说，如图44A所示，在隔开构件10的上表面沿着各喷嘴52a～52c的移动方向(即X轴方向)形成有第一孔92。虽然在图43未图示，但是，各喷嘴52a～52c以位于第一孔92的方式被配置。在涂布进行时，各喷嘴52a～52c沿着第一孔92在X轴方向进行移动。也就是，形成第一孔92的目的是防止隔开构件10阻碍涂布处理中的各喷嘴52a～52c的移动。
如图44B所示，在隔开构件10的两侧面形成有第二孔93。虽然在图43没有图示，但是，接液部53被配置在该第二孔93的位置。各喷嘴52a～52c以位于该第一孔92的方式被配置。也就是，设置第二孔93的目的是防止隔开构件10阻碍接液部53的配置。此外，若利用接液部53堵塞第二孔93，则能够提高隔开构件10的内部空间的密闭性，能够在更短的时间内使隔开构件10的内部空间为低氧气环境。
如图44C所示，在隔开构件10的下表面形成有与开口部91连接的第三孔94。第三孔94被形成在基板装载装置2通过的部分。在涂布处理中，装载了基板P的载物台21以及基板装载装置2随着涂布的进行逐渐向Y轴正方向移动，但是形成第三孔94的目的是防止隔开构件10阻碍基板装载装置2的移动。
另外，涂布装置1具有向隔开构件10的内部空间供给惰性气体(氮气)的供给装置。具体地说，作为该供给装置，图42所示的供给管78与隔开构件10相连接。来自图9所示的供给系统的氮气，通过该供给管78而被供给到隔开构件10的内部空间(空间C)。另外，在本实施方式中，如图44D所示，通过供给管78而供给的氮气的供给口被设置在隔开构件10的后面(Y轴正方向侧的面)的内壁。在该供给口设置有与图6所示的扩散部73同样结构的扩散部96。即，如图44D所示，在隔开构件10的后面的内壁，设置有整流板95。另外，在整流板95的内部设置有未图示的扩散板。
以下，说明由涂布装置1进行涂布处理时的动作。在由涂布装置1对基板P进行涂布时，首先，图9所示的供给系统从供给管71向第一～第三箱体61～63内供给氮气。另外，供给系统从供给管78向隔开构件10的内部空间(空间C)供给氮气。进而，图9所示的排气系统从排气管72排出第一～第三箱体61～63内的气体。此外，来自供给系统的氮气的供给和由排气系统进行的排气可以通过例如控制部3控制，也可以由例如用户控制。因此，腔室空间、箱体空间和滑动空间成为氮气环境，氧气浓度下降。
在这里，在本实施方式中，空间C由隔开构件10与周围的腔室空间隔开，并且从供给管78向空间C直接供给氮气。因此，空间C的氧气浓度，与隔开构件10的外部的其他腔室空间的氧气浓度相比，会在短时间到达上述氧气浓度管理值。另外，由于隔开空间10的内部空间比腔室空间小，所以隔开构件10的内部空间的氧气浓度达到氧气浓度管理值的时间，与不使用隔开构件10而仅通过供给管71使整个腔室空间为氮气环境的情况相比，变短。这样，根据本实施方式，能够使必要的空间(空间C)局部地在短时间内成为低氧气环境。因此，由于能够更早地开始涂布装置1的涂布处理，因此能够使涂布装置1高效地运转。
当空间C的氧气浓度达到氧气浓度管理值时，如上所述，控制部3开始涂布装置1的涂布处理。即，将载物台21在Y轴方向移动，以便基板P来到初始位置。此外，该初始位置是在基板P上沿Y轴方向并排形成的多个槽中的、最位于Y轴正方向侧的槽的正上方的放置着喷嘴52a的位置。也就是，在初始状态中，在基板P的涂布区域中Y轴正方向侧的端部附近来到各喷嘴52a～52c之下。然后，通过由涂布装置1进行涂布处理，从而基板P逐渐向Y轴正方向移动。也就是，基板P随着涂布处理的进行，从隔开构件10的开口部进入到内部空间。
图45是表示对基板P的涂布处理结束时隔开构件10和基板P的位置关系的图。如图45所示，在涂布处理结束时，处于大致整个基板P(至少进行了涂布的所有部分)进入隔开构件10的内部的状态。此外，在本实施方式中，在涂布处理中也从供给管78向隔开构件10的内部空间供给氮气。因此，总是将隔开构件10的内部空间的氧气浓度维持在氧气浓度管理值以下，能更确实地防止被涂布在基板P上的有机EL材料的氧化。
另外，如上所述，在本实施方式中，从隔开构件10的后面的内壁供给氮气。因此，在隔开构件10的内部空间中的氮气的流为从里侧向开口部91的方向，所以，根据该流，能够防止从隔开构件10的外部流入氧气浓度相对高的气体。所以，通过从隔开构件10的后面的内壁供给氮气，能够可靠地防止隔开构件10的内部空间的氧气浓度的上升。
另外，在涂布处理中，为了防止空间C中的氧气浓度超过氧气浓度管理值，在涂布处理中，来自供给管71的氮气供给以及来自排气管72的气体排出持续着。这里，通过喷嘴单元50或者喷嘴52a～52c在X轴方向进行往复移动，滑动空间内的气体或开口部S1附近的气体被搅拌。所以，例如在滑动空间内的残留氧气的情况下，该氧气通过搅拌，流出到腔室空间(空间C)，会使腔室空间中的氧气浓度上升。也就是说，在腔室空间中的氧气浓度的管理中，需要考虑涂布处理前以及涂布处理中的流体均衡。在本实施方式中，也通过滑动空间内或箱体空间内置换成低氧气环境，防止涂布处理中的氧气浓度的上升。
而且，为了使空间C中的氧气浓度稳定，第一～第三箱体61～63内的压力也重要。例如，第一～第三箱体61～63不是相对于外部完全密封结构的情况下，第一～第三箱体61～63内的压力被维持在不到大气压(也就是说，比外部低的压力)时，外部的气体流入第一～第三箱体61～63内。所以，在本实施方式中，调整涂布处理前以及涂布处理中的流体平衡，使得将第一～第三箱体61～63内的压力能够维持到大气压以上(也就是说与外部相同或者高于外部的压力)。由此，即使第一～第三箱体61～63即使相对于外部不是完全密封结构，也能够进行空间C中氧气浓度的管理。
如上所述，根据本实施方式，通过在提供氮气的腔室空间的内部设置隔开构件10，在短时间内局部性地生成成为低氧气环境的空间。并且，使基板移动，使得进行涂布处理的基板区域移动到该空间。由此，能够缩短到开始涂布处理为止的时间，所以能够使涂布装置1高效率地运转。
另外，在上述实施方式中，在对隔开构件10的内部空间供给氮气的情况下，从隔开构件10的后面的内壁提供了氮气。这里，在其它实施方式中，也可以从隔开构件10的上面的内壁提供氮气。由此，从涂布了涂布液的基板上面的附近提供氮气，所以能够有效地使基板上面成为低氧气环境。另外，在从隔开构件10的上面的内壁供给氮气的情况下，为了降低从供给口供给的氮气的流速，在供给口设置上述的扩散板以及整流板(参照图6)特别有效。另外，在其它的实施方式中，也可以从隔开构件10的下表面的内壁提供氮气。由此，从供给口提供的氮气不会直接喷到基板的涂布面，所以不会对涂布后的涂布液提供恶劣影响。进而，在其它的实施方式中，也可以在隔开构件10的各个面(上下面、左右面以及后面)的内壁上设置氮气的供给口。由此，能够均匀地使隔开构件10的内部空间成为低氧气环境。
另外，在上述实施方式中，隔开构件10的开口部91与喷嘴52a～52c相比，形成于更接近于基板移动过来的一侧的位置。所以，基板进行移动，使得通过开口部91之后，通过过喷嘴52a～52c之下，所以不仅是进行了涂布液的涂布之后的基板区域，也能将正在进行涂布液的涂布的基板区域包含在隔开构件10的内部空间。也就是说，不仅是进行了涂布液的涂布之后的基板区域，也能够使正在进行涂布液的涂布的基板区域在短时间内成为低氧气环境。由此，能够更有效地防止涂布液的氧化。另外，在其它的实施方式中，也可以是仅仅进行了涂布液的涂布后的基板区域包含在隔开构件10的内部空间。具体地说，其构成可以为开口部91位于比喷嘴52a～52c的位置更靠近Y轴正方向侧。此时，隔开构件10不会防止喷嘴52a～52c的移动，所以不需要在隔开构件10形成孔92。
另外，在上述实施方式中所示的隔开构件10的形状是一例，隔开构件10只要是隔开该内部空间和外部空间，哪种形状都可以。因为如果能够将隔开构件10的内部空间和外部空间隔开，就能够局部性地使该内部空间成为低氧气环境。在上述实施方式中，隔开构件10是具有上面、下面、侧面、以及后面的形状，但是，例如也可以是第一箱体61的上面兼有隔开构件10的上面。进而，在上述实施方式中，从形成了孔92～94可知，隔开构件10不需要完全隔开该内部空间和外部空间，能够局部性地使该内部空间成为低氧气环境这种程度即可。
涂布装置1中的涂布处理结束的基板P通过未图示的搬送机械手从涂布装置1被搬出。对于被搬出的基板P，除去涂布到基板P的有效区域以外的区域的有机EL材料。除去处理只要是除去基板P上的有机EL材料的方法，哪种方法都可以，例如，既可以是通过激光消融(laser abrasion)除去有机EL材料的方法，也可以是预先在除去区域贴上遮蔽胶带(masking tape)的方法。并且，对于结束除去处理的基板P，进行干燥处理(烘烤处理)。由上，结束了红色的有机EL材料的涂布/干燥处理。此后，与红色的情况同样地，对基板P进行涂布/干燥绿色以及蓝色的有机EL材料的处理。即，按顺序进行涂布绿色的有机EL材料的处理、使涂布的绿色的有机EL材料干燥的处理、涂布蓝色的有机EL材料的处理、以及使涂布的蓝色的有机EL材料干燥的处理。这样，通过对绿色以及蓝色有机EL材料进行涂布/干燥处理，形成有机EL显示装置的发光层。而且，对于形成了发光层的基板，例如通过真空镀气法，阴极电极形成于发光层上，制造有机EL显示装置。
另外，在上述的第一～第九实施方式中，在喷嘴单元50设置了静压轴承的情况下，可以对该静压轴承提供氮气等惰性气体。由此，为了构成静压轴承，在提供的气体中不含有氧气，进而能够使滑动空间内的氧气浓度降低。
另外，在上述的第一～第九实施方式中，在红、绿、以及蓝色当中，使红色的有机EL材料由3个1组的喷嘴52a～52c流入基板P的槽内，但是该涂布步骤为制造有机EL显示装置的中途步骤。在制造有机EL显示装置时的处理顺序为空穴输送材料(PEDOT)涂布→干燥→红色的有机EL材料涂布→干燥→绿色的有机EL材料涂布→干燥→蓝色的有机EL材料涂布→干燥这一顺序。此时，本发明的涂布装置能够分别用于涂布空穴输送材料、红色的有机EL材料、绿色的有机EL材料、以及蓝色的有机EL材料的步骤。
另外，在上述的第一～第九实施方式中，可以从喷嘴52a～52c分别排出红、绿、以及蓝色的有机EL材料。此时，按照红、绿、以及蓝色的顺序排列的、所谓的条纹排列以在一个涂布步骤中形成。而且，在上述的实施方式中，由3个1组的喷嘴52a～52c在基板P的各沟槽内流入有机EL材料，但是也可以设置多组该3个1组的喷嘴52a～52c，向基板P的各槽内流入有机EL材料。
此外，在上述的第一～第九实施方式中，说明了一例作为涂布液，将有机EL材料或空穴输送材料作为涂布液的有机EL显示装置的制造装置，但是，本发明也能够应用于其它的涂布装置。例如，也能够适用于涂布使用于制造保护液或SOG(Spin On Glass)液或者PDP(等离子显示面板)的荧光材料的装置。另外，为了将液晶彩色显示器进行彩色显示，也能够应用于涂布颜色材料的装置，该颜色材料使用于制造液晶元件内构成的彩色滤波器。
本发明中的涂布装置以及涂布方法作为从喷嘴喷出各种涂布液的方法或装置等有用。
以上详细说明了本发明，但是上述的说明在所有方面只不过是本发明的例示，不应该限定其范围。当然，不脱离本发明的范围能够进行各种改良或者变形。
权利要求
1.一种涂布装置，将涂布液涂布在基板上，其特征在于，具有载物台，在其上表面上装载所述基板；喷嘴，在所述载物台上的空间，从其前端部喷出所述涂布液；局部环境生成机构，其对涂布空间局部性地供给规定气体，在规定的环境下进行所述涂布液的涂布，该涂布空间包括所述喷嘴喷出涂布液的空间以及所述涂布液所涂布的基板的涂布部位。
2.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，还具有喷嘴移动机构，该喷嘴移动机构在上述载物台上的空间，在横贯所述载物台面的方向使所述喷嘴往复移动，所述局部环境生成机构具有第一箱体，其包围所述载物台而设置，隔开所述喷嘴移动机构所配置的空间和该载物台所配置的空间；以及第一供给口，其设置于所述第一箱体，对该第一箱体的内部空间供给所述规定气体。
3.如权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述第一箱体包围着所述载物台装载所述基板并进行移动的空间而设置。
4.如权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述第一箱体的上表面配置在所述载物台和所述喷嘴移动机构之间，在所述第一箱体的上表面，形成有所述喷嘴的至少一部分从所述喷嘴移动机构侧向该第一箱体内突出而进行往复移动的开口部。
5.如权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述局部环境生成机构还具有排气口，该排气口设置在所述第一箱体上，将该第一箱体的内部空间内的气体排出到外部。
6.如权利要求5所述的涂布装置，其特征在于，所述第一供给口设置在所述第一箱体的一端的侧面，所述排气口被设置在所述第一箱体中与设置有所述第一供给口的一端的侧面相对的另一端的侧面上。
7.如权利要求5所述的涂布装置，其特征在于，所述第一箱体分别设置有多个所述第一供给口以及所述排气口。
8.如权利要求5所述的涂布装置，其特征在于，所述排气口设置在所述第一箱体的底部附近。
9.如权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述局部环境生成机构还具有第二箱体，该第二箱体包围着所述第一箱体的上部空间而设置，所述第一箱体的上部空间包含有所述喷嘴移动机构。
10.如权利要求9所述的涂布装置，其特征在于，所述局部环境生成机构还具有设置在所述第二箱体上并将该第二箱体的内部空间内的气体排出到外部的排气口。
11.如权利要求9所述的涂布装置，其特征在于，在所述第二箱体形成有所述喷嘴的至少一部分从所述喷嘴移动机构侧向所述第一箱体内突出而进行往复移动的开口部。
12.如权利要求9所述的涂布装置，其特征在于，所述局部环境生成机构还具有第三箱体，该第三箱体设置在所述第二箱体内，并包围着所述喷嘴移动机构而设置。
13.如权利要求12所述的涂布装置，其特征在于，在所述第三箱体形成有所述喷嘴的至少一部分从所述喷嘴移动机构侧向所述第一箱体内突出而进行往复移动的开口部、和将该第三箱体内的空间与该第三箱体外侧的所述第二箱体内的空间连通的开口部。
14.如权利要求12所述的涂布装置，其特征在于，所述局部环境生成机构还具有设置在所述第三箱体并将规定气体供给到该第三箱体的内部空间的其他的供给口。
15.如权利要求12所述的涂布装置，其特征在于，所述局部环境生成机构还具有设置在所述第三箱体并将该第三箱体的内部空间内的气体排出到外部的排气口。
16.如权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述第一箱体在其上表面上形成有所述喷嘴的至少一部分从所述喷嘴移动机构侧突出而进行往复移动的开口部，所述局部环境生成机构还具有第二箱体，其包围所述喷嘴移动机构而设置在所述第一箱体的上部；第一排体口，其设置在所述第一箱体，将该第一箱体的内部空间内的气体排出到外部；第二排气口，其设置在所述第二箱体，将该第二箱体的内部空间内的气体排出到外部，将从所述第一供给口提供的气体从所述第一以及第二排气口排出，直到所述第一箱体内的规定空间达到规定氧气浓度为止，在所述规定空间达到了规定氧气浓度时，将从所述第一供给口提供的气体从所述第二排气口排出。
17.如权利要求16所述的涂布装置，其特征在于，所述局部环境生成机构还具有氧气浓度检测部件，其检测所述第一箱体内的规定空间中的氧气浓度；第一阀门，其设置在所述第一排气口，所述涂布装置还具有控制部件，该控制部件在所述氧气浓度检测部件检测到的氧气浓度未达到所述规定氧气浓度时开启所述第一阀门，在所述氧气浓度检测部件检测到的氧气浓度达到所述规定氧气浓度时关闭所述第一阀门。
18.如权利要求16所述的涂布装置，其特征在于，还具有如下的控制部件其在所述规定空间达到规定氧气浓度时，使由所述喷嘴移动机构控制的所述喷嘴的往复移动开始，对所述基板进行涂布处理。
19.如权利要求16所述的涂布装置，其特征在于，所述规定空间为所述第一箱体内的所述载物台上的空间。
20.如权利要求19所述的涂布装置，其特征在于，还具有相对移动机构，该相对移动机构使所述喷嘴以及所述载物台中的至少一个在与该载物台的装载面平行的方向上相对地移动，所述规定空间为在所述第一箱体内所述喷嘴喷出涂布液的空间、以及伴随由所述相对移动机构控制的所述载物台的相对移动而涂布了所述涂布液的基板的涂布部位进行相对移动的该载物台上的空间。
21.如权利要求20所述的涂布装置，其特征在于，所述局部环境生成机构还具有第二供给口，该第二供给口固定设置于所述第一箱体内，对所述规定空间提供所述规定的气体，在通过该规定空间而朝向所述开口部的方向上形成该气体的气流。
22.如权利要求20所述的涂布装置，其特征在于，所述第一箱体包围着所述载物台装载所述基板并进行相对移动的空间而设置，所述局部环境生成机构还具有第三排气口，该第三排气口设置在所述第一箱体的底部并且位于所述载物台相对移动的后方位置，将该第一箱体的内部空间内的气体排出到外部。
23.如权利要求16所述的涂布装置，其特征在于，所述第一箱体分别设置有多个所述第一供给口以及所述第一排气口。
24.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，还包括喷嘴移动机构，其在所述载物台上的空间，在横贯该载物台面的方向使所述喷嘴往复移动；箱体，其包围着所述喷嘴移动机构而设置，并形成有所述喷嘴的至少一部分从该喷嘴移动机构侧向所述载物台侧突出而进行往复移动的开口部；气体膜生成部件，其具有喷射规定的气体的喷射口，生成遮蔽所述箱体的开口部的带状的气体膜。
25.如权利要求24所述的涂布装置，其特征在于，所述气体膜生成部件设置在所述箱体的内部。
26.如权利要求24所述的涂布装置，其特征在于，所述气体膜生成部件设置在所述箱体的外部。
27.如权利要求24所述的涂布装置，其特征在于，所述开口部形成于构成所述箱体的壁面中竖立设置在上下方向上的一个壁面上，所述气体膜生成部件并列设置于所述开口部的上部，生成气流从所述开口部的上部向下部方向流动的带状的气体膜。
28.如权利要求24所述的涂布装置，其特征在于，所述开口部形成于构成所述箱体的底面，所述气体膜生成部件并列设置于所述开口部的横向部位，生成气流向着遮蔽所述开口部的水平方向流动的带状的气体膜。
29.如权利要求24所述的涂布装置，其特征在于，还具有排气口，该排气口设置于所述箱体，将该箱体的内部空间内的气体排出到外部。
30.如权利要求24所述的涂布装置，其特征在于，所述局部环境生成机构具有载物台侧箱体，其在所述箱体的下部包围着所述载物台而设置，并在其上表面形成有所述喷嘴的至少一部分从所述喷嘴移动机构侧突出而进行往复移动的开口部；供给口，其设置于所述载物台侧箱体，向该载物台侧箱体的内部空间提供惰性气体；排气口，其设置于所述箱体，将该箱体的内部空间内的气体向外部排出，所述气体膜生成部件从所述喷射口喷射惰性气体，生成遮蔽所述箱体的开口部的带状的气体膜。
31.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，还具有涂布机构，该涂布机构具有朝着下方排出涂布液的所述喷嘴，所述局部环境生成机构还具有箱体，其在内部具有空间，将装载所述基板的载物台配置于该空间；隔开构件，其配置于所述箱体内，为在内部形成空间的形状，并且在一端具有开口部；第一气体供给部件，其对所述隔开构件的内部空间供给惰性气体，所述涂布装置还具有载物台移动机构，该载物台移动机构相对所述喷嘴以及所述隔开构件能够相对地移动所述载物台，使得所述基板通过所述喷嘴之下，并且从所述开口部进入所述隔开构件的内部。
32.如权利要求31所述的涂布装置，其特征在于，所述涂布机构具有喷嘴移动机构，该喷嘴移动机构能够在与装载于所述载物台上的所述基板大致平行的方向并且与所述载物台的移动方向大致垂直的方向移动所述喷嘴，在所述隔开构件的上表面，在所述喷嘴通过的位置，沿着该喷嘴的移动方向形成有孔，所述载物台进行移动，使得通过所述开口部之后通过所述喷嘴之下。
33.如权利要求31所述的涂布装置，其特征在于，在所述隔开构件的下表面，在所述载物台移动机构通过的部分形成有孔。
34.如权利要求31所述的涂布装置，其特征在于，所述隔开构件将具有比所述基板的宽度大的宽度的遮蔽板作为其上表面以及下表面。
35.如权利要求31所述的涂布装置，其特征在于，所述局部环境生成机构还具有第二气体供给部件，该第二气体供给部件从所述箱体的内壁对该箱体的内部空间提供惰性气体。
36.一种涂布方法，为将从装载于载物台之上的喷嘴喷出的涂布液涂布在装载于该载物台上表面的基板上的涂布方法，其特征在于，包含局部环境生成步骤，该局部环境生成步骤中对涂布空间局部性地提供规定气体，在规定的环境下进行所述涂布液的涂布，该涂布空间包括所述喷嘴喷出涂布液的空间、以及所述涂布液所涂布的基板的涂布部位。
37.如权利要求36所述的涂布方法，其特征在于，所述局部环境生成步骤，对所述涂布空间，从该涂布空间的一侧提供所述规定气体，并从该涂布空间的另一侧排出该涂布空间内的气体。
38.如权利要求37所述的涂布方法，其特征在于，所述局部环境生成步骤，从所述涂布空间的一侧的多个部位提供所述规定气体，并从该涂布空间的另一侧的多个部位排出该涂布空间内的气体。
39.如权利要求36所述的涂布方法，其特征在于，所述喷嘴被喷嘴移动机构支撑，在横贯该载物台面的方向上，在所述载物台上的空间进行往复移动，所述局部环境生成步骤，对所述涂布空间，从该涂布空间的一侧提供所述规定气体，通过配置了所述喷嘴以及所述喷嘴移动机构的空间，而从所述载物台上部排出该涂布空间内的气体。
40.如权利要求39所述的涂布方法，其特征在于，所述局部环境生成步骤，对所述涂布空间，从所述涂布空间的一侧提供所述规定气体，从所述涂布空间的另一侧、和通过配置了所述喷嘴以及所述喷嘴移动机构的空间而从所述载物台上部，分别排出该涂布空间内的气体。
41.如权利要求39所述的涂布方法，其特征在于，所述局部环境生成步骤，对所述涂布空间，从该涂布空间的一侧以及另一侧分别提供所述规定气体，通过配置了所述喷嘴以及所述喷嘴移动机构的空间而从所述载物台上部排出该涂布空间内的气体。
42.如权利要求36所述的涂布方法，其特征在于，所述喷嘴被喷嘴移动机构支撑，在横贯该载物台面的方向上，在所述载物台上的空间进行往复移动，所述局部环境生成步骤，除了所述涂布空间之外，对配置了所述喷嘴移动机构的空间也提供所述规定气体。
43.如权利要求36所述的涂布方法，其特征在于，所述喷嘴被喷嘴移动机构支撑，在横贯该载物台面的方向上，在所述载物台上的空间进行往复移动，所述局部环境生成步骤，直到规定空间达到规定氧气浓度为止，从该规定空间的一侧提供规定气体，从该规定空间的另一侧、和通过配置了所述喷嘴以及所述喷嘴移动机构的空间而从所述载物台上部，分别排出气体，在所述规定空间达到规定氧气浓度时，从该规定空间的一侧提供所述规定气体，在通过配置了所述喷嘴以及所述喷嘴移动机构的空间而从所述载物台上部排出气体的状态下，对所述基板涂布所述涂布液。
44.如权利要求43所述的涂布方法，其特征在于，所述规定空间包含在腔室内的空间中，所述腔室形成开口部，该开口部用于所述喷嘴从所述腔室的外部向所述规定空间突出，所述局部环境生成步骤，直到所述规定空间达到规定氧气浓度为止，从所述腔室的一侧提供所述规定气体，并从该腔室的另一侧和所述开口部分别排出该腔室内的气体，在所述规定空间达到规定氧气浓度时，从所述腔室的一侧提供所述规定气体，并在从所述开口部排出该腔室内的气体的状态下，对所述基板涂布所述涂布液。
全文摘要
一种涂布装置以及涂布方法，该涂布装置具有载物台、喷嘴、以及局部环境生成机构。载物台将基板装载于其上表面。喷嘴在载物台上的空间中从其前端部喷出涂布液。局部环境生成机构对包含喷嘴喷出涂布液的空间和涂布了涂布液的基板的涂布部位的涂布空间局部地供给规定气体，在规定的环境中进行涂布液的涂布。
文档编号B05B13/02GK101028617SQ200710084320
公开日2007年9月5日 申请日期2007年2月27日 优先权日2006年2月27日
发明者吉田顺一, 增市干雄, 高村幸宏, 上野博之, 川越理史, 松家毅 申请人:大日本网目版制造株式会社