光触媒键盘的制作方法
【专利摘要】本发明公开了光触媒键盘，其特征在于：键盘上涂有光触媒涂层，涂层包含下列成分：纳米二氧化钛，纳米二氧化硅。纳米二氧化钛与纳米二氧化硅的比例在3比1。涂层厚度在1到2毫米。键盘上的涂层是均匀分布。
【专利说明】光触媒键盘
【技术领域】
[0001] 本发明涉及光触媒键盘，属于光触媒【技术领域】。
【背景技术】
[0002]光触媒是一种纳米级的金属氧化物材料(二氧化钛比较常用)，它涂布于基材表面，干燥后形成薄膜，在光线的作用下，产生强烈催化降解功能:能有效地降解空气中有毒有害气体；能有效杀灭多种细菌，抗菌率高达99.99 %，并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理；同时还具备除臭、抗污等功能。
[0003]如何使光触媒与键盘结合是一个研究的课题。
【发明内容】
[0004]本发明的技术任务是针对现有技术的不足，提供一种光触媒键盘。
[0005]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
光触媒键盘，其特征在于:键盘上涂有光触媒涂层，涂层包含下列成分:
纳米二氧化钛，纳米二氧化硅。
[0006]纳米二氧化钛与纳米二氧化硅的比例在3比I。
[0007]涂层厚度在I到2毫米。
[0008]键盘上的涂层是均匀分布。
[0009]本发明的的有益效果是:本发明具有原料配伍合理、制备成本低，使用方便、清洁效果好等特点，由于采用了纳米二氧化钛作原料，可以激发纳米二氧化钛产生杀菌、分解有害气体的作用。
【具体实施方式】
[0010]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
光触媒键盘，其特征在于:键盘上涂有光触媒涂层，涂层包含下列成分:
纳米二氧化钛，纳米二氧化硅。
[0011]纳米二氧化钛与纳米二氧化硅的比例在3比I。
[0012]涂层厚度在I到2毫米。
[0013]键盘上的涂层是均匀分布。
[0014]本发明的的有益效果是:本发明具有原料配伍合理、制备成本低，使用方便、清洁效果好等特点，由于采用了纳米二氧化钛作原料，可以激发纳米二氧化钛产生杀菌、分解有害气体的作用。本发明具有原料配伍合理、制备成本低，使用方便、清洁效果好等特点，由于采用了纳米二氧化钛作原料，可以激发纳米二氧化钛产生杀菌、分解有害气体的作用。
[0015]以上所述，仅为本发明较佳的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本【技术领域】的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1.光触媒键盘，其特征在于:键盘上涂有光触媒涂层，涂层包含下列成分: 纳米二氧化钛，纳米二氧化硅。
2.根据权利要求1所述的光触媒键盘，其特征在于:纳米二氧化钛与纳米二氧化硅的比例在3比1。
3.根据权利要求1所述的光触媒键盘，其特征在于:涂层厚度在I到2毫米。
4.根据权利要求1所述的光触媒键盘，其特征在于:键盘上的涂层是均匀分布。
【文档编号】C09D5/14GK103903888SQ201210573712
【公开日】2014年7月2日 申请日期:2012年12月26日 优先权日:2012年12月26日
【发明者】盖丽 申请人:大连林桥科技有限公司