一种耐候性聚碳酸酯涂覆膜的制作方法

文档序号:15981585发布日期:2018-11-17 00:23阅读:256来源:国知局

本发明涉及反光膜技术领域,具体是设计一种耐候性聚碳酸酯涂覆膜。



背景技术:

反光膜是一种广泛应用于交通设施中的产品,当今的反光膜产品的基材主要使用pvc或亚克力材质,虽然聚碳酸酯基材具有更好的反光效率,但是受限于聚碳酸酯薄膜耐候性差的原因,现今市场上只有少量的聚碳酸酯反光膜产品,这些聚碳酸酯反光膜表面都需要覆盖一层亚克力进行保护(其耐候也不会超过5年)。因此为提高反光膜的耐候年限,急需一种高耐候性的聚碳酸酯薄膜,以满足反光膜领域应用的需求。



技术实现要素:

针对上述存在的技术问题,本发明的目的是:提出了一种高耐候性聚碳酸酯涂覆膜,该涂覆膜具有超强的耐候性能,能够满足反光膜长达10年的耐候需求。

本发明的技术解决方案是这样实现的:一种耐候性聚碳酸酯涂覆膜,包括:

a层,为含氟树脂层或有机硅树脂层,所述a层的厚度为3-50um;

b层,为pc层,所述pc层包括pc和紫外吸收剂,所述pc质量份数98-100份,紫外吸收剂0.1~2份;

所述a层覆盖于所述b层至少一面,由此所述涂覆膜具有a-b两层结构或者a-b-a三层结构。

优选的:所述含氟树脂层是醚型feve共聚氟碳涂料、聚四氟乙烯树脂、聚三氟氯乙烯树脂中的一种。

优选的:所述有机硅树脂层是聚甲基硅树脂、聚乙基硅树脂、聚甲基苯基有机硅树脂、聚乙基苯基有机硅树脂中的一种或多种。

优选的:所述紫外吸收剂为二苯甲酮类或苯并三唑类。

优选的:所述a层和b层采用涂覆或者淋膜形式相结合。

优选的:所述pc层至少一面设有改性层;所述改性层由改性剂对pc层表面进行改性处理得到;所述改性剂为氨烃基硅烷偶联剂、含季氨烃基硅烷偶联剂、甲基丙烯酰氧烯烃硅烷偶联剂,烯烃基硅烷偶联剂、环氧烃基硅烷偶联剂中的一种;所述改性层厚度为0.01~5um。

由于上述技术方案的运用,本发明与现有技术相比具有下列优点:本发明的一种耐候性聚碳酸酯涂覆膜,a层、b层和改性层通过涂覆或者淋膜技术实现结合。该涂覆膜具有超强的耐候性能,能够满足反光膜长达10年的耐候需求,可广泛应用于反光膜技术领域。

附图说明

下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明:

图1为本发明的涂覆膜三层的结构示意图;

图2为本发明的涂覆膜的两层结构示意图;

其中:1、a层;2、b层。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

实施例1:

如图1所示为本发明所述的一种耐候性聚碳酸酯涂覆膜,包括:a层1为含氟树脂层,a层1的厚度为26um;b层,为pc层,pc层包括pc和紫外吸收剂,所述pc质量份数98份,紫外吸收剂2份;a层1覆盖于b层2两面,由此涂覆膜具有者a-b-a三层结构;含氟树脂层优选为醚型feve共聚氟碳涂料;紫外吸收剂优选为二苯甲酮类。a层1和b层2采用涂覆或者淋膜形式相结合;pc层上在a层1和b层2相互结合的一面上设有改性层;改性层由改性剂对pc层表面进行改性处理得到;改性剂优选为氨烃基硅烷偶联剂;改性层厚度为4um。

实施例2:

如图2所示,a层1为有机硅树脂层,a层1厚度为24um,b层2,为pc层,pc层包括pc和紫外吸收剂,pc质量份数98份,紫外吸收剂2份;a层1覆盖于b层2一面,由此涂覆膜具有a-b两层结构;有机硅树脂层优选为聚甲基硅树脂;紫外吸收剂优选为苯并三唑类。a层1和b层2采用涂覆或者淋膜形式相结合;pc层的亮面均设有改性层;改性层由改性剂对pc层表面进行改性处理得到;改性剂优选为氨烃基硅烷偶联剂;改性层厚度为5um。

本发明的耐候性聚碳酸酯涂覆膜,a层、b层和改性层通过涂覆或者淋膜技术实现结合。该涂覆膜具有超强的耐候性能,能够满足反光膜长达10年的耐候需求,可广泛应用于反光膜技术领域。

上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施,并不能以此限制本发明的保护范围,凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围内。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种耐候性聚碳酸酯涂覆膜,包括:A层,为含氟树脂层或有机硅树脂层,所述A层的厚度为3‑50um;B层,为PC层,所述PC层包括PC和紫外吸收剂,所述PC质量份数98‑100份,紫外吸收剂质量份数0.1~2份;所述A层覆盖于所述B层至少一面,由此所述涂覆膜具有A‑B两层结构或者A‑B‑A三层结构。本发明的耐候性聚碳酸酯涂覆膜,A层、B层和改性层通过涂覆或者淋膜技术实现结合。该涂覆膜具有超强的耐候性能,能够满足反光膜长达10年的耐候需求,可广泛应用于反光膜技术领域。

技术研发人员:孙达;罗伟;任月璋
受保护的技术使用者:苏州奥美材料科技有限公司
技术研发日:2018.05.04
技术公布日:2018.11.16
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