一种亲肤的复合膜的制作方法

[0001]
本实用新型涉及胶膜技术领域，尤其涉及一种亲肤的复合膜。


背景技术：

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随着现代化的进程加快和胶膜技术的快速发展，胶膜的广泛应用于电子产品等许多领域当中，然而目前贴附在电子产品的胶膜功能性单一，对人体的亲肤度较差，粗糙，从而使用户体验触感差，远远不能满足人们的需求，因此，发明人作出了新的发明创造。


技术实现要素：

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本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供一种亲肤的复合膜，本复合膜具有亲肤度高，肤感爽滑的优点。
[0004]
为实现上述目的，本实用新型的一种亲肤的复合膜，包括顶面保护层，所述顶面保护层下表面由上至下依次粘合有亲肤层、两层光学层、胶膜层、底膜保护层和底面保护层；所述顶面保护层包括pet 层，pet层下表面粘合有亚克力胶层；所述亲肤层为pu膜，所述光学层采用oca光学胶。
[0005]
优选的，所述胶膜层为亚克力胶。
[0006]
更进一步的，所述底膜保护层包括硅油膜，硅油膜的下表面粘合有pet膜，底膜保护层的厚度为75μm-125μm。
[0007]
更优的，所述底面保护层包括pe膜层，pe膜层上表面粘合有静电场吸附层，底面保护层的厚度为67μm-73μm。
[0008]
进一步的，所述顶面保护层、亲肤层、光学层、胶膜层、底膜保护层和底面保护层的总厚度为349μm-411μm。
[0009]
有益效果：与现有技术相比，本实用新型的一种亲肤的复合膜，包括顶面保护层，所述顶面保护层下表面由上至下依次粘合有亲肤层、两层光学层、胶膜层、底膜保护层和底面保护层；本复合膜设有亲肤层，亲肤层为pu膜，使复合膜具有有亲肤度高，肤感爽滑的优点。
附图说明
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图1为本实用新型的结构示意图。
[0011]
图2为本实用新型中顶面保护层的示意图。
[0012]
图3为本实用新型中底膜保护层的示意图。
[0013]
图4为本实用新型中底面保护层的示意图。
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附图标记包括：
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顶面保护层
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1，亲肤层
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2，光学层
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3，胶膜层
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4，底膜保护层
ꢀ--
5，底面保护层
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6，pet层
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7，亚克力胶层
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8，硅油膜
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9，聚酯薄膜层
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10，淋膜涂覆层
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11，pe膜层
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12，静电场吸附层
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13。
具体实施方式
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下面结合附图1至4对本实用新型进行详细的说明。
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本实用新型的一种亲肤的复合膜，包括顶面保护层1，所述顶面保护层1下表面由上至下依次粘合有亲肤层2、两层光学层3、胶膜层4、底膜保护层5和底面保护层6，所述两层光学层之间按1：1： 2的质量比涂覆有钨粉、钼粉和纳米氧化铝，可以防止辐射对人体的危害；使用时，把顶面保护层1、底膜保护层5和底面保护层6剥离后贴合在电子产品屏幕上。
[0018]
在本技术方案中，所述顶面保护层1包括pet层7，pet层7 下表面粘合有亚克力胶层8；顶面保护层1可以在复合膜未贴合时保护复合膜的顶面。
[0019]
所述顶面保护层1的厚度为57μm-63μm。
[0020]
为了提高复合膜的亲肤性，所述亲肤层2为pu膜，pu膜包含以下重量份的原料：聚氨酯树脂11-15份，脂肪族异氰酸酯9-12份，碳酸二甲酯15-18份，碳酸二乙酯6-8份，碳酸甲乙酯15-25份，异丙醇9-13份。pu膜具有良好的弹性，使人体在触摸复合膜时不会有粗糙感，使肤感更加舒适爽滑，具有良好的亲肤性。
[0021]
为了提高复合膜的光学视觉感官效果，所述光学层3采用oca 光学胶，在复合膜贴合在电子产品时，人们观看电子产品的光学视觉感官效果更好。
[0022]
所述胶膜层4为亚克力胶。
[0023]
所述底膜保护层5包括硅油膜9，硅油膜9的下表面粘合有pet 膜，底膜保护层5的厚度为75μm-125μm；底膜保护层5可以在复合膜未贴合时保护复合膜的底面。
[0024]
所述硅油膜9包括聚酯薄膜层10和和涂覆于聚酯薄膜层10表面的淋膜涂覆层11，所述淋膜涂覆层11包含以下重量份的原料：高密度聚乙烯10份，低密度聚乙烯120～180份，苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物10份～30份，苯乙烯与丁二烯的嵌段共聚物5份～15 份，石蜡0.6份，甘油0.4份，poe聚烯烃弹性体6份，偶联剂0.7 份；在剥离底膜保护层时，可以达到极轻且稳定的离型力。
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为了提高复合膜的防静电性，底面保护层6包括pe膜层12，pe 膜层12上表面粘合有静电场吸附层13，底面保护层6的厚度为67 μm-73μm；底面保护层6不但可以在复合膜未贴合时进一步地保护复合膜的底面，而且静电场吸附层13可以消除复合膜上的静电，使复合膜在保存时不受静电影响。
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所述顶面保护层1、亲肤层2、光学层3、胶膜层4、底膜保护层 5和底面保护层6的总厚度为349μm-411μm；这种厚度适合用于贴合在电子产品屏幕上。
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以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。