硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板的制作方法
【专利说明】硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板
[0001] [技术领域] 本发明涉及硬质涂膜、透明导电性膜以及电容触控面板，特别涉及在形成表面层（导电 层等）时具有良好的粘接性和耐粘连性的硬质涂膜、具备这种硬质涂膜的透明导电性膜以 及电容触控面板。
[0002] 一直以来，作为具有液晶显示器的液晶显示装置，使用有例如便携式电子记事簿、 信息终端等，但近年来，逐渐广泛使用装载有能够直接触碰显示部进行输入的触控面板的 液晶显示装置。
[0003] 作为这样的触控面板，可列举出电容方式、电阻膜方式、电磁感应方式等。其中，检 视手指等接触时产生的微弱电流、即电容的变化来检测输入位置的电容方式触控面板逐渐 普及。
[0004] 在这样的液晶显示装置中，为了使透明导电膜等的耐划伤性、处理容易性提高，大 多在透明导电膜的表面具备硬质涂膜。
[0005] 作为这样的硬质涂膜，已知的是在基材的表面具备硬质涂层的硬质涂膜。
[0006] 例如，公开了在透明聚酯膜的单面或两面依次层叠易滑易粘接层、硬质涂层以及 防反射层而成的显示器用硬质涂膜(例如，参照专利文献1)。
[0007] 即，专利文献1中公开了作为硬质涂层而具有规定的表面硬度、规定的厚度、表面 的水接触角为40~80°、且含有无机微粒的显示器用硬质涂膜。
[0008] 另一方面，从生产率、处理性的观点出发，具有硬质涂布性的膜在涂布硬质涂层后 被卷取成卷状来保存。以卷的状态长期保管时，可见如下问题：膜的表面彼此贴合(粘连)、 硬质涂层表面产生伤痕等，或者在使用发生了粘连的硬质涂膜时在表面产生不均。
[0009] 因而，例如提出了 ：在制造工序中将硬质涂膜用辊进行卷取时，为了防止硬质涂膜 彼此贴合或难以剥离所导致的生产率降低，从而在光透射性基材的两面具有规定硬质涂层 的光学层叠体、透明导电性膜以及电容触控面板(例如，参照专利文献2)。
[0010] 更具体而言，公开了一种光学层叠体，其中，硬质涂层是使用包含粘结剂树脂、流 平剂以及易滑剂的硬质涂层用组合物而形成的层，易滑剂为选自二氧化硅颗粒和有机硅颗 粒中的至少1种，作为流平剂，有机硅系流平剂是适合的。
[0011] 另外，提出了：为了抑制由粘连导致的成品率降低且提高流平性能，而由规定的硬 质涂层用组合物形成的硬质涂膜、偏光板、以及图像显示装置(例如，参照专利文献3)。
[0012] 更具体而言，公开了一种含有流平剂和二氧化硅微粒和粘结剂树脂的硬质涂层用 组合物，其中，流平剂包含规定的氟系流平剂。
[0013] 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开2001-109388号公报(权利要求书等） 专利文献2 :日本特开2012-66409号公报(权利要求书等） 专利文献3 :日本特开2012-252275号公报(权利要求书等)。
【发明内容】
[0014] 发明要解决的问题 然而，专利文献1中公开的显示器用硬质涂膜的硬质涂层的表面是亲水性的，因此尽 管具有规定的铅笔硬度，但可见易滑性不充分、无法有效地防止膜彼此的密合的问题。
[0015] 另外，专利文献2中记载的光学层叠体通过使用比较大的二氧化硅颗粒作为易滑 剂，从而防止了光学层叠体彼此贴合。由此，能够在一定程度上防止膜彼此的密合，但由于 易滑剂是较大的颗粒，因此可见光学层叠体的透明性有时变得不充分的问题。
[0016] 另外，专利文献3中记载的硬质涂层用组合物使用比较大的二氧化硅颗粒作为易 滑剂且必须将氟系流平剂作为流平剂。由此，在一定程度上可见粘连的抑制、平滑性的提 高，但由于氟系流平剂的拒水性，可见在硬质涂膜上进一步层叠导电层等时有时粘接性差 的问题。
[0017] 因而，本发明人等对这样的问题进行了深入研宄，结果发现：通过在基材膜的至少 单面具备硬质涂层，并向形成该硬质涂层的硬质涂层形成材料中配合规定的疏水化硅溶胶 和特定的流平剂，将表面的硅原子浓度设为特定范围内的值，从而可获得能够有效地防止 硬质涂膜彼此的粘连、且在形成表面层（导电层等）时具有良好粘接性的硬质涂膜，从而完 成了本发明。
[0018] 即，本发明的目的在于，提供能够有效地防止硬质涂膜彼此的粘连(贴合）（抗粘连 性）且在形成表面层（导电层等）时与表面层之间具有良好粘接性的硬质涂膜、具备这种硬 质涂膜的透明导电性膜、以及电容触控面板。
[0019] 用于解决技术问题的手段 根据本发明，可提供下述硬质涂膜，从而可以解决上述问题，所述硬质涂膜在基材膜的 至少单面具备硬质涂层，该硬质涂膜的特征在于，该硬质涂层由至少包含（A)能量射线固化 性树脂、（B)疏水化硅溶胶以及（C)有机硅系流平剂的硬质涂层形成材料的固化物构成，（B) 疏水化硅溶胶集中于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反的表面侧，在 从硬质涂膜的最表面起至5nm的位置为止的区域中，相对于利用深度方向的XPS分析测定 的碳原子、氧原子、娃原子的总量（lOOatom%)，娃原子浓度为0. 2~1. 95atom%范围内的值。
[0020] 即，通过使用疏水化硅溶胶来作为硬质涂层形成材料，疏水化硅溶胶相分离地存 在于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反的表面侧，因此在硬质涂膜表 面产生微细的凹凸、能够防止硬质涂膜彼此的贴合。
[0021] 另外，通过包含有机硅系流平剂，该有机硅系流平剂在硬质涂层的最表面覆盖疏 水化硅溶胶而存在，因此在形成表面层(导电层等）时能够有效地防止表面层等的剥离。
[0022] 进而，通过在从硬质涂膜的最表面至5nm的位置为止的区域中，使硅原子浓度为 规定范围内的值，能够抑制涂膜的变形、缩孔。
[0023] 另外，在构成本发明的硬质涂膜时，（C)有机硅系流平剂优选为选自有机硅改性丙 烯酸树脂、聚醚改性聚二甲基硅氧烷、聚醚酯改性含羟基聚二甲基硅氧烷、聚酯改性含羟基 聚二甲基硅氧烷、聚醚改性聚二甲基硅氧烷中的至少1种。
[0024] 通过这样地构成，能够将从硬质涂膜的最表面起至5nm的位置为止的区域中的硅 原子浓度容易地调整至规定范围内的值。
[0025] 另外，在构成本发明的硬质涂膜时，优选的是，（C)有机硅系流平剂的配合量相对 于（A)能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0. 045~5重量份的范围内的值。
[0026] 通过这样地构成，能够有效地提高硬质涂膜的粘接性。
[0027] 另外，在构成本发明的硬质涂膜时，（B)疏水化硅溶胶的平均粒径优选为10~100nm 的范围内的值。
[0028] 通过这样地构成，能够维持或有效地提高硬质涂膜的透明性、获得充分的光透射 性。
[0029] 另外，在构成本发明的硬质涂膜时，优选的是，使根据JIS R 3257测定的水与将 (B)疏水化硅溶胶制成涂膜时的涂膜的接触角为100°以上的值。
[0030] 通过这样地构成，能够有效地防止硬质涂膜彼此的粘连。
[0031] 另外，在构成本发明的硬质涂膜时，优选的是，（B)疏水化硅溶胶的配合量相对于 (A)能量射线固化性树脂100重量份以固体成分换算计为0. 3~55重量份的范围内的值。
[0032] 通过这样地构成，尽管添加比较少的量，也能够有效地在硬质涂层内集中至表面 侦U、能够有效地提高硬质涂膜的透明性。
[0033] 另外，在构成本发明的硬质涂膜时，硬质涂膜的根据JIS K 7105测定的雾度值优 选为1.0%以下。
[0034] 通过这样地构成，能够用于透明性优异的透明导电性膜，能够用于例如电容触控 面板等电子仪器。
[0035] 另外，在构成本发明的硬质涂膜时，硬质涂层的表面的根据JIS B 0601-1994测定 的算术平均粗糙度（Ra)优选为I. 5~5nm的范围内的值。
[0036] 通过这样地构成，能够在所得硬质涂膜的表面获得微细的凹凸，能够适宜地防止 硬质涂膜彼此的粘连。
[0037] 另外，如果硬质涂层的表面的算术平均粗糙度为这种范围内的值，则能够获得具 有优异光学特性的硬质涂膜。
[0038] 另外，本发明的其它方式是在上述硬质涂膜的至少单面具备透明导电层的透明导 电性膜。
[0039] 即，通过这样地使用耐粘连性优异且与透明导电层的密合性优异的硬质涂膜，从 而不需要使用保护膜来防止膜彼此的粘连，且能够获得耐久性优异的透明导电性膜。
[0040] 另外，本发明的另一个其他方式是电容触控面板，其包含具备防玻璃飞散膜的盖 板玻璃、第一透明导电性膜、第二透明导电性膜、以及液晶显示体，该电容触控面板的特征 在于，第一透明导电性膜和第二透明导电性膜或者任一者在具有硬质涂层的硬质涂膜的硬 质涂层上具备透明导电层，该硬质涂膜在基材膜的至少单面具备硬质涂层，硬质涂层由至 少包含（A)能量射线固化性树脂、（B)疏水化硅溶胶、以及（C)有机硅系流平剂的硬质涂层 形成材料的固化物构成，（B)疏水化硅溶胶集中于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层 的与基材膜相反的表面侧，在从硬质涂膜的最表面起至5nm的位置为止的区域中，相对于 利用深度方向的XPS分析测定的碳原子、氧原子、硅原子的总量（lOOatom%)，硅原子浓度为 0· 2~L 95atom%范围内的值。
[0041] 即，只要是使用了在形成有表面层（导电层）时具有良好的粘接性和耐粘连性的硬 质涂膜上具备透明导电层的透明导电性膜的电容触控面板，则能够获得耐久性优异的电容 触控面板。
[0042] 另外，本发明的其它方式是硬质涂膜的制造方法，所述硬质涂膜在基材膜的至少 单面具备硬质涂层，该制造方法的特征在于，包括下述工序（1) ~ (3)。
[0043] (1)准备硬质涂层形成材料的工序，所述硬质涂层形成材料至少包含（A)能量射线 固化性树脂、（B)疏水化硅溶胶、以及（C)有机硅系流平剂； (2) 将硬质涂层形成材料涂布于基材膜的至少单面的工序； (3) 使硬质涂层形成材料固化，从而形成具备硬质涂层的硬质涂膜的工序，所述硬质涂 层中，（B)疏水化硅溶胶集中于使硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反的 表面侧，在从硬质涂膜的最表面起至5nm的位置为止的区域中，相对于利用深度方向的XPS 分析测定的碳原子、氧原子、娃原子的总量（lOOatom%)，娃原子浓度为0. 2~1. 95atom%范围 内的值。
[0044] 即，通过这样地实施，能够有效地制造二氧化硅颗粒集中地存在于基材膜的相反 表面侧的硬质涂膜。
[0045] 因此，即使在以辊对辊（Roll To Roll)来制造硬质涂膜的情况下，也能够有效地 防止硬质涂I旲彼此的贴合、能够提尚生广率。
【附图说明】
[0046] 图1 :图I (a) ~ (b)是供于说明本发