以上的组合。
[0141] 另外，优选使底漆层的厚度为0. 01~20 μπι的范围内的值。
[0142] 其原因在于，底漆层的厚度为不足0.01 μ m的值时，有时不会表现出底漆效果。另 一方面，底漆层的厚度为超过20 μ m的值时，在构成硬质涂膜的情况下，光透射性有时会降 低。
[0143] 因此，从底漆效果与光透射性之间的平衡变得更良好的观点出发，更优选使底漆 层的厚度为〇. l~15ym的范围内的值。
[0144] 3.硬质涂膜的特性 (1)硬质涂层的表面粗糙度 另外，图I (a)~ (b)中例示出的硬质涂层12、C的表面的根据JIS B 0601-1994测 定的算术平均粗糙度（Ra)优选为I. 5~5nm的范围内的值。
[0145] 其原因在于，所述算术平均粗糙度（Ra)为不足I. 5nm的值时，在卷取或重叠硬质 涂膜的情况下，有时难以防止相邻的硬质涂膜彼此贴合，即所谓的粘连。
[0146] 另一方面，是因为：算术平均粗糙度（Ra)为超过5nm的值时，有时光透射性会显著 降低。
[0147] 因此，硬质涂层的表面的算术平均粗糙度（Ra)更优选为2. 0~4nm的范围内的值、 进一步优选为2. 5~3. 5nm的范围内的值。
[0148] (2)硬质涂层的铅笔硬度 另外，图1的（a) ~ (b)中例示的硬质涂层的根据JIS K 5600-5-4测定的铅笔硬度优 选为HB以上。
[0149] 其原因在于，所述铅笔硬度为不足HB的值时，在用于电容触控面板的情况下，有 时耐划伤性变得不充分。
[0150] (3)硬质涂膜的雾度值 另外，图1的（a)~ (b)中例示的硬质涂膜20、2(Τ的根据JIS K 7105测定的雾度值优 选为1.0%以下的值。
[0151] 其原因在于，所述雾度值为超过1.0%的值时，在用于手机等的情况下，有时可见 液晶显示装置的显示变得模糊。
[0152] [第二实施方式] 第二实施方式是硬质涂膜的制造方法，其为在基材膜的至少单面具备硬质涂层的硬质 涂膜的制造方法，其特征在于，该制造方法包括下述工序（I) ~ (3)。
[0153] (1)准备硬质涂层形成材料的工序，所述硬质涂层形成材料至少包含（A)能量射线 固化性树脂、（B)疏水化硅溶胶、以及（C)有机硅系流平剂； (2) 将硬质涂层形成材料涂布于基材膜的至少单面的工序； (3) 使硬质涂层形成材料固化，从而形成具备硬质涂层的硬质涂膜的工序，所述硬质涂 层中，（B)疏水化硅溶胶集中于使硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反的 表面侧，在从硬质涂膜的最表面起至5nm的位置为止的区域中，相对于利用深度方向的XPS 分析测定的碳原子、氧原子、娃原子的总量（lOOatom%)，娃原子浓度为0. 2~1. 95atom%范围 内的值。
[0154] 以下，对于所使用的基材膜和硬质涂层，由于可以为与第一实施方式相同的内容， 因此以硬质涂膜的制造方法的相关事项为中心进行说明。
[0155] (1)工序1 :硬质涂层形成材料的准备工序 工序（1)为准备硬质涂层形成材料的工序，所述硬质涂层形成材料至少包含（A)能量 射线固化性树脂、（B )疏水化硅溶胶、以及（C)有机硅系流平剂。
[0156] 更具体而言，是将前述的硬质涂层形成材料与稀释溶剂均匀混合的工序。
[0157] 作为溶剂，可列举出例如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、戊醇、乙基 溶纤剂、苯、甲苯、二甲苯、乙苯、环己烷、乙基环己烷、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲基乙基酮、甲 基异丁基酮、环己酮、四氢呋喃、丙二醇单甲基醚和水等，也可以组合两种以上的溶剂。
[0158] 尤其是，由于能够容易地溶解丙烯酸类单体等能量射线固化性树脂，因此优选使 用丙二醇单甲基醚、甲苯、甲基乙基酮、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、环己酮、甲醇、乙醇、正丙醇、 异丙醇、正丁醇、异丁醇、戊醇等。
[0159] 需要说明的是，规定的硬质涂层形成材料的构成如上所述，因而省略。
[0160] (2)工序2 :硬质涂层形成材料对基材膜的涂布工序 工序（2)是将硬质涂层形成材料涂布于基材膜的至少单面的工序。
[0161] 更具体而言，是准备基材膜10,并在其上将工序（1)中制备的硬质涂层形成材料 以固化后的硬质涂层的膜厚达到1~1〇 μm的范围内的值的方式进行涂布的工序。
[0162] 需要说明的是，对于硬质涂层形成材料的涂布方法，没有特别限定，可以使用公知 的方法、例如棒涂法、凹版涂布法、刀涂法、辊涂法、板涂法、模涂法等。
[0163] (3)工序3 :硬质涂层形成材料的固化和硬质涂膜形成工序 工序（3)是使前述硬质涂层形成材料固化，从而形成硬质涂膜的工序，所述硬质涂膜 中，（B)疏水化硅溶胶集中于硬质涂层的与基材膜相反的表面侧，且在从硬质涂膜的最表面 起至5nm的位置为止的区域中，相对于利用深度方向的XPS分析测定的碳原子、氧原子、硅 原子的总量（lOOatom%)，娃原子浓度为0. 2~1. 95atom%范围内的值。
[0164] 更具体而言，优选的是，对经由干燥工序而使溶剂蒸发了的硬质涂层形成材料的 涂布物照射能量射线、例如紫外线或电子射线而使其固化。
[0165] 这样地实施时，能够迅速地形成硬质涂层，同时能够与基材膜牢固地密合。
[0166] 另外，能够使疏水化硅溶胶有效地集中于硬质涂层的与基材膜相反的表面侧。
[0167] 进而，能够使有机硅系流平剂集中于最表面、易于将最表面的硅原子浓度调整至 上述范围。
[0168] 因此，能够提高硬质涂层的机械强度，并且有效地防止硬质涂膜彼此的粘连且能 够提尚进一步层萱导电层等时的粘接性。
[0169] 另外，优选的是，在形成硬质涂层时，例如在照射紫外线的情况下，使对硬质涂层 形成材料的照射量(累积光量）为l〇〇~l〇〇〇mJ/cm 2的范围内的值。
[0170] 其原因在于，所述紫外线照射量为不足lOOmJ/cm2的值时，有时硬质涂层的固化变 得不充分。
[0171] 另一方面，是因为：所述紫外线照射量为超过lOOOmJ/cm2的值时，有时硬质涂层和 基材膜会因为紫外线而劣化。
[0172] 需要说明的是，对于要使用的能量射线照射装置的种类没有特别限定，例如可以 使用利用了高压汞灯、氙灯、金属卤化物灯、FUSION H灯等的紫外线照射装置等。
[0173] (4)工序4 :基材膜的另外的面上的硬质涂层形成工序 工序（4)是在基材膜的两面具备硬质涂层的硬质涂膜的制造中采用的工序。
[0174] 更具体而言，是如图I (a)所示那样在基材膜10的一个表面形成硬质涂层12后， 在基材膜的另外的面上形成硬质涂层12'的工序。
[0175] 即，是在前述基材膜的一个表面上形成硬质涂层后，利用同样的方法在基材膜的 另外的面上涂布硬质涂层形成材料并进行固化，从而在基材膜的两面形成硬质涂层的工 序。
[0176] 需要说明的是，涂布工序、固化工序与前述相同，因此省略详情。
[0177] [第三实施方式] 第三实施方式是在前述硬质涂膜的至少单面具备透明导电层的透明导电性膜。
[0178] 以下，以与第一实施方式和第二实施方式中所述内容不同的部分为中心，参照附 图，对透明导电性膜进行具体说明。
[0179] 即，本发明的透明导电性膜是如图4 (a)所示那样在硬质涂膜20的至少单面具备 透明导电层30的透明导电性膜40。
[0180] 另外，使用了本发明的硬质涂膜的透明导电性膜由于耐粘连性优异，因此不需要 使用用于防止膜彼此粘连的保护膜，也不需要用于贴合保护膜的粘合剂。
[0181] 因此，能够得到生产率高且廉价的透明导电膜。
[0182] 进而，由于硬质涂膜与透明导电层的密合性优异，因此能够得到耐久性优异的透 明导电膜。
[0183] (1)透明导电层 作为构成本发明的透明导电层的材料，只要是透明导电层的550nm下的可见光线透 射率为70%以上，就没有特别限定，可列举出例如铂、金、银、铜等金属；石墨烯、碳纳米管 等碳材料；聚苯胺、聚乙炔、聚噻吩、聚对苯乙炔、聚乙烯二氧噻吩、聚吡咯等有机导电材 料；碘化酮、硫化酮等无机导电性材料；硫族化物（chal cogeni de )、六硼化镧、氮化钛、碳化 钛等非氧化化合物；氧化锌、二氧化锌、镓掺杂氧化锌、铝掺杂氧化锌、氧化锌掺杂氧化铟 (ΙΖ0)、氧化锡、氧化铟、氧化镉、锡掺杂氧化铟（ΙΤ0)、锡和镓掺杂氧化铟（IGZ0)、氟掺杂氧 化铟、锑掺杂氧化锡、氟掺杂氧化锡（FTO)等导电性金属氧化物等。
[0184] 这些之中，从能够更简便地获得具有优异的透明导电性的透明导电性膜的观点出 发，优选导电性金属氧化物。
[0185] (2)形成方法 透明导电层可以利用以往公知的方法来形成。可列举出例如溅射法、离子镀法、真空蒸 镀法、化学气相沉积法、棒涂法或微型凹版涂布法等涂布方法等。
[0186] 这些之中，从能够简便地形成透明导电层的观点出发，优选溅射法。
[0187] (3)厚度 透明导电层的厚度优选为5nm~500nm的范围内的值、更优选为5~200nm的范围内的值、 进一步优选为l〇~l〇〇nm的范围内的值。
[0188] (4)图案化 可以对所形成的透明导电层如图4 (b)所示那样地根据需要进行图案化30、作为图 案化的方法，可列举出基于光刻法等的化学蚀刻、使用了激光等的物理蚀刻、使用了掩膜的 真空蒸镀法或派射法、剥离法（lift off method)、印刷法等。
[0189] [第四实施方式] 第四实施方式是电容触控面板，其包含：具备防玻璃飞散膜的盖板玻璃、第一透明导电 性膜、第二透明导电性膜、以及液晶显示体；该电容触控面板的特征在于，第一透明导电性 膜和第二透明导电性膜或者任一者在具有硬质涂层的硬质涂膜的硬质涂层上具备透明导 电层，该硬质涂膜在基材膜的至少单面具备硬质涂层，硬质涂层由至少包含（A)能量射线 固化性树脂、（B)疏水化硅溶胶、以及（C)有机硅系流平剂的硬质涂层形成材料的固化物构 成，（B)疏水化硅溶胶集中于将硬质涂层形成材料固化后的硬质涂层的与基材膜相反的表 面侧，在从硬质涂膜的最表面起至5nm的位置为止的区域中，相对于利用深度方向的XPS分 析测定的碳原子、氧原子、娃原子的总量（lOOatom%)，娃原子浓度为0. 2~1. 95atom%范围内 的值。
[0190] 以下，以与第一实施方式~第三实施方式中所述内容不同的部分为中心，参照附 图，对电容触控面板进行具体说明。
[0191] 即，作为电容触控面板的基本构成，没有特别限定。可列举出例如电容触控面板 100是如图5所示那样在液晶显示装置70上经由光学用粘合剂50而层叠有具备硬质