无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及材料化学技术领域，具体涉及一种无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法。
【背景技术】
[0002]我国涂料工业历史悠久，生产量和消费量均处于世界领先地位，发展前景广阔，正在逐渐成为国民经济新的增长点。早期发现美国、日本、韩国有一些陶瓷涂料方面的研究、报道，但在其国内市场未见到相关产品。自20世纪90年代以来，我国从事涂料研发的一些单位，开始注重采用溶胶一凝胶技术研发无机/有机复合涂料、纳米超导粉体材料、高温耐蚀涂料等，无机水性纳米陶瓷涂料亦属于其中的一种。纳米陶瓷涂料虽然在国内已出现多年，同时也有了一些合资企业和民营企业进行了产业化，但是发展速度还是相对缓慢，尤其是对无机水性纳米陶瓷涂料的研究很少。原因除了技术实力与国外企业有一定的差距外，目前价格较高，机械性不能不优，以及大家对它的认知较少也是重要的原因。
[0003]随着我国国民经济的快速发展，开放程度的逐渐提高，资源的日趋紧张，以及人们对身体健康和环境保护的重视，无机水性纳米陶瓷涂料在我国正面临着良好的发展机遇。
【发明内容】
[0004]本发明旨在针对上述问题，提出一种无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法。
[0005]本发明的技术方案在于:
无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法，包括以下步骤:
(1)将分散剂溶于去离子水中，加入分散剂、润湿剂后低速搅拌下混合均匀；
(2)在(I)中加入滑石粉、钛白粉、碳酸钙和高岭土并在搅拌机下高速搅拌，此过程为制楽.;
(3)将树脂与固化剂、成膜助剂混合，高速搅拌机下搅拌，此过程为制料；
(4)将制浆和制料混合，在高速搅拌机下搅拌后磨细；
(5)在搅拌过程中加入助剂；
(6)静置24h。
[0006]所述的分散剂为318分散剂。
[0007]所述的成膜助剂为硅烷偶联剂KH-550。
[0008]所述的添加的钛白粉:滑石粉:碳酸钙:高岭土为的配比为1.5:1:2.5:0.5。
[0009]所述的加入的助剂为分散剂、消泡剂、增稠剂以及流平剂其中的一种或几种的混合物。
[0010]本发明的技术效果在于:
本发明操作步骤简单，通过本发明制备的无机水性纳米陶瓷涂料效果优良，成分稳定。
【具体实施方式】
[0011]无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法，包括以下步骤:
(1)将分散剂溶于去离子水中，加入分散剂、润湿剂后低速搅拌下混合均匀；
(2)在(I)中加入滑石粉、钛白粉、碳酸钙和高岭土并在搅拌机下高速搅拌，此过程为制楽.;
(3)将树脂与固化剂、成膜助剂混合，高速搅拌机下搅拌，此过程为制料；
(4)将制浆和制料混合，在高速搅拌机下搅拌后磨细；
(5)在搅拌过程中加入助剂；
(6)静置24ho
[0012]其中，分散剂为318分散剂。成膜助剂为硅烷偶联剂KH-550。添加的钛白粉:滑石粉:碳酸钙:高岭土为的配比为1.5:1:2.5:0.5。加入的助剂为分散剂、消泡剂、增稠剂以及流平剂其中的一种或几种的混合物。
【主权项】
1.无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法，其特征在于:包括以下步骤: (1)将分散剂溶于去离子水中，加入分散剂、润湿剂后低速搅拌下混合均匀； (2)在(I)中加入滑石粉、钛白粉、碳酸钙和高岭土并在搅拌机下高速搅拌，此过程为制楽.; (3)将树脂与固化剂、成膜助剂混合，高速搅拌机下搅拌，此过程为制料； (4)将制浆和制料混合，在高速搅拌机下搅拌后磨细； (5)在搅拌过程中加入助剂； (6)静置24ho2.根据权利要求1所述的无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法，其特征在于:所述的分散剂为318分散剂。3.根据权利要求1所述的无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法，其特征在于:所述的成膜助剂为硅烷偶联剂KH-550。4.根据权利要求1所述的无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法，其特征在于:所述的添加的钛白粉:滑石粉:碳酸钙:高岭土为的配比为1.5:1:2.5:0.5。5.根据权利要求1所述的无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法，其特征在于:所述的加入的助剂为分散剂、消泡剂、增稠剂以及流平剂其中的一种或几种的混合物。
【专利摘要】本发明涉及材料化学技术领域，具体涉及一种无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法。无机水性纳米陶瓷涂料的制备方法，包括以下步骤：(1)将分散剂溶于去离子水中，加入分散剂、润湿剂后低速搅拌下混合均匀；(2)在(1)中加入滑石粉、钛白粉、碳酸钙和高岭土并在搅拌机下高速搅拌，此过程为制浆；(3)将树脂与固化剂、成膜助剂混合，高速搅拌机下搅拌，此过程为制料；(4)将制浆和制料混合，在高速搅拌机下搅拌后磨细；(5)在搅拌过程中加入助剂；(6)静置24h。本发明操作步骤简单，通过本发明制备的无机水性纳米陶瓷涂料效果优良，成分稳定。
【IPC分类】C09D7/12, C09D1/00
【公开号】CN105566954
【申请号】CN201510850628
【发明人】郝青
【申请人】陕西环珂生物科技有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2015年11月30日