一种连续诱导齿的制作方法

文档序号:13957935阅读:345来源:国知局
一种连续诱导齿的制作方法

本发明涉及机械技术领域,具体涉及一种连续诱导齿。



背景技术:

履带是由主动轮驱动围绕着主动轮、负重轮、诱导轮和拖带轮的柔性链环。履带的张紧程度对坦克行驶和履带寿命有较大影响,履带的过紧或着过松对履带来说都不好。履带由履带板和履带销等组成,履带板的两端有孔,与主动轮啮合,中部有诱导齿,用来归正履带,并防止坦克转向或侧倾行驶时履带脱落。

现有的技术中,诱导齿在使用的过程中容易受到草或者其他带状物缠绕,从而导致履带收无法正常的运行。同时诱导齿受到的横向力比较集中,其与防脱机构中的导齿槽配合承受的横向力有限,使得履带所能承受力受到限制。

如何才能够解决由于诱导齿受草或者其他带状物的缠绕,保证诱导正常的工作,并能增强诱导齿所能承受的横向力是本发明将要解决的问题。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种连续诱导齿,用以解决现有技术中诱导齿所能承受的横向力有限。以及解决诱导齿容易受到受到草或者其他带状物缠绕,影响履带正常运行的问题。

为实现上述目的,本发明提供的一种连续诱导齿。具体地,所述的连续诱导齿包括齿体、侧筋条、齿根。齿体和齿根通过侧筋条进行连接,且侧筋条的宽度长于齿体和齿根。连续诱导齿的主要作用是配合导齿槽约束履带的横向位移,消除相邻诱导齿间的空隙,消除杂物带来的卡滞,降低单个诱导齿所受横向力。

所述的齿体设置在连续诱导齿轮的上部,齿体中心位置上设置有一个通孔。左右两侧设置有两个交叠区,两交叠区分别设置在左后表面和右前表面。交叠区的高度与齿体的高度相同。所述的通孔为一个圆孔。

所述的齿体还可以是顶端设置有一个圆孔,中心位置设置有一个通孔。左右两侧设置有两个交叠区,两交叠区分别设置在左后表面和右前表面。交叠区高度低于齿体高度。所述通孔长边垂直交叠区的跑道状通孔。

所述的侧筋条,连接齿体与齿根,其宽度大于齿体与齿根。

所述的齿根,设置在连续诱导齿的下部。齿根前后两个表面分别设置有两个隼柱。相邻诱导齿可交叠移动以消除齿间空隙同时可将所受横向力分散到相邻诱导齿,可彻底消除杂物落入诱导齿空隙造成的卡滞,与防脱结构中的导齿槽配合能承受更大的横向力。

本发明方法具有如下优点:消除相邻诱导齿间的空隙,消除杂物带来的卡滞,配合导齿槽约束履带的横向位移,降低单个诱导齿所受横向力。

附图说明

图1为本发明优选结构的立体图示意图。

图2为本发明后视图的示意图。

具体实施方式

以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。

连续诱导齿包括齿体1、侧筋条2、齿根3。齿体1和齿根3通过侧筋条2进行连接,且侧筋条2的宽度长于齿体1和齿根2。连续诱导齿的主要作用是配合导齿槽约束履带的横向位移,消除相邻诱导齿间的空隙,消除杂物带来的卡滞,降低单个诱导齿所受横向力。

实施例1

如图1所示,连续诱导齿的齿体1设置在连续诱导齿轮的上部,齿体中心位置上设置有一个通孔101。左右两侧设置有两个交叠区102,两交叠区102分别设置在左后表面和右前表面。齿体1的高度与交叠区102的高度相同。侧筋条2连接齿体1与齿根2,其宽度大于齿体1的宽度和齿根2的宽度。齿根3设置在连续诱导齿的下部,齿根前后两个表面分别设置有两个隼柱301。

在使用状态下,连续诱导齿的齿根3上的隼柱301榫接到履带板的榫孔,形成一个履带单链。然后将形成的履带单链依次连接。此时每一个履带单链上的连续诱导齿的交叠区102依次配合。相邻的诱导齿之间可交叠移动,通过交叠移动可以消除连续诱导齿之间的空隙。同时还可以将每一个连续诱导齿所受的横向力分散到相邻诱导齿上。可彻底消除杂物落入诱导齿空隙造成的卡滞,与防脱结构中的导齿槽配合能承受更大的横向力。

实施例2

如图2所示,连续诱导齿的齿体1顶端设置有一个圆孔,中心位置设置有一个通孔101。左右两侧设置有两个交叠区102,两交叠区102分别设置在左后表面和右前表面。交叠区102高度低于齿体1的高度。所述通孔101长边垂直交叠区的跑道状通孔。侧筋条2连接齿体1与齿根2,其宽度大于齿体1的宽度和齿根2的宽度。齿根3设置在连续诱导齿的下部,齿根前后两个表面分别设置有两个隼柱301。

在使用状态下,连续诱导齿的齿根3上的隼柱301榫接到履带板的榫孔,形成一个履带单链。然后将形成的履带单链依次连接。此时每一个履带单链上的连续诱导齿的交叠区102依次配合。相邻的诱导齿之间可交叠移动,通过交叠移动可以消除连续诱导齿之间的空隙。同时还可以将每一个连续诱导齿所受的横向力分散到相邻诱导齿上。可彻底消除杂物落入诱导齿空隙造成的卡滞,与防脱结构中的导齿槽配合能承受更大的横向力。

虽然,上文中已经用一般性说明及具体实施例对本发明作了详尽的描述,但在本发明基础上,可以对之作一些修改或改进,这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此,在不偏离本发明精神的基础上所做的这些修改或改进,均属于本发明要求保护的范围。

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