一种自洁滚子履带的制作方法

本发明涉及机械技术领域，具体涉及一种自洁滚子履带。

背景技术：

履带是由主动轮驱动围绕着主动轮、负重轮、诱导轮和拖带轮的柔性链环。由于履带式车辆在行驶的环境多为比较恶劣的环境下行驶的，因此在恶劣的环境下履带上容易粘上泥土、缠绕到草或者其他带状物。当履带上有太多的杂物时，就会影响其无法正常的行驶。甚至影响履带的使用寿命。

现有的技术中，履带上无专门清洁装置。这使得在恶劣环境下，履带长时间的工作会使得履带上附着很多的杂物。如何才能够让长时间在恶劣环境下行驶的履带能及时清除杂物，不受恶劣环境的影响是本发明将要解决的问题。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种自洁滚子履带，用以解决履带在行驶中由于杂物的缠绕而影响正常行驶的问题。

为实现上述目的，本发明提供一种自洁滚子履带，滚子履带由多个单节履带依次连接构成。具体地，自洁滚子履带包括：诱导齿、履带销、履带板、清洁刮板、滚轮。通过一个诱导齿、一个履带销、一个履带板、两个清洁刮板以及两个滚轮组成一个单节履带。

所述的履带板，设置有榫孔、单销耳、双销耳。履带板上表面是光滑的滚道面，与其对应的下表面为网格状挂胶面。

所述的榫孔设置在履带板的侧面，其个数为两个，作用是与诱导齿的隼柱进行榫接，形成单节履带。

所述的双销耳设置在分体式履带板体的前表面，其前表面呈现凹槽状。双销耳的用是通过和履带销以及单销耳将两个履带板体连接在一起。

所述的单销耳设置在履带板体后表面，其后表面呈现凸起状。单销耳的作用是通过和履带销以及双销耳将两个履带板连接在一起。

所述的诱导齿轮，由齿体、齿根构成。主要作用是配合导齿槽约束履带的横向位移，消除相邻诱导齿轮间的空隙，消除杂物带来的卡滞，降低单个诱导齿所受横向力。

所述的齿体设置在诱导齿轮的上部，齿体的中心位置设置有一个通孔。左右两侧设置有两个交叠区，两交叠区分别设置在左后表面和右前表面。

所述的齿根，设置在齿体的下部。齿根前后两个表面分别设置有两个隼柱。齿根的顶部与设置有侧筋条。相邻诱导齿可交叠移动以消除齿间空隙同时可将所受横向力分散到相邻诱导齿，可彻底消除杂物落入诱导齿空隙造成的卡滞，与防脱结构中的导齿槽配合能承受更大的横向力。

所述的履带销为圆柱体金属长销，在金属长销的两端分别设置有锥形环槽。在实际地使用过程中，履带销分别穿过一个履带板的单销耳和另一个履带板的双销耳实现两个履带板的连接。

所述的滚轮为一个圆柱体轮子，通过履带销连接在履带板上。滚轮可绕履带销回转。

所述的清洁刮板为垂直梯形状，底边为锋利刮口。清洁刮板设置在履带板的上表面。在履带车的行驶过程中，当有杂物，如杂草、泥土等杂物缠绕或粘在履带上时，清洁板可通过其

本发明方法具有如下优点：能够让履带车上的履带长时间在恶劣环境下行驶时，履带上的杂物能及时的清除，保证履带的使用不受恶劣环境的影响。

附图说明

图1为自洁滚子履带局部的示意图。

图2为诱导齿轮的示意图。

图3为履带板体示意图。

具体实施方式

以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

自洁滚子履带包括：诱导齿轮1、履带板2、履带销3、清洁刮板4、滚轮5。通过一个诱导1、一个履带板2、一个履带销3、两个清洁刮板4以及两个滚轮5组成一个单节履带。多个单节履带连接构成自洁滚子履带。

诱导齿1，由齿体101、齿根102，齿体101设置在连续诱导齿轮1的上部，齿体101的中心位置设置有一个用通孔。左右两侧设置有两个交叠区105，两交叠区105分别设置在左后表面和右前表面。齿根102设置在齿体的下部。齿根102前后两个表面分别设置有两个隼柱103。齿根102的顶部与设置有侧筋条104。

履带板2，设置有榫孔201、单销耳202、双销耳203。履带板2上表面是光滑的滚道面，与其对应的下表面为网格状挂胶面。榫孔201设置在履带板2的侧面，其个数为两个。单销耳201设置在履带板体的后表面，其后表面呈现凸起状。双销耳203设置在履带板2的前表面，其前表面呈现凹槽状。

履带销3为圆柱体金属长销，在金属长销的两端分别设置有锥形环槽。清洁刮板4为垂直梯形状，底边为锋利刮口。清洁刮板设置在履带板的上表面。滚轮5为一个圆柱体轮子，通过履带销连接在履带板上。滚轮可绕履带销回转。

实施例

实际的使用过程中，诱导齿1的齿根102两侧的隼柱103与履带板2上的榫孔201进行榫接，并且在履带板2上设置清洁刮板4。从而形成一个单节履带。履带销3将履两个单节履带连接在一起，滚轮5设置在履带板的边部，与履带销连接在一起。在履带安装在履带车上行驶的过程中，清洁刮板4底边锋利刮口可以将履带上的附着物清除，起着清洁履带的作用。

虽然，上文中已经用一般性说明及具体实施例对本发明作了详尽的描述，但在本发明基础上，可以对之作一些修改或改进，这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此，在不偏离本发明精神的基础上所做的这些修改或改进，均属于本发明要求保护的范围。