1.一种灌装生产线用的动态缓冲平台，包括支架平台（1）、并列设置在支架平台（1）上端面且输送方向相反的第一存储输送带（2-1）和第二存储输送带（2-2）以及配套设置在上述两列存储输送带上方的缓冲区域调节装置，其特征在于：所述缓冲区域调节装置包括借助直线导向机构（3-1）和直线驱动机构（3-2）设置在上述两列存储输送带上方具有往复位移自由度的调节机构、用于测定调节机构位置的检测机构以及配套控制电路。
2.根据权利要求1所述的灌装生产线用的动态缓冲平台，其特征在于：所述直线导向机构（3-1）包括设置在第一存储输送带（2-1）侧部上方的直线导轨和配套滑块。
3.根据权利要求2所述的灌装生产线用的动态缓冲平台，其特征在于：所述调节机构（3-3）包括设置在直线导向机构（3-1）上的弧形导向板（3-3-1）、铰接在弧形导向板（3-3-1）自由端的开度板（3-3-2）以及设置在开度板（3-3-2）自由端的摩擦配重复位装置，所述摩擦配重复位装置与第二存储输送带（2-2）输送面接触配合，所述弧形导向板（3-3-1）定位在滑块上并借助直线驱动机构（3-2）沿直线导轨具有往复位移自由度。
4.根据权利要求3所述的灌装生产线用的动态缓冲平台，其特征在于：所述摩擦配重复位装置包括设置在开度板（3-3-2）自由端外侧的安装板（3-3-7）、套装在安装板（3-3-7）上且具有垂直向滑动自由度的导向杆（3-3-8）、设置在导向杆（3-3-8）下端的摩擦块（3-3-9）以及套装在导向杆（3-3-8）上并位于安装板（3-3-7）和摩擦块（3-3-9）的压缩弹簧（3-3-10），在安装板（3-3-7）上设有与摩擦块（3-3-9）配套的导向套（3-3-11）。
5.根据权利要求1所述的灌装生产线用的动态缓冲平台，其特征在于：所述检测机构为借助支架分别设置在第一存储输送带（2-1）末端和第二存储输送带起始端的两组激光测距传感器，所述两组激光测距传感器分别用来测定弧形导向板（3-3-1）和开度板（3-3-2）的位置。
6.根据权利要求1所述的灌装生产线用的动态缓冲平台，其特征在于：在第一存储输送带（2-1）前、后两端的侧部分别设有用于限位弧形导向板（3-3-1）移动区域的限位传感器Ⅰ（3-3-5）和限位传感器Ⅱ（3-3-6）。
7.根据权利要求1所述的灌装生产线用的动态缓冲平台，其特征在于：在第二存储输送带（2-2）上还设置有与缓冲区域调节装置配合的输送导向板（3-4）。