专利名称：干燥基板的方法和使用该方法制造图像显示装置的方法
技术领域：
本发明涉及一种通过将气体吹送到基板上来干燥基板的方法和制造图像显示装置的方法，特别地涉及一种使用气刀来干燥基板的方法。
背景技术：
在例如平板显示器的图像显示装置中，由抗蚀剂膜形成玻璃基板上的电路图案等。在抗蚀剂膜形成之后，有必要对抗蚀剂膜进行诸如显影的化学液体处理，在化学液体处理之后通过使用冲洗水(纯水)冲洗基板，然后干燥基板。对于基板的一系列处理通常是当在一个室中通过诸如辊传送器的移动单元移动基板的同时进行，所述处理包括化学液体处理、冲洗和干燥。日本专利申请公开No. 2003-133217公开了气刀通常被使用来干燥基板，干燥空气通过气刀被同时吹送到基板的上表面和下表面上，从而将冲洗水从基板的表面吹掉并移除，气刀由一对上气刀和下气刀形成，气刀的布置和空气的流速应该严格垂直对称。在上述一系列处理中，放置基板，以使得其上形成有抗蚀剂图案的表面变为上表面。已知的是，当基板被干燥时，如果干燥空气被太强烈地吹送到基板的上表面上，则发生抗蚀剂图案的破坏，日本专利申请公开No. 2007-149987公开了这样一种技术，该技术吹送干燥空气，然后吹送热空气到基板上来结束干燥，以防止抗蚀剂图案的破坏。日本专利申请公开No. 2007-144314公开了一种通过设计喷嘴的形状来用少量空气干燥基板的技术。以下将参照附图对上述的抗蚀剂图案的破坏现象进行描述。图IOA和IOB示意性地示出当通过使用气刀将干燥空气吹送到基板上时发生的抗蚀剂图案破坏的状态。图 IOA是从基板的上侧观看的基板的平面图(plan view)，图IOB是从横向方向观看的基板的侧视图。抗蚀剂表面难溶层9的剥离发生在与从气刀供给的空气的方向相同的方向上， 剥离部分9a沉积在抗蚀剂图案8上以形成条带形缺陷10。抗蚀剂表面难溶层9是指这样的层，即，由于由未曝光抗蚀剂的表面与显影剂(例如TMAH(四甲基氢氧化铵)的水溶液) 接触而引起的树脂和感光剂的偶氮偶合反应，而导致未曝光抗蚀剂的表面变为在TMAH的水溶液中难溶。已知的是，抗蚀剂表面难溶层9通常被形成为具有从抗蚀剂9b的表面起的 50-200nm的厚度。已知的是，当基板经过气刀时，条带形缺陷10仅发生在基板的端部区域3中。这里，基板的端部区域3是指就从基板的上表面(其上形成有抗蚀剂图案的表面)的顶侧的端部21测量的距离而言大约10-20mm的范围。当有效图案区域22存在于端部区域3中时， 如果这样的缺陷发生在有效图案区域22中，则缺陷导致引起产量的降低。这里，有效图案区域22是指这样的区域，在该区域中，具有固定厚度的抗蚀剂膜形成在基板的表面上并且可形成图案，有效图案区域22通常是指在距基板的端部固定距离的内侧中的区域。抗蚀剂膜的厚度在有效图案区域22的外侧不固定的原因包括当用旋涂法涂布抗蚀剂时基板的端部中的表面张力的影响和当用狭缝涂布法涂布抗蚀剂时涂布操作的开始时间和结束时间
4中的抽吸操作的不稳定性。条带形缺陷由冲洗液的雾与基板表面的碰撞形成，所述冲洗液的雾是在当用气刀干燥端部区域3时形成并经过了干燥空气。专利文档2和3中所述的方法难以防止基板的端部区域3中的抗蚀剂表面难溶层9剥离并再沉积到抗蚀剂图案8上，并且这些方法难以解决上述问题。本发明的目的是提供一种干燥基板的方法和制造图像显示装置的方法，所述干燥基板的方法可抑制条带形缺陷的发生，所述条带形缺陷由基板的端部区域中的、被吹送的气体剥离的抗蚀剂表面难溶层的再沉积形成。
发明内容
根据本发明的一方面，一种通过吹送气体来干燥基板的方法，所述基板在包括所述基板的上表面的端部区域在内的所述上表面上涂布有抗蚀剂，在抗蚀剂的表面上涂布有表面难溶层，然后被冲洗，所述方法包括以下步骤从位于虚拟平面上方的上吹送部分斜向下地将第一气流供给到基板上以用于干燥基板，所述虚拟平面包括位于基板的厚度中心的中心平面；从位于虚拟平面下方的下吹送部分斜向上地将第二气流供给到基板上以用于干燥基板，同时相对移动基板与上吹送部分和下吹送部分，以使得基板从作为基板的前面的端部区域经过上吹送部分与下吹送部分之间；和控制第一气流和第二气流，以使得第二气流在与所述虚拟平面垂直的向上方向上的速度分量比第一气流在与所述虚拟平面垂直的向下方向上的速度分量小。在干燥基板时，产生冲洗中所用的冲洗液的雾。通过控制第一气流和第二气流以使得第二气流在与所述虚拟平面垂直的向上方向上的速度分量比第一气流在向下方向上的速度分量小，从而抑制雾，以使其不朝向基板的上表面。因此，将减少通过组合气流流动的并与基板的端部区域碰撞的雾，从而抑制有效图案区域中的条带形缺陷的形成。根据本发明的其它实施例，控制第一气流和第二气流，以使得来自定位的上吹送部分的第一气流的方向与虚拟平面之间的第一角度比来自定位的下吹送部分的第二气流的方向与虚拟平面之间的第二角度大。根据本发明的另外的实施例，一种图像显示装置的制造方法包括以下步骤按照根据以上干燥方法的方法对涂布有抗蚀剂的基板进行干燥；根据对所述基板上的抗蚀剂的蚀刻来形成布线图案；和在所述布线图案上布置图像显示器件。根据本发明，可提供一种干燥基板的方法和制造图像显示装置的方法，所述干燥基板的方法可抑制条带形缺陷的发生，所述条带形缺陷由基板的端部区域中的、被吹送的气体剥离的抗蚀剂表面难溶层的再沉积形成。从以下参照附图对示例性实施例的描述，本发明的进一步的特征将变得清楚。
图IA和IB是示出抗蚀剂显影装置的构造的概念图。图2A、2B和2C是示出气刀的布置的平面图和侧视图。图3是示出当从气刀吹送的干燥空气的速度被设置为垂直不对称时的气流状态的视图。
图4是示出当从下侧气刀吹送的干燥空气的速度变化时的缺陷的长度的图表。图5是示出当由各个气刀形成与虚拟平面形成的角度被设置为垂直不对称时的气流状态的视图。图6是示出当第二角度变化时的缺陷的长度的图表。图7A和7B是示出当从上侧气刀吹送的干燥空气的速度和基板的输送速度变化时的缺陷的长度的图表。图8A和8B是示出图像显示器件的矩阵布线结构的视图。图9是示出在常规示例中的因从气刀供给的干燥空气而导致的气流的状态的视图。图IOA和IOB是在抗蚀剂膜的表面上出现的条带形缺陷的示意图。
具体实施例方式现在，将根据附图对本发明的优选实施例进行详细描述。以下将参照附图对根据本发明的干燥基板的方法的实施例进行描述。作为本发明的对象的基板可以是用于任何应用的任何基板，但是作为示例，包括用于在其中形成电子发射器件的平板型图像显示装置的玻璃基板。用于形成图案的抗蚀剂被涂布在基板的要形成图案的面(face)的整个表面上。抗蚀剂也涂布在端部区域上，所述端部区域是沿着基板的端部的带状区域，但是由于端部区域的膜厚度不稳定，所以端部区域不被用作用于在其中形成图案的区域。就在与端部垂直的方向上从端部测量的距离而言，端部区域的宽度为例如大约10-20mm。要涂布在基板上的抗蚀剂期望是包含作为主要成分的酚醛基树脂的正性抗蚀剂，并且涂布的抗蚀剂的膜厚度期望被设置为3 μ m或更小。保持基板的其上涂布有抗蚀剂的面在后面的步骤中向上。由于此，其上涂布有抗蚀剂的面导致成为基板的上表面。通过使用曝光设备将其上涂布有抗蚀剂的基板曝光，以在其上形成预定图案。将曝光的基板输送到抗蚀剂显影装置中，并对它进行显影、冲洗和干燥的每个步骤。图IA和 IB是示出抗蚀剂显影装置的构造的概念图，图IA是侧视图，图IB是气刀干燥容器(tank) 的部分放大图。抗蚀剂显影装置11包括显影处理容器12、冲洗容器13和用于干燥基板的气刀干燥容器14。当通过传送器15在抗蚀剂显影装置11的容器12-14的每个中朝向输送方向D输送基板1的同时，对基板1进行这些处理。具体地讲，在显影处理容器12中，通过碱性液体使抗蚀剂显影，并形成抗蚀剂表面难溶层。在冲洗容器13中，用纯水清洗掉余留在基板1上的化学液体(显影剂)。在气刀干燥容器14中，从气刀将干燥空气吹送到基板 1上，吹掉纯水，并干燥基板1。输送方向D通常与水平方向匹配。如图IB所示，在气刀干燥容器14的下游侧提供HEPA (高效微粒空气)过滤器16， 并在气刀干燥容器14的入口附近提供排气口 17。因此，使被HEPA过滤器过滤的清洁空气在气刀干燥容器14的内部从下游侧朝向上游侧前进，并且下游侧(HEPA过滤器侧)的压力被设置为更高。由此，防止被干燥空气吹掉的纯水的雾再沉积在已经被干燥的基板1上。图2A、2B和2C示出气刀的布置。图2A是平面图，图2B和2C是侧视图。图3是示出气流状态的视图。气刀2是上侧气刀加和下侧气刀2b的一对气刀。气刀2是通过长薄间隙喷出填充在内腔室中的压缩空气的设备，并且可适当地用于本发明。将位于基板1 的厚度中心的面定义为中心平面la，将包括中心平面Ia的平面定义为虚拟平面lb。上侧气刀加构成位于虚拟平面Ib上方的上吹送部分，并斜向下地将用于干燥基板1的第一气流4供给到基板1上。下侧气刀2b构成位于虚拟平面Ib下方的下吹送部分，并斜向上地将用于干燥基板1的第二气流5供给到基板1上。如图2B所示，上侧气刀加和下侧气刀2b相对于虚拟平面Ib垂直对称布置。换句话讲，上侧气刀加和下侧气刀2b被布置为分别离基板1的上表面Id和下表面Ie的距离相同。另外，由从上侧气刀加供给的第一气流4的方向与虚拟平面Ib形成的角度(以下称为第一角度θ 1)和由从下侧气刀2b供给的第二气流5的方向与虚拟平面Ib形成的角度(以下称为第二角度θ 2)彼此相等。气刀2被布置为相对于与基板1的输送方向D垂直的方向倾斜。气流的供给单元不限于气刀2，而可以是具有设在其中的多个孔(喷嘴)的管道等。干燥空气被用作用于干燥的气体，但是气体不限于干燥空气，只要气体可干燥基板1即可。在移动单元的传送器15输送基板1并且端部区域3朝前的同时，基板1经过上侧气刀加与下侧气刀2b之间。在图IA和IB的示例中，基板1从左移到右，但是抗蚀剂显影装置还可具有设在气刀2中的用以将基板从右移到左的移动单元。可采用任何移动方法， 只要基板1及上侧气刀加和下侧气刀2b可相对于彼此移动即可，并且基板1和气刀2这二者可同时移动。参照图3，第一气流4和第二气流5分别被斜向下和斜向上地吹送，并且当不存在使这些气流4和5彼此分离的障碍时，第一气流4和第二气流5于是在途中结合，形成组合气流6。因此，当基板前面If没有到达第一气流4和第二气流5结合在一起的结合点18 时，形成组合气流6，当基板前面If到达结合点18时，基板阻挡组合气流6的形成。当基板前面If经过结合点18时，第一气流4和第二气流5被基板1分离，并分别被吹送到基板1 的上表面Id和下表面Ie上。根据本发明，控制第一气流4和第二气流5，以使得当基板前面If到达第一气流4和第二气流5结合在一起的结合点18附近时，组合气流6在基板前面If的附近不具有与虚拟平面Ib垂直且向上的速度分量。为了实现这个条件，在本实施例中，将第二气流5的与虚拟平面Ib垂直的向上速度分量VU设置为比第一气流4的与虚拟平面Ib垂直的向下速度分量VD小。在本实施例中，第一角度θ 1和第二角度θ 2彼此相等，因此，通过将第二气流5的吹送流速V2设置为比第一气流4的吹送流速Vl小来满足这个条件。其结果是，朝向基板前面If的端部区域3 的组合气流6的方向被控制为不与虚拟平面Ib平行，而是倾斜到从上侧朝向下侧的方向。在常规示例中，如图9所示，上气刀和下气刀的布置及第一气流4和第二气流5的方向相对于虚拟平面Ib线性对称，第一气流4和第二气流5的速度彼此相等。因此，组合气流6的方向变为与虚拟平面Ib平行。由于此，在基板前面If处分支的朝向基板的上表面Id的气流和朝向基板的下表面Ie的气流导致具有几乎相同的空气量，并且当基板前面 If附近被干燥时形成的冲洗液的雾的大约一半朝向基板1的上侧。该雾依附于(ride on) 基板1的上侧的干燥空气，与基板1的上表面Id碰撞，并引入条带形缺陷。与此相反，在本实施例中，如图3所示，第一气流4从上侧气刀加供给，第二气流 5从下侧气刀2b供给，第一气流4和第二气流5结合形成组合气流6。当基板前面If到达第一气流4和第二气流5结合在一起的结合点18时，组合气流6在基板前面If处被分割为朝向基板1的上侧的气流7和朝向基板1的下侧的气流8。由于第二气流5的吹送流速V2比第一气流4的吹送流速Vl小，所以组合气流6不在与虚拟平面Ib平行的方向上流动， 而是倾斜到从上侧朝向下侧的方向。其结果是，气流7的空气量变得比气流8的空气量小， 并且当基板前面If附近被干燥时形成的冲洗液的雾抗拒朝向基板1的上表面Id。图4示出当第一气流4的吹送流速Vl固定为150米/秒并且第二气流5的吹送流速V2变化时形成的条带形缺陷的长度。V2 = 150米/秒的条件(黑色矩形所示的点) 对应于常规技术的条件。当V2相对于Vl降低时，条带形缺陷的长度变短，特别是当V1/V2 达到1. 3时，条带形缺陷的长度极大缩短。当条带形缺陷的长度变短时，缺陷本身变得无关紧要，剥离的抗蚀剂表面难溶层9停留在端部区域3中的可能性提高，并且剥离的抗蚀剂表面难溶层抗拒进入有效图案区域。另一方面，当V2小时，要供给到基板1的下表面的气流变得不足，因此，基板1的下表面抗拒被干燥。从以上描述可见，Vl与V2的比率V1/V2期望是1. 3或更大并且2. 0或更小。当V1/V2在这个范围内时，基板1的两个表面均可被充分地干燥，并且条带形缺陷的长度可被控制为充分短的值。为了实现上述条件，还可将第一角度θ 1设置为比第二角度θ 2大。由此，组合气流6的方向可被控制为不与虚拟平面Ib平行，而是倾斜到从上侧朝向下侧的方向。参照图 5，与图3类似，由第一气流4和第二气流5的结合而形成的组合气流6朝向基板前面If，并在基板前面If处被分割为朝向基板的上表面Id的气流7和朝向基板的下表面Ie的气流 8。这里，假设第一气流4的吹送流速和第二气流5的吹送流速彼此相等。由于第二气流5 的与虚拟平面Ib垂直的分量比第二气流4的与虚拟平面Ib垂直的分量小，所以组合气流 6不在与虚拟平面Ib平行的方向上流动，而是倾斜到从上侧朝向下侧的方向。其结果是， 在基板前面If处分支的、朝向基板1的上侧的气流7的空气量变得相对小，并且当基板前面If附近被干燥时形成的冲洗液的雾抗拒朝向基板1的上表面Id。另外，还可将第一角度 θ 1设置为比第二角度θ 2大，并且同时将第二气流5的吹送流速V2设置为比第一气流4 的吹送流速Vl小。图6示出当第一角度θ 1固定为60°、第二角度θ 2变化时形成的条带形缺陷的长度。θ 2 = 60°的条件(黑色矩形所示的点)对应于常规技术的条件。当第二角度θ 2 比第一角度θ 1小时，条带形缺陷的长度变短，当θ 2减小到45°时，条带形缺陷的长度极大地缩短。另一方面，当θ 2小时，由于将被供给到基板1的下表面的气流变得不足，所以基板1的下表面抗拒被干燥。从以上描述可见，第二角度θ 2理想是在40°或更大并且45° 或更小的范围中。当θ 2在这个范围内时，基板1的两个表面均可被充分地干燥，并且条带形缺陷的长度可被控制为足够短的值。如上所述，顺序地对基板1进行抗蚀剂涂布、曝光、显影、冲洗、干燥等步骤，在此之后还对基板1进一步进行诸如后烘干和蚀刻的各种处理。因此，为了有效率地进行这些步骤，理想情况是事先确定每个步骤所需的时间段(节拍时间)，并在该时间段内结束每个步骤。在干燥步骤中，以比预定值大的输送速度(相对于气刀的相对速度)在抗蚀剂显影装置11内部输送基板1，以满足该节拍时间。当节拍时间被设置为短时，必需增大基板1的输送速度，但是当输送速度大时，趋向于易于形成干燥斑点或者剩余水滴。如图7Α所示，当输送速度高时，条带形缺陷趋向于变长。从以上描述可见，理想情况是，选择节拍时间的上限(输送速度的下限)，以使其在干燥基板的步骤的节拍时间内，所述节拍时间由包括干燥步骤的基板的整个处理步骤指定。另外，理想情况是，选择节拍时间的下限(输送速度的上限)，以使得当基板完全经过上侧气刀加与下侧气刀2b之间时，基板1被完全干燥，而不在基板的表面上余留水滴。考虑以上描述，基板的输送速度可以在大约1.4-1. 9米/分钟的范围中。可任意设置第一气流4的吹送流速VI，但是如图7B所示，当Vl大时，条带形缺陷趋向于变长。另一方面，当Vi小时，将冲洗液的雾吹掉的力变弱，并且水滴趋向于易于余留在基板的上表面Id上。可将第一气流4的吹送流速Vl设置在135米/秒或更大并且165 米/秒或更小的范围中。(示例性实施例1)以下将参照特定的示例性实施例对本发明进行描述。由ASAHIGLASS CO.，LTD制造的玻璃基板1PD200(商品名称)被用作基板1。基板1具有长边长度为1，330mm、短边长度为794mm的矩形形状，并具有1. 8mm的厚度。由TOKYO OHKA KOGYO CO.，LTD制造的正性抗蚀剂TFR 1250PM(商品名称)被用作正性抗蚀剂。正性抗蚀剂的粘度为0. 013Pa · s,固体含量浓度为23%。在用纯水冲洗基板1并干燥基板1之后，用狭缝涂布法涂布正性抗蚀剂以使其具有13 μ m的涂布膜厚度。将已涂布的基板1放置在真空室中，将真空室减压到 13Pa,以对已涂布的基板1进行干燥，并通过在热板上以116°C对所得的已涂布的基板1进行加热来将所得的已涂布的基板1干燥10分钟。干燥之后的涂布膜的厚度为3 μ m。随后，对干燥的基板1进行显影处理，所述显影处理采用23°C温度的TMAH的 2. 38wt%水溶液作为化学液体(显影剂)。在图IA所示的显影处理容器12中，TMAH的水溶液在0. 15MI^压力下通过全锥形喷头喷洒到干燥的基板1的上表面上三分钟。摆动基板 1和喷头喷嘴，以使得喷头的击打力均勻地施加于基板的整个表面上。使用纯水对显影的基板1进行清洗处理。在图IA所示的冲洗容器13中，纯水在 0. 05MPa的压力下通过全锥形喷头喷洒到显影的基板1的上表面Id和下表面Ie上一分钟。随后，使用气刀2对已清洗的基板1进行干燥处理，气刀2由一对上气刀和下气刀形成。在图IA所示的气刀干燥容器14中，干燥空气被供给到已清洗的基板1的上表面Id 和下表面le，以吹掉纯水并干燥基板1。关于作为一对上气刀和下气刀的气刀2中的空气喷射口的形状，长度被设置为 900mm,宽度被设置为0. 1mm。要从上侧气刀加供给的空气的流速为800NL/分钟(1NL是等同于大气压力下0°C时的IL的体积)，要从上侧气刀加供给的气流的速度Vl为150米/ 秒。要从下侧气刀2b供给的空气的流速为500NL/分钟，要从下侧气刀2b供给的气流的速度V2为95米/秒。在图2A中，由与虚拟平面Ib平行的平面中与基板1的输送方向D垂直的方向与气刀2形成的角度被设置为20°。如图2B所示，当基板1经过上侧气刀加与下侧气2b之间时基板1与气刀2之间的距离被设置为3mm，并且由从上侧气刀加和下侧气刀2b喷射的空气的各个方向与虚拟平面Ib形成的第二角度θ 2被设置为60°。基板1 的输送速度被设置为1.6米/秒。在本示例性实施例中，在其中抗蚀剂涂布膜的厚度变得稳定的有效图案区域被控制为离基板1的端部距离为IOmm或更大的区域。从气刀2供给的干燥空气的组合气流6采取如图3所示的形式，气刀2为一对上气刀和下气刀。朝向基板前面If的组合气流6的速度矢量与虚拟平面Ib不平行，而是倾斜到从上侧朝向下侧的方向。由于此，与要从上侧气刀加和下侧气刀2b供给的空气的流速彼此相等的情况相比，与基板前面If碰撞之后朝向基板1的上侧的气流7减小。由此，冲洗液的雾减少，并且条带形缺陷的长度可减小到5mm，所述冲洗液的雾从基板前面If依附于基板1的上侧的干燥空气，并与基板的表面碰撞。这是比端部区域3的宽度(IOmm)小的值，并且有效图案区域中的条带形缺陷的发生可被抑制。(示例性实施例2)在示例性实施例2中，由气刀2和虚拟平面形成的角度被控制为垂直不对称，以使得朝向基板前面If的组合气流6的方向不与虚拟平面平行，而是倾斜到从上侧朝向下侧的方向。基板、涂布材料、涂布方法、显影剂、显影方法、冲洗液和冲洗方法与示例性实施例1 中的基板、涂布材料、涂布方法、显影剂、显影方法、冲洗液和冲洗方法类似。为了干燥已清洗的基板1，使用一对上气刀加和下气刀2b。在图IA所示的抗蚀剂显影装置11的气刀干燥容器14中，干燥空气被供给到已清洗的基板1的上表面Id和下表面le，以使得吹掉纯水并干燥基板。关于一对上气刀加和下气刀2b中的空气喷射口的形状，长度被设置为900mm，宽度被设置为0. 1mm。要从一对上气刀加和下气刀2b供给的空气的流速都被设置为800NL/ 分钟。如图2C所示，当清洗的基板1经过上侧气刀加与下侧气刀2b之间时基板1与气刀之间的距离被设置为3mm。如图2C所示，由从上侧气刀加喷射的空气的方向和虚拟平面 Ib形成的第一角度θ 1被设置为60°，由从下侧气刀2b喷射的空气的方向和虚拟平面Ib 形成的第二角度θ 2被设置为45°。基板1的输送速度被设置为1. 6米/分钟。在本示例性实施例中，其中抗蚀剂涂布膜的厚度变得稳定的有效图案区域被控制为离基板1的端部距离为IOmm或更大的区域。从一对上气刀加和下气刀2b供给的空气的组合气流6采取如图5所示的形式。 朝向基板前面If的组合气流6的矢量6不与虚拟平面Ib平行，而是倾斜到从上侧朝向下侧的方向。由于此，与分别由上气刀和下气刀与虚拟平面Ib形成的角度Θ1和Θ2彼此相等的情况相比，与基板前面If碰撞之后朝向基板1的上侧的气流7减小。由此，冲洗液的雾减少，条带形缺陷的长度可减小到10mm，所述冲洗液的雾从基板前面If依附于基板1的上侧中的干燥空气，并与基板的表面碰撞。这是与端部区域3的宽度相等的值，并且有效图案区域中的条带形缺陷的发生可被抑制。另外，气刀中的空气喷射口的形状、上侧的喷射空气的量、基板输送速度和由气刀与虚拟平面形成的角度不限于示例性实施例1和2所示的值，而是可根据作为干燥对象的基板的尺寸和表面状态而适当地改变。(示例性实施例3)在示例性实施例3中，通过使用干燥基板1的方法来制造图像显示装置。图8A和 8B是基板的平面图，该平面图示出具有矩阵结构的布线，图8A是整个平面图，图8B是部分放大图。当制造图像显示装置时，必需形成具有如图8A所示的矩阵结构的布线19。在本示例性实施例中，如图8B所示，直到离基板的端部距离为IOmm的位置处，才形成布线，其中形成布线的区域被确定为有效图案区域。由ASAHI GLASS CO.，LTD制造的玻璃基板PD200 (商品名称)被用作基板1。基板1具有长边长度为1，330mm、短边长度为794mm的矩形形状，并具有1. 8mm的厚度。作为基板1上的布线材料形成金属膜。在此之后，在其上形成有金属膜的基板1
10上涂布抗蚀剂。所用材料、涂布方法和干燥方法被设置为与示例性实施例1类似的所用材料、涂布方法和干燥方法。通过使用合适的掩模将其上涂布有抗蚀剂的基板1曝光，并在抗蚀剂中形成潜像。掩模仅在离基板的端部距离为IOmm或更远的部分中具有图案，在离基板的端部IOmm或更近内的范围中不形成图案。曝光量被设置为70mJ/cm2。对曝光的基板1进行显影处理和清洗处理。所用材料、显影方法和清洗方法被设置为与示例性实施例1类似的所用材料、显影方法和清洗方法。用一对上气刀加和下气刀2b来干燥显影的且清洗的基板1。气刀的构造和条件被设置为与示例性实施例1类似的构造和条件。因用气刀进行干燥而导致的条带形缺陷没有出现在布线图案中，所述布线图案形成在离基板的端部距离为IOmm或更远的部分中。在热板上将干燥的基板1加热到120°C，并对干燥的基板1进行后烘干处理5分钟。用合适的方法对后烘干的基板1进行蚀刻，用合适的方法剥离抗蚀剂，并可形成期望的布线图案。通过将该布线图案与图像显示器件组合来构造图像显示装置。由于上述过程，当形成抗蚀剂图案时，有效图案区域中的条带形缺陷的发生被抑制，并可形成期望的高质量的布线图案。通过将在其中缺陷发生被抑制的布线图案与图像显示器件组合，可制造与常规的图像显示装置的质量相比更高质量的图像显示装置。尽管已参照示例性实施例对本发明进行了描述，但是将理解本发明不限于所公开的示例性实施例。将给予以下权利要求的范围以最广泛的解释，以涵盖所有这样的修改及等同的结构和功能。
1权利要求
1.一种通过吹送气体来干燥基板的方法，所述基板在包括所述基板的上表面的端部区域在内的所述上表面上涂布有抗蚀剂，在抗蚀剂的表面上涂布有表面难溶层，然后被冲洗， 所述方法包括以下步骤从位于虚拟平面上方的上吹送部分斜向下地将第一气流供给到基板上以用于干燥基板，所述虚拟平面包括位于基板的厚度中心的中心平面；从位于虚拟平面下方的下吹送部分斜向上地将第二气流供给到基板上以用于干燥基板，同时相对移动基板与上吹送部分和下吹送部分，以使得基板从作为基板的前面的端部区域经过上吹送部分与下吹送部分之间；和控制第一气流和第二气流，以使得第二气流在与所述虚拟平面垂直的向上方向上的速度分量比第一气流的在与所述虚拟平面垂直的向下方向上的速度分量小。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述上吹送部分处的第一气流的吹送流速与所述下吹送部分处的第二气流的吹送流速的比率大于1.3且小于2.0。
3.—种通过吹送气体来干燥基板的方法，所述基板在包括所述基板的上表面的端部区域在内的所述上表面上涂布有抗蚀剂，在抗蚀剂的表面上涂布有表面难溶层，然后被冲洗， 所述方法包括以下步骤从位于虚拟平面上方的上吹送部分斜向下地将第一气流供给到基板上以用于干燥基板，所述虚拟平面包括位于基板的厚度中心的中心平面；从位于虚拟平面下方的下吹送部分斜向上地将第二气流供给到基板上以用于干燥基板，同时相对移动基板与上吹送部分和下吹送部分，以使得基板从作为基板的前面的端部区域经过上吹送部分与下吹送部分之间；和控制第一气流和第二气流，以使得来自定位的上吹送部分的第一气流的方向与虚拟平面之间的第一角度比来自定位的下吹送部分的第二气流的方向与虚拟平面之间的第二角度大。
4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述第一角度为60度，所述第二角度大于40度且小于45度。
5.根据权利要求1-4中的任何一个所述的方法，其中，供给第一气流和第二气流，以使得当基板的前面到达第一气流和第二气流结合在一起的点附近时，第一气流和第二气流的组合气流在基板的前面附近的位置处不具有在与虚拟平面垂直的向上方向上的速度分量。
6.根据权利要求1-4中的任何一个所述的方法，第一气流的流速为135 165米/秒。
7.根据权利要求1-4中的任何一个所述的方法，其中，上吹送部分具有供给第一气流的气刀，下吹送部分具有供给第二气流的气刀。
8.根据权利要求1-4中的任何一个所述的方法，其中，相对移动基板与上吹送部分和下吹送部分的速度被设置为比预定速度大，以使得在基板完全经过上吹送部分与下吹送部分之间之后没有水滴余留在基板的表面上。
9.一种图像显示装置的制造方法，包括以下步骤按照根据权利要求1-4中的任何一个所述的方法干燥涂布有抗蚀剂的基板；根据对基板上的抗蚀剂的蚀刻来形成布线图案；和在布线图案上布置图像显示器件。
全文摘要
本申请涉及干燥基板的方法和使用该方法制造图像显示装置的方法。该干燥基板的方法包括斜向下地将第一气流(4)供给到基板上；斜向上地将第二气流5供给到基板上，同时相对地移动基板及上吹送部分和下吹送部分，以使得基板从作为基板的前面的端部区域经过上吹送部分与下吹送部分之间；控制第一气流和第二气流，以使得第二气流在与虚拟平面垂直的向上方向上的速度分量比第一气流在与虚拟平面垂直的向下方向上的速度分量小。
文档编号F26B21/00GK102435051SQ201110264490
公开日2012年5月2日 申请日期2011年9月8日 优先权日2010年9月9日
发明者内海一成 申请人:佳能株式会社