空气净化消毒有害气体累积处理机组的制作方法

文档序号:22525054发布日期:2020-10-17 01:09阅读:77来源:国知局
空气净化消毒有害气体累积处理机组的制作方法

本实用新型属于空气处理设备技术领域,具体涉及应用于特殊环境下辐射和有害气体累积、净化机组。



背景技术:

在特殊环境中,存在γ射线、x射线、α射线和β射线,氡气,tvoc,细菌病毒,颗粒物和化学腐蚀性气态污染物。如果长期在这种环境中工作,需要对各种有害气体及射线的强度进行检测。如超出人体可承受范围和数据中心、调度中心、变电站空气质量安全范围,需要对环境进行治理。保护人员和设备环境安全。



技术实现要素:

本实用新型就是针对上述问题,提供一种针对室内人员密集场所及数据中心空气污染,保护数据中心设备安全运行环境,以及工作人员身体健康的空气净化处理机组。

为了实现本实用新型的上述目的,本实用新型采用如下技术方案,本实用新型包括立式机柜,机柜底部一侧为进风口,机柜顶部一侧为出风口,机柜内由下至上依次设置有进风段、第一初效过滤器、光催化段、风机、第二化学过滤器、高效过滤器和出风段,其特征在于:所述进风口处设置有门板,门板上设置有气孔,门板内相应于气孔设置有抽屉;抽屉内设置有气体检测试剂块;所述门板表面设置有安装夹管,安装夹管内设置有辐射累积检测块。

作为本实用新型的一种优选方案,所述机柜底部设置有行走轮。

作为本实用新型的另一种优选方案,所述光催化段包括光催化网和紫外灯。

作为本实用新型的第三种优选方案,所述门板上端和下端均设置有转轴,所述机柜上位于出风口上方设置有弧形的下卡槽,下卡槽与转轴相配合。

进一步的,所述下卡槽上方设置有上卡槽,上卡槽也与转轴相配合,上卡槽和下卡槽之间的距离与门板上下两端的转轴距离相同。

作为本实用新型的第四种优选方案,所述进风段内设置有与进风口平行的气流通道,气流通道通过弯管与一开口向上的风罩相连;所述气孔为。

作为本实用新型的第五种优选方案,所述进风口处设置有滤网。

作为本实用新型的第六种优选方案,所述机柜内相对于光催化段的紫外灯设置有原位芬顿氧化层。

进一步的,所述原位芬顿氧化层为高比表面和多孔结构的g-c3n4-fe3+高岭石材料层,高岭石材料层与第一光催化段的紫外线灯对应,第一光催化段的紫外线灯另一侧为光催化网。

本实用新型的有益效果:本实用新型的门板上设置了辐射累积检测块和气体检测试剂块,可对环境中的各种射线、特殊气体(如放射性气体等)进行累积检测,在累积一定时间后,对辐射累积检测块和气体检测试剂块进行处理,得出室内辐射强度和特殊气体浓度,如超出标准,则可对环境进行整改。

本实用新型通过纳米光催化网及化学过滤器和紫外灯的配合,形成光触媒消毒,化学过滤净化模式,通过催化过滤性能,可将空气中的细菌病毒及气态污染物颗粒物过滤催化分解。

本实用新型通过设置上卡槽和下卡槽,需要检测特殊气体含量时,可将门板上端转轴与下卡槽配合,将门板与进风口对应,气体经过门板上的气孔和气体检测试剂块可实现检测特殊气体含量的功能;不需要检测特殊气体含量时,可将门板安装到上卡槽和下卡槽之间,能提升进风量,提高空气净化效果;同时,也不影响对辐射的累积检测。

本实用新型采用光催化驱动原位芬顿催化材料g-c3n4-fe3+高岭石材料模块,可以富集吸附气溶胶,配合紫外线灯,进行光催化反应,实现气溶胶中病原微生物(细菌、病毒和真菌等)强氧化快速消毒。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是门板的结构示意图。

附图中1为行走轮、2为进风口、3为门板、4为气流通道、5为下卡槽、6为进风段、7为上卡槽、8为第一初效过滤器、9为纳米光催化网、10为紫外灯、11为风机、12为机柜、13为化学过滤器14为高效过滤器、15为出风段、16为出风口、17为安装夹管、18为转轴、19为气体检测试剂块、20为抽屉、21为气孔。

具体实施方式

本实用新型包括立式机柜12,机柜12底部一侧为进风口2,机柜12顶部一侧为出风口16,机柜12内由下至上依次设置有进风段6、第一初效过滤器8、光催化段、风机11、第二化学过滤器13、高效过滤器14和出风段15,其特征在于:所述进风口2处设置有门板3,门板3上设置有气孔21,门板3内相应于气孔21设置有抽屉20;抽屉20内设置有气体检测试剂块19;所述门板3表面设置有安装夹管17,安装夹管17内设置有辐射累积检测块。

作为本实用新型的一种优选方案,所述机柜12底部设置有行走轮1。

作为本实用新型的另一种优选方案,所述光催化段包括光催化网9和紫外灯10。

作为本实用新型的第三种优选方案,所述门板3上端和下端均设置有转轴18,所述机柜12上位于出风口16上方设置有弧形的下卡槽5,下卡槽5与转轴18相配合。

进一步的,所述下卡槽5上方设置有上卡槽7,上卡槽7也与转轴18相配合,上卡槽7和下卡槽5之间的距离与门板3上下两端的转轴18距离相同。

作为本实用新型的第四种优选方案,所述进风段6内设置有与进风口2平行的气流通道4,气流通道4通过弯管与一开口向上的风罩相连;所述气孔21为。

作为本实用新型的第五种优选方案,所述进风口2处设置有滤网。

作为本实用新型的第六种优选方案,所述机柜内相对于光催化段的紫外灯设置有原位芬顿氧化层。

进一步的,所述原位芬顿氧化层为高比表面和多孔结构的g-c3n4-fe3+高岭石材料层,高岭石材料层与第一光催化段的紫外线灯对应,第一光催化段的紫外线灯另一侧为光催化网。

所述门板3上的气孔21呈矩阵均匀排布,与气流通道4配合下,形成均匀风压,保证气体检测试剂块19的检测精度。

所述辐射累积检测块为热释光材料,如lif:mg,ti、lif:mg,cu,p、li2b4o7、caso4:mn、beo等。电离辐射会在热释光材料中引起电子和空穴能级占据情况变化和晶格结构变化,即探测器材料以这种方式将吸收的能量储存起来;当热释光探测器被加热时会以光的形式将所储存的能量释放出来,通过测量光信号便可得到探测器所吸收的辐射剂量信息。

所述气体检测试剂块19,在使用一定时间后,取出,在实验室中对气体检测试剂块19进行化学蚀刻、核径迹分析与测读,最后出具测量结果。如特殊气体(如氡气等)含量超标,则需对环境进行整改。

可以理解的是,以上关于本实用新型的具体描述,仅用于说明本实用新型而并非受限于本实用新型实施例所描述的技术方案,本领域的普通技术人员应当理解,仍然可以对本实用新型进行修改或等同替换,以达到相同的技术效果;只要满足使用需要,都在本实用新型的保护范围之内。



技术特征:

1.空气净化消毒有害气体累积处理机组,包括立式机柜(12),机柜(12)底部一侧为进风口(2),机柜(12)顶部一侧为出风口(16),机柜(12)内由下至上依次设置有进风段(6)、第一初效过滤器(8)、光催化段、风机(11)、第二化学过滤器(13)、高效过滤器(14)和出风段(15),其特征在于:所述进风口(2)处设置有门板(3),门板(3)上设置有气孔(21),门板(3)内相应于气孔(21)设置有抽屉(20);抽屉(20)内设置有气体检测试剂块(19);所述门板(3)表面设置有安装夹管(17),安装夹管(17)内设置有辐射累积检测块。

2.根据权利要求1所述的空气净化消毒有害气体累积处理机组,其特征在于:所述机柜(12)底部设置有行走轮(1)。

3.根据权利要求1所述的空气净化消毒有害气体累积处理机组,其特征在于:所述光催化段包括光催化网(9)和紫外灯(10)。

4.根据权利要求1所述的空气净化消毒有害气体累积处理机组,其特征在于:所述门板(3)上端和下端均设置有转轴(18),所述机柜(12)上位于出风口(16)上方设置有弧形的下卡槽(5),下卡槽(5)与转轴(18)相配合。

5.根据权利要求4所述的空气净化消毒有害气体累积处理机组,其特征在于:所述下卡槽(5)上方设置有上卡槽(7),上卡槽(7)也与转轴(18)相配合,上卡槽(7)和下卡槽(5)之间的距离与门板(3)上下两端的转轴(18)距离相同。

6.根据权利要求1所述的空气净化消毒有害气体累积处理机组,其特征在于:所述进风段(6)内设置有与进风口(2)平行的气流通道(4),气流通道(4)通过弯管与一开口向上的风罩相连;所述气孔(21)为。

7.根据权利要求1所述的空气净化消毒有害气体累积处理机组,其特征在于:所述进风口(2)处设置有滤网。

8.根据权利要求1所述的空气净化消毒有害气体累积处理机组,其特征在于:所述机柜内相对于光催化段的紫外灯设置有原位芬顿氧化层。

9.根据权利要求8所述的空气净化消毒有害气体累积处理机组,其特征在于:所述原位芬顿氧化层为高比表面和多孔结构的g-c3n4-fe3+高岭石材料层,高岭石材料层与第一光催化段的紫外线灯对应,第一光催化段的紫外线灯另一侧为光催化网。


技术总结
空气净化消毒有害气体累积处理机组属于空气处理设备技术领域,具体涉及应用于特殊环境下辐射和有害气体累积、净化机组。本实用新型提供一种针对室内人员密集场所及数据中心空气污染,保护数据中心设备安全运行环境,以及工作人员身体健康的空气净化处理机组。本实用新型包括立式机柜,机柜底部一侧为进风口,机柜顶部一侧为出风口,机柜内由下至上依次设置有进风段、第一初效过滤器、光催化段、风机、第二化学过滤器、高效过滤器和出风段,其特征在于:所述进风口处设置有门板,门板上设置有气孔,门板内相应于气孔设置有抽屉;抽屉内设置有气体检测试剂块;所述门板表面设置有安装夹管,安装夹管内设置有辐射累积检测块。

技术研发人员:任航;姜建中;王戎;吕芳
受保护的技术使用者:中国人民解放军军事科学院国防工程研究院;紫生高科(北京)科技有限公司
技术研发日:2020.02.27
技术公布日:2020.10.16
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