一种淋浴水温的二级调节装置的制造方法

文档序号:8221334阅读:298来源:国知局
一种淋浴水温的二级调节装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明专利是属于温度控制领域,具体涉及一种淋浴水温的二级调节装置。
【背景技术】
[0002]当前大众澡堂的淋浴用水采用的方法是:由锅炉或其它加热方法将冷水加热到50-70°C的高温存储到热水箱内。而实际人淋浴时的水温在40°C左右。一般的淋浴水温调节方法是:由操作者根据淋浴水箱的水温往水箱加热水和冷水。当淋浴水温高时往淋浴水箱进冷水,当淋浴水温低时加热水。加热水或冷水的主要依据是淋浴水箱的温度显示器显示的温度。另一种方法是利用温度控制仪表实现自动往淋浴水箱里加冷水和热。这两种方法的缺点是:由于淋浴水箱的体积较大,温度显示存在很大的滞后。加入热水或冷水后,需要一段时间,才能真正显示实际混合后的温度。由于冷热水不均,洗浴过程中出现过冷或过热的现象。如果想水温合适,需要放掉部份淋浴水后,才能恢复正常水温。造成浪费大量的热水,这样就增加了运营成本。同时,由于需要人工不停的往淋浴水箱加水,给操作者带来很大的劳动强度。

【发明内容】

[0003]为了解决现有的淋浴水混合装置存在较大的温度误差,本发明的目的是提供了一种淋浴水温的二级调节装置,能够实现淋浴水温的自动调节,保证了淋浴水温的稳定和准确。
[0004]为实现上述目的,本发明采用技术方案是:
[0005]一种淋浴水温的二级调节装置,包括:热水箱、一级混水箱、二级混水箱、电磁阀组、热水温度传感器、混合水温度传感器、淋浴水温度传感器、逆止阀、淋浴头;所述热水箱的入口与热水源连接,出口通过管路与一级混水箱热水入口连接;所述一级混水箱一端设有热水入口和冷水入口,另一端设有混合水出口 ;一级混水箱的冷水入口通过管路上设有的电磁阀组、逆止阀与冷水源连接;二级混水箱的入口通过管路与一级混水箱的混合水出口连接,出口通过管路与多个淋浴头连接。一级混水箱内部设有多个挡板,相邻挡板交错布置,使一级混水箱内部的水流呈W形流出。
[0006]本发明的有益效果是:
[0007]1、本发明具有冷水由电磁阀组进入一级混水箱,控制箱控制电磁阀组中的电磁阀的打开数量,从而控制冷水的进水量。冷水的进水量逐级增加或减少,使水温平稳变化。另外冷水和热水同时进入小体积的一级混水箱,有效减小温度变化的滞后性。从而增加控制箱的反映速度。
[0008]2、本发明一级混水箱出来的水,再进入二级混水箱。使冷水和热水更充分的混合搅拌,达到合适的淋浴水温,以供淋浴使用。
[0009]3、本发明可大大降低人工劳动强度,减少人力的支出。淋浴头出水水温稳定准确,增加浴客洗浴时的舒适度。同时因为淋浴出水稳定准确,不需要放掉过热或过冷的水,也节约了大量的能源消耗,降低了成本。
【附图说明】
[0010]图1为本发明的整体结构示意图之一。
[0011]图2为本发明的整体结构示意图之二。
[0012]图3为一级混水箱俯视图。
[0013]图4为图3的A-A剖面图。
【具体实施方式】
[0014]下面结合说明书附图对本发明进一步说明。
[0015]一种淋浴水温的二级调节装置,包括:热水箱1、一级混水箱2、二级混水箱3、电磁阀组5、热水温度传感器6、混合水温度传感器7、淋浴水温度传感器8、逆止阀9、淋浴头10 ;
[0016]所述热水箱I的入口与热水源连接,出口通过管路与一级混水箱2热水入口 203连接;
[0017]所述一级混水箱2 —端设有热水入口 203和冷水入口 201,另一端设有混合水出口202 ;
[0018]一级混水箱2的冷水入口 201通过管路上设有的电磁阀组5、逆止阀9与冷水源连接;
[0019]二级混水箱3的入口通过管路与一级混水箱2的混合水出口 202连接,出口通过管路与多个淋浴头10连接。
[0020]一级混水箱2内部设有多个挡板,导热好的金属材质,如铝片或铜片,相邻挡板交错布置,使一级混水箱2内部的水流呈W形流出。
[0021 ] 所述一级混水箱2的体积小于1/2 二级混水箱3的体积。
[0022]所述电磁阀组5与逆止阀9之间的管路上设有冷水加压泵11。
[0023]一级混水箱2上部还设有排气孔205。
[0024]所述热水箱I为方形结构,其内设置有热水温度传感器6。
[0025]所述一级混水箱2为椭圆形结构,其上部冷热水进水口端开设有混合水温度传感器安装孔204,并设置有混合水温度传感器7。
[0026]二级混水箱3内设有淋浴水温度传感器8 ;
[0027]所述热水温度传感器6、混合水温度传感器7、淋浴水温度传感器8与外部控制器4连接,电磁阀组5与控制器4连接,为市购产品,详见百度百科。
[0028]下面结合具体实施案例对本发明作进一步的说明。为了更好地说明本发明的实施例,附图中某些公知部件会有省略和缩放,并不代表实际尺寸。
[0029]案例一
[0030]如图1所示,本发明的热水箱I内的热水由锅炉或其它方式加热提供,水的温度在50-700C,电磁阀组5内由多组电磁阀组成,一级混水箱2为小体积封闭式水箱,其体积小于0.075m3ο如图3所示,一级混水箱2外部留有热水入口 203、冷水入口 201、混合水出口 202、混合水温度传感器安装孔204。一级混水箱2的热水入口 203和冷水入口 201位于水箱的同一侧,其中冷水入口 201位于一级混水箱2的上方。而混合水出口 202位于另一侧,混合水温度传感器安装孔204位于热水和冷水的交汇处,混合水温度传感器7安装于此孔内,用于测量进入一级混水箱2的热水和冷水混合后的温度。一级混水箱2内部含有若干档板,如图4所示,档板可以增强水箱的承压能力,还可以使冷水和热水在水箱内充公搅动混合。
[0031]控制箱器可以设定淋浴水温度,同时电磁阀组5也受控于控制器4。两个逆止阀9的作用是防止因为冷热水的压力不等造成的水倒流。
[0032]热水由热水箱I直接流入一级混水箱2中,而进入一级混水箱2的冷水由电磁阀组5控制。控制器4根据热水温度、淋浴水温、混合水温、设定温度来控制电磁阀组5中电磁阀打开的数量,从而控制冷水进入一级混水箱2的流量。冷水和热水在小体积的一级混水箱2内初步混合搅伴。由于体积较小温度反映速度快,易实现快速调节。初期混合后的水由一级混水箱2出去进入大体积的二级混水箱3进行充分混合。二级混水箱的体积较大,注入少量的新水对水温的影响较小,有利益淋浴水温的稳定。从二级混水箱3出来的水即为设定温度的水。如果设定温度在40°C左右,可以直接进入淋浴头10供人们洗浴。
[0033]案例二如图2所示,与案例一的区别是在冷水的来源处增加加压泵11。在系统中由于热水是直接进入一级混水箱2,而冷水需要通过电磁阀组5的控制才能进入一级混水箱2。所以就要求冷水的压力大于热水的压力,冷水才能进入一级混水箱2。在一般的安装环境自来水的压力要大于热水的压力,所以就不需要安装加压泵11。在有些场合冷水可能来自冷水箱,这时就需要加压泵11 了。
【主权项】
1.一种淋浴水温的二级调节装置,其特征在于: 包括:热水箱(I)、一级混水箱(2)、二级混水箱(3)、电磁阀组(5)、热水温度传感器(6)、混合水温度传感器(7)、淋浴水温度传感器(8)、逆止阀(9)、淋浴头(10); 所述热水箱(I)的入口与热水源连接,出口通过管路与一级混水箱(2)热水入口(203)连接; 所述一级混水箱(2) —端设有热水入口(203)和冷水入口(201),另一端设有混合水出P (202); 一级混水箱(2)的冷水入口(201)通过管路上设有的电磁阀组(5)、逆止阀(9)与冷水源连接; 二级混水箱(3)的入口通过管路与一级混水箱(2)的混合水出口(202)连接,出口通过管路与多个淋浴头(10)连接。
2.根据权利要求1所述的一种淋浴水温的二级调节装置,其特征在于: 一级混水箱(2)内部设有多个挡板,相邻挡板交错布置,使一级混水箱(2)内部的水流呈W形流出。
3.根据权利要求1所述的一种淋浴水温的二级调节装置,其特征在于: 所述一级混水箱(2)的体积小于1/2 二级混水箱(3)的体积。
4.根据权利要求1所述的一种淋浴水温的二级调节装置,其特征在于: 所述电磁阀组(5)与逆止阀(9)之间的管路上设有冷水加压泵(11)。
5.根据权利要求1所述的一种淋浴水温的二级调节装置,其特征在于: 一级混水箱(2)上部还设有排气孔(205)。
6.根据权利要求1所述的一种淋浴水温的二级调节装置,其特征在于: 所述热水箱(I)为方形结构,其内设置有热水温度传感器(6)。
7.根据权利要求1所述的一种淋浴水温的二级调节装置,其特征在于: 所述一级混水箱(2)为椭圆形结构,其上部冷热水进水口端开设有混合水温度传感器安装孔(204),并设置有混合水温度传感器(7)。
8.根据权利要求1所述的一种淋浴水温的二级调节装置,其特征在于: 二级混水箱(3)内设有淋浴水温度传感器(8)。
【专利摘要】本发明公开一种淋浴水温的二级调节装置,包括:热水箱、一级混水箱、二级混水箱、电磁阀组、热水温度传感器、混合水温度传感器、淋浴水温度传感器、逆止阀、淋浴头;所述热水箱的入口与热水源连接,出口通过管路与一级混水箱热水入口连接;所述一级混水箱一端设有热水入口和冷水入口,另一端设有混合水出口;一级混水箱的冷水入口通过管路上设有的电磁阀组、逆止阀与冷水源连接;二级混水箱的入口通过管路与一级混水箱的混合水出口连接,出口通过管路与多个淋浴头连接。本发明可大大降低人工劳动强度,减少人力的支出。同时因为淋浴出水稳定准确,不需要放掉过热或过冷的水,也节约了大量的能源消耗,降低了成本。
【IPC分类】F16K11-00, F24H9-20
【公开号】CN104534677
【申请号】CN201410729354
【发明人】宋颖
【申请人】丹东惠凯感应器有限责任公司
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2014年12月4日
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