真空炉改进结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种真空炉改进结构。
【背景技术】
[0002]现有的真空炉炉体上的进气孔开设在炉体的两侧，气体的走向如图1所示，该结构的炉体，在气体流量设定时，哪怕气体流量设定再大在设备中间位置的气体量都偏少，导致部品的一致性很差，不同位置层与层气体渗透量不一致，影响制品烧结后尺寸，影响最终产品质量。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型针对上述问题，提供一种真空炉改进结构，改善炉体内气体循环走向，解决制品烧结后设备不同位置层与层收缩尺寸一致性差的问题，使其整炉部品烧结后尺寸波动减小，提尚良品率。
[0004]为此，本实用新型采取如下技术方案，真空炉改进结构，包括炉体，炉体内呈上下设置多个放料板，上下相邻的放料板之间形成间隔通道，其特征在于所述的炉体内设置多个引流门板，所述的引流门板相对一侧的炉体上开有进气孔，所述的引流门板上正对间隔通道处开有导流孔。
[0005]所述的引流门板设置在炉体内的两侧，所述的进气孔设置在临近引流门板的位置。
[0006]所述的进气孔在炉体的每一侧开有两个，上方和下方各一个，且正对设置。
[0007]所述的进气孔开设在炉体的中部上方，所述的引流门板分设在中部引流孔的两侧。
[0008]本实用新型通过增加带进气孔的引流门板，使其炉内每一层都有气体且气体循环更加均匀。大大减少了气体的使用量同时进气的效果也有效改善，降低了生产成本，提高了成品质量。
【附图说明】
[0009]图1为原有炉体内气体走向的结构示意图。
[0010]图2为本实用新型的气体走向的结构示意图。
[0011]图3为本实用新型另一种机构的气体走向的结构示意图。
【具体实施方式】
[0012]下面结合具体实施例，进一步阐述本实用新型。
[0013]实施例1:如图2所示的真空炉改进结构，包括炉体4，炉体4内呈上下设置多个放料板3，上下相邻的放料板4之间形成间隔通道，引流门板I设置在炉体内的两侧，进气孔2设置在临近引流门板的位置，上方和下方各一个，且正对设置，引流门板上正对间隔通道处开有导流孔。
[0014]实施例2:如图3所示，进气孔2仅开设在炉体4的中部上方，引流门板I分设在中部引流孔的两侧。
[0015]应理解，这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围。此外应理解，在阅读了本实用新型讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本实用新型作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
【主权项】
1.真空炉改进结构，包括炉体，炉体内呈上下设置多个放料板，上下相邻的放料板之间形成间隔通道，其特征在于所述的炉体内设置多个引流门板，所述的引流门板相对一侧的炉体上开有进气孔，所述的引流门板上正对间隔通道处开有导流孔。2.根据权利要求1所述的真空炉改进结构，其特征在于所述的引流门板设置在炉体内的两侧，所述的进气孔设置在临近引流门板的位置。3.根据权利要求2所述的真空炉改进结构，其特征在于所述的进气孔在炉体的每一侧开有两个，上方和下方各一个，且正对设置。4.根据权利要求1所述的真空炉改进结构，其特征在于所述的进气孔开设在炉体的中部上方，所述的引流门板分设在中部引流孔的两侧。
【专利摘要】本实用新型涉及一种真空炉改进结构。现有的真空炉炉体在气体流量设定时，哪怕气体流量设定再大在设备中间位置的气体量都偏少，导致部品的一致性很差，不同位置层与层气体渗透量不一致，影响制品烧结后尺寸。本实用新型包括炉体，炉体内呈上下设置多个放料板，上下相邻的放料板之间形成间隔通道，其特征在于所述的炉体内设置多个引流门板，所述的引流门板相对一侧的炉体上开有进气孔，所述的引流门板上正对间隔通道处开有导流孔。本实用新型通过增加带进气孔的引流门板，使其炉内毎一层都有气体且气体循环更加均匀。大大减少了气体的使用量同时进气的效果也有效改善，降低了生产成本，提高了成品质量。
【IPC分类】F27B5/16, F27B5/05
【公开号】CN204718366
【申请号】CN201520407114
【发明人】唐群
【申请人】杭州铭赫科技有限公司
【公开日】2015年10月21日
【申请日】2015年6月12日